FIメイングループ/ファセット選択

B01D1/00	蒸発（固体材料または物体から液体を除去することによる乾燥Ｆ２６Ｂ）		HB	CC	4D076

B01D3/00	蒸留またはそれに関連する液体がガス状媒質と接触するプロセス，例．ストリッピング［２］		HB	CC	4D076

B01D5/00	蒸気の凝縮；凝縮による揮発性溶剤の回収（Ｂ０１Ｄ８／００が優先；凝縮器Ｆ２８Ｂ）［３］		HB	CC	4D076

B01D7/00	昇華（Ｂ０１Ｄ８／００が優先；凍結乾燥Ｆ２６）		HB	CC	4D076

B01D8/00	コールドトラップ；コールドバッフル［３］		HB	CC	4D076

B01D9/00	晶析（気相から直接の晶出Ｂ０１Ｄ７／０２；単結晶の製造Ｃ３０Ｂ）		HB	CC	4D055

B01D11/00	溶剤抽出		HB	CC	4D056

B01D12/00	液体の置換，例．湿潤固体，液体の分散質または液体中の固体から液体を他の液体により置換すること		HB	CC	4D056

B01D15/00	固体吸着剤による液体の処理を含む分離方法；その装置［４］		HB	CC	4D017

B01D17/00	他に適当な分類のない液体の分離，例．熱拡散によるもの		HB	CC	4D014

B01D19/00	液体の脱気		HB	CC	4D011

B01D21/00	沈でんによる液体から懸濁固体粒子の分離（差別沈降Ｂ０３Ｄ３／００）		HB	CC	4D005

B01D23/00	重力ろ過機（運動するろ過体を有するもの，３３／１８）		HB	CC	4D116

B01D25/00	複数のろ過体またはその種のろ過体からなるろ過要素をいくつか締結して構成したろ過機		HB	CC	4D116

B01D27/00	カートリッジろ過機		HB	CC	4D116

B01D29/00	ろ過操作の間静止しているろ過体を有する，その他の加圧または吸引ろ過機		HB	CC	4D116

B01D33/00	ろ過操作中運動するろ過体を有するろ過機（遠心ろ過機Ｂ０４Ｂ）		HB	CC	4D116

B01D35/00	その他のろ過装置；ろ過操作のための付属装置（ろ過材３９／００；気体をろ過するために用いられる特殊な装置４６／００）		HB	CC	4D116

B01D36/00	ろ過系統またはろ過装置と他の分離装置との組み合せ（ガス除去用装置，例．空気抜きシステムＢ０１Ｄ３５／０１；ろ過機と組み合わされた磁気または静電分離機Ｂ０３Ｃ）［４，５］		HB	CC	4D116

B01D37/00	ろ過工程（ガスをろ過するのに特に適したプロセス４６／００）		HB	CC	4D116

B01D39/00	液体またはガス状流体用ろ過材		HB	CC	4D019

B01D41/00	液体またはガス状流体用ろ過装置外でのろ過材またはろ過体の再生		HB	CC	4D019



B01D43/00	沈でんまたはろ過とは別の方法による液体からの固定粒子または固体からの液体の分離（浮遊選別法Ｂ０３Ｄ１／００；固体材料または物体の乾燥Ｆ２６Ｂ）		HB	CC	4D069

ガスまたは蒸気からの分散粒子の分離
B01D45/00	重力，慣性力または遠心力による，ガスまたは蒸気からの分散粒子の分離		HB	CC	4D031

B01D46/00	ガスまたは蒸気から分散粒子を分離するために特に改良されたろ過機またはろ過工程（ろ過体Ｂ０１Ｄ２４／００～Ｂ０１Ｄ３５／００；ろ過材Ｂ０１Ｄ３９／００；ろ過装置外でのそれらの再生Ｂ０１Ｄ４１／００）［２０２２．０１］		HB	CC	4D058

B01D47/00	分離剤として液体を用いる，ガス，空気あるいは蒸気からの分散粒子の分離（Ｂ０１Ｄ４５／１０が優先；分留塔またはその部分構造Ｂ０１Ｄ３／１６）		HB	CC	4D032

B01D49/00	その他の方法によるガス，空気または蒸気からの分散粒子の分離		HB	CC	4D033

B01D50/00	ガスまたは蒸気から粒子を分離する方法または装置の組合せ［２０２２．０１］		HB	CC	4D033

B01D51/00	分散粒子が浄化されるガス又は蒸気への補助的前処理［６］		HB	CC	4D033



B01D53/00	ガスまたは蒸気の分離；ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収；廃ガスの化学的または生物学的浄化，例．エンジン排気ガス，煙，煙霧，煙道ガスまたはエアロゾル（凝縮による揮発性溶剤の回収Ｂ０１Ｄ５／００；昇華Ｂ０１Ｄ７／００；コールドトラップ，コールドバッフルＢ０１Ｄ８／００；液化による難凝縮性ガスまたは空気の分離Ｆ２５Ｊ３／００）［３，５］	(注)/(索引)	HB	CC	4D060

B01D57/00	固体の分離以外であって，単一の他のグループまたはサブクラス，例．Ｂ０３Ｃ，に完全には包含されない分離		HB	CC	4D069

B01D59/00	同一化学元素の異なる同位体の分離		HB	CC	4D036

半透膜を用いる分離工程，例．透析，浸透または限外ろ過；そのために特に適用される装置；半透膜またはそれらの製造［５］		(注)/(索引)
B01D61/00	半透膜を用いる分離工程，例．透析，浸透または限外ろ過；そのために特に適用される装置，付属品または補助操作（拡散によるガスまたは蒸気の分離Ｂ０１Ｄ５３／２２）［５］		HB	CC	4D006

B01D63/00	半透膜を用いる分離工程のための装置一般［５］		HB	CC	4D006

B01D65/00	半透膜を用いる分離工程または装置のための付属品または補助操作［５］		HB	CC	4D006

B01D67/00	分離工程または装置のための半透膜の製造に特に適合した工程［５］		HB	CC	4D006

B01D69/00	形状，構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜；そのために特に適合した製造工程［５］	(注)/(索引)	HB	CC	4D006

B01D71/00	材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜；そのために特に適合した製造工程［５］	(注)/(索引)	HB	CC	4D006

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