Fタームリスト

5F064 ICの設計・製造(配線設計等) 電子デバイス    
H10D89/10 -89/10@Z
H01L21/82-21/82@Z AA AA00
ICの形式
AA01 AA02 AA03 AA04 AA05 AA06 AA07 AA08 AA10
・カスタムIC ・・セミカスタムIC ・・・マスタスライス,ゲートアレイ ・・・標準セル,スタンダードセル ・・・・ポリセル ・・・・ビルディングブロック ・・・PLA ・・・・FPLA ・フルウエハ素子
AA11 AA13 AA15 AA17 AA20
・マルチチップ ・3次元素子 ・ハイブリッドIC ・プリント基板 ・その他*
BB BB00
ICの機能
BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB06 BB07 BB09 BB10
・デジタル信号処理 ・・論理ゲート ・・・アンド ・・・オア ・・・ナンド ・・・ノア ・・・ノット,インバータ ・・CPU ・・ワンチップマイコン
BB12 BB13 BB14 BB15 BB16 BB18 BB19 BB20
・・メモリ ・・・RAM ・・・・DRAM ・・・ROM ・・アドレスデコーダ ・・シフトレジスタ ・・フリップフロップ ・・カウンタ,分周器
BB21 BB22 BB23 BB24 BB26 BB27 BB28 BB30
・アナログ信号処理 ・・増幅器,アンプ ・・・センスアンプ ・・・演算増幅器,オペアンプ ・・バッファ ・・・入力バッファ ・・・出力バッファ ・・レベル変換
BB31 BB33 BB35 BB37 BB40
・試験 ・監視,モニタ ・安全 ・スイッチング ・その他*
CC CC00
使用素子
CC01 CC02 CC03 CC04 CC06 CC07 CC08 CC09 CC10
・トランジスタ ・・バイポーラトランジスタ ・・・ECL,CML ・・・I2L ・・FET ・・・JFET ・・・ショットキFET ・・・MOS―FET(MISも含む) ・・・・ポリシリコンゲートを有する
CC12 CC13 CC14 CC15 CC16
・・・・CMOS ・・・デプレッション,エンハンスメント型の特定 ・・・・ED―MOS ・・bi―MOS ・・・bi―CMOS
CC21 CC22 CC23 CC25 CC26 CC30
・ダイオート ・低抗 ・コンデンサ,キヤパシタ ・シリコン以外の材料を用いているもの ・・GaAS ・その他*
DD DD00
ICの構造(配線を除く)
DD01 DD02 DD03 DD04 DD05 DD07 DD08 DD09 DD10
・素子,セル,ブロック等の配置,レイアウト ・・自動配置,レイアウト ・・最適化 ・・階層構造 ・・単位セル,ブロック内での配置,レイアウト ・・素子,セル,ブロックの大きさ ・・・拡大,縮小 ・・・素子の大きさ ・・素子,セル,ブロックの形状
DD12 DD13 DD14 DD15 DD16 DD18 DD19 DD20
・・素子,セル,ブロックの方向,角度 ・・素子,セル,ブロックの個数,密度 ・・素子,セル,ブロックの位置,座標 ・・・対称性 ・・・・線対称 ・・素子,セル,ブロックの配列,ピッチ ・・・アレイ型 ・・・ブロック型
DD22 DD24 DD25 DD26
・・・セルしきつめ型 ・・素子間,セル間,ブロック間距離 ・・素子,セル,ブロックの入出力端子 ・・不使用素子,セル,ブロックの取り扱い
DD31 DD32 DD33 DD34 DD35 DD36 DD37 DD39
・特定用途素子,セル,ブロックに関する構造 ・・入出力に関するもの ・・・入出力両用 ・・電源に関するもの ・・・電圧源 ・・・・基準電圧の発生 ・・・電流源 ・・テストに関するもの
DD41 DD42 DD43 DD44 DD45 DD46 DD47 DD48 DD50
・付加的要素に関する構造 ・・ボンデイングパッドに関するもの ・・・パッドのピッチ ・・・電源用パッド ・・・不使用のパッド ・・・テスト用パッド ・・識別マーク ・・パッシベーション,保護膜 ・その他*
EE EE00
配線
EE01 EE02 EE03 EE04 EE05 EE06 EE08 EE09 EE10
・配線パターン ・・配線の自動配置 ・・配線の最適化 ・・グラフ理論の応用 ・・単位セル,ブロック内(上)の配線 ・・・不使用セル,ブロックにおける配線 ・・配線長 ・・配線幅 ・・・電流に応じた配線幅
EE12 EE13 EE14 EE15 EE16 EE17 EE18 EE19 EE20
・・メッシュ状,格子状配線 ・・・格子点 ・・配線スペース ・・配線数,配線密度 ・・配線の方向、角度 ・・配線の位置,座標 ・・・配線の対称性 ・・配線の配列,ピッチ ・・配線の末端
EE22 EE23 EE24 EE25 EE26 EE27 EE28
・・多層配線 ・・・3層以上の配線 ・・・固定配線と通過用配線の組み合わせ ・・・拡散層の利用 ・・・上下位置関係 ・・・コンタクト手段 ・・・両面パターン
EE31 EE32 EE33 EE34 EE35 EE36
・配線材料 ・・金属 ・・・アルミニウム ・・・高融点金属 ・・・シリサイド ・・ポリシリコン
EE41 EE42 EE43 EE44 EE45 EE46 EE47 EE48
・配線(又は配線間)の物理的性質 ・・配線低抗 ・・静電容量 ・・インダクタンス ・・ノイズ ・・・クロストーク ・・遅延時間 ・・熱発生
EE51 EE52 EE53 EE54 EE56 EE57 EE58 EE60
・特定用途向け配線 ・・電源,接地配線 ・・ボンディングパッド用配線 ・・クロック用配線 ・絶縁、分離 ・仮配線 ・配線順序 ・その他*
FF FF00
切り換え、選択
FF01 FF02 FF04 FF05 FF06 FF07 FF08 FF09
・切り換え,選択目的 ・・冗長系における切り換え ・・特性、機能の切り換え ・・・抵抗値の切り換え ・・・静電容量の切り換え ・・・電流,電力の切り換え ・・・電圧の切り換え ・・・遅延時間の切り換え
FF12 FF13 FF14 FF15 FF16
・・試験,監視 ・・・試験信号の発生 ・・・自己診断 ・・・冗長系を使用しているかどうかのチェック ・・・品種,工程のチェック
FF21 FF22 FF23 FF24 FF26 FF27 FF28 FF29 FF30
・切り換え,選択部分の素子 ・・ダイオード ・・トランジスタ ・・・FET ・・フューズ ・・・切断するもの ・・・接続するもの ・・・材料が特定されているもの ・・・・ポリシリコン
FF32 FF33 FF34 FF36
・・・・金属 ・・・・・高融点金属 ・・・形状が特定されているもの ・・スイッチ,電気回路
FF41 FF42 FF43 FF44 FF45 FF46 FF47 FF48 FF49 FF50
・切り換え,選択実行方法 ・・レーザ照射 ・・・照射強度 ・・電子線照射 ・・電圧,電流の給供,変更 ・・・端子への入力電圧の変更 ・・予備加熱を行なうもの ・・配線の作成,変更 ・・・ボンディング ・・チップの分割
FF52 FF60
・・ソフトウェア(プログラム)によるもの ・その他*
GG GG00
製造プロセス技術
GG01 GG03 GG05 GG07 GG10
・拡散,イオン注入 ・エッチング ・結晶成長,エピタキシャル成長 ・熱処理,アニール ・その他*
HH HH00
設計,製造における計算機技術
HH01 HH02 HH03 HH05 HH06 HH07 HH08 HH09 HH10
・ハードウェア関係 ・・ホスト,端末構成 ・・クロック信号 ・ソフトウェア(プログラム)関係 ・・CAD ・・・対話式 ・・使用言語 ・・シミュレーション ・・評価,検査,試験,監視
HH11 HH12 HH13 HH14 HH15 HH16 HH17 HH18 HH19 HH20
・・ファイル構造,取り扱い ・・ライブラリの使用 ・入力 ・出力,表示 ・・図形表示 ・・・拡大,縮小表示 ・・警告,モニタ表示 ・・ガイダンス,メニュー表示 ・・カラー表示 ・その他*
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