FI(一覧表示)

B01D9/00	晶析（気相から直接の晶出Ｂ０１Ｄ７／０２；単結晶の製造Ｃ３０Ｂ）	HB	CC	4D055

B01D9/02	・溶液からの晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,601	・・晶析物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@A	無機物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@B	・塩（類）	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@C	・・硫酸塩、硝酸塩、りん酸塩	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@D	・水（氷）	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@E	・金属	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@F	有機化合物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@G	・非環式化合物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@H	・炭素環式化合物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@J	・・単環式化合物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@K	・複素環式化合物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@L	・高分子化合物	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@M	化合物として特定されないもの	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@N	・鉱油系物質	HB	CC	4D055

B01D9/02,601@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,602	・・晶析方式	HB	CC	4D055

B01D9/02,602@A	加熱蒸発晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,602@B	冷却晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,602@C	真空晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,602@D	高圧晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,602@E	反応、第三物質の添加による晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,602@F	昇華、薄層接触、噴霧乾燥式晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,602@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,603	・・装置の形式	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@A	槽・塔形式	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@B	・撹拌式	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@C	・強制循環式	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@D	・・外部循環式	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@E	・・・溶液循環型	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@F	・・・ＤＴＢ型	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@G	横形式	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@H	高圧容器形式	HB	CC	4D055

B01D9/02,603@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,604	・・方法・操作に特徴あるもの	HB	CC	4D055

B01D9/02,605	・・装置の構造に特徴あるもの	HB	CC	4D055

B01D9/02,606	・・処理液の前処理	HB	CC	4D055

B01D9/02,607	・・処理液の供給	HB	CC	4D055

B01D9/02,607@A	分散供給	HB	CC	4D055

B01D9/02,607@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,608	・・晶析媒体、その添加	HB	CC	4D055

B01D9/02,608@A	種晶、溶媒	HB	CC	4D055

B01D9/02,608@B	反応物質、塩析剤	HB	CC	4D055

B01D9/02,608@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,609	・・析出（部）	HB	CC	4D055

B01D9/02,609@A	撹拌	HB	CC	4D055

B01D9/02,609@B	ドラフトチユ－ブ、バツフル、棚段	HB	CC	4D055

B01D9/02,609@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,610	・・処理液の蒸発、濃縮	HB	CC	4D055

B01D9/02,610@A	蒸気の排除、循環	HB	CC	4D055

B01D9/02,610@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,611	・・加熱、冷却、熱交換、熱媒体	HB	CC	4D055

B01D9/02,611@A	外側からの熱付与	HB	CC	4D055

B01D9/02,611@B	内側からの熱付与	HB	CC	4D055

B01D9/02,611@C	・熱媒体の直接接触	HB	CC	4D055

B01D9/02,611@D	排熱利用、熱の回収	HB	CC	4D055

B01D9/02,611@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,612	・・加圧、減圧	HB	CC	4D055

B01D9/02,613	・・外部循環液の抜出し、循環	HB	CC	4D055

B01D9/02,614	・・晶析物の掻取り、付着防止、取出し	HB	CC	4D055

B01D9/02,615	・・晶析物と母液との分離	HB	CC	4D055

B01D9/02,615@A	濾過、遠心分離による	HB	CC	4D055

B01D9/02,615@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,616	・・非晶析物（母液）の処理	HB	CC	4D055

B01D9/02,617	・・晶析物の処理	HB	CC	4D055

B01D9/02,618	・・晶析における操作の系統、順序	HB	CC	4D055

B01D9/02,618@A	多段晶析、分別晶析	HB	CC	4D055

B01D9/02,618@B	回分操作	HB	CC	4D055

B01D9/02,618@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,619	・・他処理工程との組合せ	HB	CC	4D055

B01D9/02,619@A	化学反応工程を含むもの	HB	CC	4D055

B01D9/02,619@Z	その他	HB	CC	4D055

B01D9/02,620	・・制御、検出、測定	HB	CC	4D055

B01D9/02,621	・・付属機器、付帯操作	HB	CC	4D055

B01D9/02,622	・・装置の全体配置、組立、材質	HB	CC	4D055

B01D9/02,625	・・制御、検出、数値（条件）限定等の対象	HB	CC	4D055

B01D9/02,625@A	温度	HB	CC	4D055

B01D9/02,625@B	圧力	HB	CC	4D055

B01D9/02,625@C	容量、重量	HB	CC	4D055

B01D9/02,625@D	流量、流速	HB	CC	4D055

B01D9/02,625@E	濃度、粒度	HB	CC	4D055

B01D9/02,625@F	時間	HB	CC	4D055

B01D9/02,625@Z	その他（フリ－ワ－ド）	HB	CC	4D055

B01D9/04	・・凍結した溶剤を除去することにより溶液を濃縮するもの	HB	CC	4D055

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