Fタームリスト

リスト再作成旧2H047(H16)
G02B6/12-6/14 AA AA00
用途
AA01 AA02 AA03 AA04 AA05
・双方向通信 ・計測、分析、バイオ(FD19優先) ・・ジャイロ ・表示、記録 ・・光ピックアップ
AB AB00
光集積回路中の光学的機能
AB01 AB02 AB03 AB04 AB05 AB06 AB07 AB09 AB10
・光強度 ・・可変光減衰器、光変調器 ・・光増幅器、SOA ・・発光素子 ・・受光素子 ・・・モニター用受光素子 ・・・基板表層に光吸収層を形成 ・・光素子等形成基板上に導波路が一体化 ・・・バットジョイント
AB11 AB12 AB13 AB15 AB16 AB17 AB18 AB19 AB20
・位相、光遅延 ・・分散調節 ・・・分散の補償・低減 ・波長 ・・波長フィルタ ・・波長合分波 ・・・利得等化、損失等化 ・・・光ADM ・・波長変換
AB21 AB22 AB24 AB27 AB28 AB29
・偏光、偏波(AB22優先) ・非相反素子(アイソレータ等) ・ビーム径変換、コリメート ・モード(AB21,24優先) ・・モード変換 ・・モードフィルタ
AB31 AB32 AB36 AB37 AB38 AB40
・方向(AB17,21,27優先) ・・光スイッチ(可変方向切換) ・非線形光学(AB37優先) ・光メモリ、光双安定 ・光パルス整形・圧縮、光パルス列発生 ・非平面導波路型
AC AC00
使用状態下の素子に対する制御因子
AC01 AC02 AC04 AC05 AC07 AC09
・電圧、電界 ・電流、キャリア濃度 ・温度 ・・温度調整部が薄膜状・線状のもの ・磁場、磁界 ・音波、弾性波
AC11 AC12 AC14 AC15 AC17 AC19
・光 ・・プラズモン、ポラリトン ・圧力、応力(AC15優先) ・機械的変位・変形 ・素子特性の保持・微調整のための制御 ・制御因子の時間的・場所的変化に特徴
BA BA00
導波路の断面構造の特徴
BA01 BA02 BA05 BA06 BA07 BA09 BA10
・スラブ導波路(BA02、BE04,23優先) ・多モード導波路(BE21優先) ・リッジ、リブ ・ハイメサ ・装荷型 ・屈折率分布に特徴(BA07優先) ・コアが基板・クラッド層の凹部に形成
BA11 BA12 BA14 BA15 BA17 BA18
・コア断面の特殊形状 ・・円形 ・コア断面が多層(BA15、BF優先) ・量子井戸、量子細線、量子ドット ・エアブリッジ構造 ・ARROW構造
BB BB00
光の径・形状・閉込変換用導波路長手構造
BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BB10
・断面積・形状が変化、テーパ(BE21優先) ・・コア幅が変化 ・・コア厚さが変化 ・・コア縮小による導波光の径拡大・漏洩 ・・クラッドの断面積・形状が変化 ・・非直線状に変化 ・実効屈折率の変化(BB04優先) ・断面積・Δnの局所的変化(BE21優先) ・複数のコアからなるもの ・光分布制限部材によるコアの埋込縦続接続
BC BC00
導波路長手方向の周期構造(BF優先)
BC01 BC02 BC03 BC05 BC06 BC07 BC08 BC10
・分割(セグメント)型 ・屈折率変調型 ・凹凸型 ・導波路型格子・ホログラム(BE04優先) ・・長周期型 ・・傾斜型 ・・湾曲型、集光型(BD12優先) ・周期的分極反転
BC11 BC12 BC13 BC14
・周期構造の特徴 ・・変調振幅が長手方向に変化 ・・コア等の幅・厚さが長手方向に変化 ・・ピッチが長手方向に変化
BD BD00
導波路長手構造のその他の特徴
BD01 BD02 BD03 BD04 BD05 BD07 BD08 BD09 BD10
・湾曲・屈曲導波路に特徴(BD07-08優先) ・・S字状、折畳み状 ・・リング状、ディスク状、微小球 ・・・渦巻き状 ・・ピッチ変換導波路 ・反射型・折返し型導波回路(BD08優先) ・導波路型多重反射・エタロン ・端面の導波路構造(BD07-08優先) ・・傾斜端面、傾斜導波路(BD07-08優先)
BD11 BD12 BD13 BD14 BD15 BD16 BD17 BD19 BD20
・導波路型レンズ ・・フレネルレンズ、グレ-ティングレンズ ・導波路型プリズム ・導波路型偏光要素、複屈折導波路 ・・導波路型偏光分離・合成 ・・導波路型偏光回転・変換 ・・導波路型偏光子 ・導波路の軸ズレ配置 ・途切れた導波路(BC01、CC02優先)
BE BE00
導波路の組合せ構造
BE01 BE02 BE03 BE04 BE05 BE06 BE07
・マッハツェンダ型(BE03優先) ・分岐―不等光路長―合成 ・・非対称マッハツェンダ型 ・・アレイ導波路型回折格子(AWG) ・・・入出力導波路に特徴 ・・・入出力スラブ導波路に特徴 ・・・アレイ導波路に特徴
BE11 BE12 BE13 BE14 BE15 BE16 BE17 BE18 BE19 BE20
・分岐、交差、方向性結合 ・・X分岐、十字交差 ・・Y分岐、T字交差 ・・M×N(N≧3) ・・方向性結合 ・・・方向性結合部に回折格子を形成 ・・分岐・交差・方向性結合部に特徴 ・・・屈折率分布に特徴 ・・・コア形状に特徴 ・・・不等分配
BE21 BE22 BE23 BE26
・モード間混合・干渉、混合分配 ・・多モード干渉(MMI) ・・スターカプラ(BE04優先) ・離隔した導波路間の結合(BE15優先)
BF BF00
フォトニック結晶
BF01 BF02 BF03 BF04 BF05 BF06 BF08 BF09 BF10
・周期構造 ・・一次元 ・・二次元 ・・三次元 ・・微粒子凝集 ・・柱状体の集積 ・・導波方向に周期構造変化(BF12優先) ・・非導波方向に周期構造変化(BF12優先) ・・周期構造部分を導光するもの
BF11 BF12 BF13 BF14 BF15 BF17 BF18
・その他の構造 ・・欠陥 ・・・線状欠陥 ・・・点欠陥 ・・・・結合欠陥 ・・導波路とPhCとの接続・集積 ・・局所的な充填等による光機能付与
BG BG00
導波路のその他の特徴
BG01 BG02 BG03 BG04 BG05 BG06 BG07 BG08 BG09 BG10
・厚さ方向への光路変換 ・・傾斜面による光路変換 ・・・曲面による光路変換 ・・グレーティングカプラ、プリズムカプラ ・導光部断面の一部に光路変換部を形成 ・溝、凹部、切欠(BA10優先) ・・V溝、角錐溝、三角溝 ・・スリット状 ・・コア非形成領域に溝形成(CC02優先) ・・溝付近の導波路構造に特徴(BD07優先)
BG11 BG13 BG14 BG15 BG17 BG19
・ダミー導波路 ・基板に特徴(BG17、EA優先) ・・基板の部分的除去(BA10、BG15優先) ・・光(学)素子搭載用凸部を有するもの ・フレキシブル導波路、フィルム導波路 ・特定の結晶方位の利用、面方位の特定
CA CA00
光学素子
CA01 CA02 CA03 CA04 CA05 CA06 CA07 CA08 CA09 CA10
・ファイバー(CA12優先) ・・多モードファイバー ・・偏波面保存ファイバー ・・短尺ファイバー ・・ファイバーアレイ、ファイバー束 ・・ファイバーカプラ ・・ファイバー端面に特徴 ・レンズ(BD11、CA07優先) ・プリズム(BD13、CA13優先) ・光散乱要素、拡散要素
CA11 CA12 CA13 CA14 CA15 CA16 CA17 CA18 CA19 CA20
・回折格子、ホログラム(BC05優先) ・・ファイバー型(FG) ・反射要素(CA10,17,21優先) ・・ハーフミラー ・・曲面状 ・多重反射・エタロン(BD08優先) ・波長フィルタ(CA11優先) ・光吸収部材、遮光部材(CA17優先) ・・絞り、アパーチャ ・空間変調器、空間フィルタ
CA21 CA22 CA23 CA24 CA25 CA26 CA27 CA28 CA29 CA30
・偏光要素、複屈折要素(BD14優先) ・・偏光分離・合成(BD15優先) ・・偏光回転・変換(BD16優先) ・・偏光子(BD17優先) ・非相反素子(アイソレータ等) ・その他 ・・反射防止膜 ・・導光部の透明体(BA-BG、CA01優先) ・・・二重封止 ・・屈折率整合
CB CB00
光入出力結合(一方が導波路でないもの)
CB01 CB02 CB03 CB04 CB05 CB06 CB07 CB08 CB09 CB10
・ファイバーとの結合 ・・入出力ファイバーを同一端面に配置 ・光素子との結合 ・・光インターコネクション ・・厚さ方向への光路変換手段を介した結合 ・・・光素子と導波路基板との間に導光部 ・・・導光部と光素子との間に基板 ・・・導光部と基板との間に光素子 ・・面内での光路変換 ・・放射モードとの結合
CC CC00
位置決め、固定
CC01 CC02 CC03 CC05 CC07 CC08 CC10
・位置決め(CC15優先) ・・溝、凹部(BA10優先) ・・・凸部と凹部の嵌合(CC05優先) ・・ガイドピン、ガイドレール ・・マーカー ・・・導波路等と同時形成 ・・高さ方向の位置決め・ズレ防止
CC11 CC12 CC13 CC14 CC15 CC17 CC18 CC20
・固着 ・・接着剤 ・・・光硬化性 ・・はんだ ・・・表面張力による位置決め ・・光学接着、分子間力 ・・融着 ・着脱可能、交換可能
CD CD00
光(学)素子・導波路等の配置
CD01 CD02 CD04 CD05 CD07 CD09 CD10
・直列 ・並列、アレイ ・ツリー状 ・マトリクス状 ・基板の複数の面(両面等)に搭載 ・光素子を導波路基板とは別基板に搭載 ・アップサイドダウン搭載
CD11 CD12 CD13 CD15 CD16 CD17 CD18
・導波路の立体配置・積層 ・・厚さ方向に光が伝搬 ・・・厚さ方向に延在する導光部材 ・導波路基板等間の光学的結合 ・・組み換え可能なもの ・・相互クロス結合 ・・基板等の表面・裏面を介した結合
DA DA00
その他の構造
DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DA06 DA07 DA08 DA09 DA10
・実装、パッケージ ・・ケース、筐体、収容体 ・・・素子の筐体への実装に特徴 ・・・ファイバー挿入部に特徴 ・・封止 ・・・樹脂封止、ゲル封止 ・・温度調整部の実装に特徴 ・・電子回路・電気配線の実装 ・・・基板等の内部に電気配線 ・・・制御回路・電子回路
DA11 DA12 DA13 DA15 DA18 DA19
・電極・薄膜ヒータに特徴 ・・形状に特徴 ・・透明なもの ・温度調整部構造に特徴(DA07,11優先) ・表面・端面に特徴(BD09、FA29優先) ・・保護膜、保護構造
EA EA00
導波路・基板・その他特徴部の材料
EA01 EA02 EA03 EA04 EA05 EA06 EA07 EA08 EA09 EA10
・主成分、ホスト材料 ・・無機材料 ・・・ABO3型 ・・・・(KLi)(TaNb)O3 ・・・・・Li(TaNb)O3 ・・・・PLZT、PZT、透明磁器 ・・・A3B5O12型、ガーネット構造 ・・・KTP、KDP、ADP ・・・セラミック(EA06優先) ・・・金属
EA12 EA13 EA14 EA15 EA16 EA17 EA18 EA19 EA20
・・・半導体 ・・・・Si ・・・SiO2、石英、ガラス、SiON ・・・Al2O3、サファイア ・・有機材料(EA22優先) ・・・ポリイミド ・・・シロキサン、シリコーン樹脂 ・・・PMMA、アクリル ・・・エポキシ
EA22 EA23 EA24 EA25
・・液晶 ・・アモルファス(EA14優先) ・・多孔質 ・・空気
EA31 EA32 EA33 EA34 EA35 EA36 EA37 EA38 EA39 EA40
・ドーパント ・・無機材料 ・・・プロトン、水素イオン、重水素 ・・・P ・・・Ge ・・・B ・・・Ti ・・・希土類(Er等) ・・・金属(EA34-38優先) ・・・ハロゲン
EA42 EA43 EA44 EA45 EA47 EA48
・・・半導体(EA34-38優先) ・・有機材料(EA44優先) ・・液晶 ・・微粒子、微結晶、フィラー、ビーズ ・・一層内に複数のドーパントを併用 ・・層内・層間のドーパント濃度変化に特徴
FA FA00
製法1膜形成、結晶成長(FD01優先)
FA01 FA02 FA03 FA04 FA05 FA06 FA07 FA08 FA09 FA10
・膜形成方法、結晶成長方法 ・・気相成長 ・・・化学的気相成長(FA21優先) ・・・・MOCVD、MOVPE ・・・・PCVD、PECVD ・・・物理的気相成長、蒸着 ・・・・分子線ビームエピタキシー ・・・・電子ビーム蒸着 ・・・・スパッタ ・・・ソース・ターゲットに特徴
FA11 FA12 FA13 FA15 FA16 FA17 FA18 FA20
・・液相成長、溶液・融液への基板等の浸漬 ・・固相成長 ・・選択成長 ・・印刷、機械的転写(FA16優先) ・・ヘッド等の相対的移動(FA17,21優先) ・・スピンコート ・・ゾル-ゲル法 ・・メッキ、電着(FA06優先)
FA21 FA22 FA24 FA25 FA26 FA27 FA28 FA29
・・火炎加水分解堆積法(FHD) ・・・多孔質ガラスの堆積工程に特徴 ・基板・膜への処理(FB-FC優先) ・・熱処理、アニール(FB11優先) ・・・透明化・ガラス化 ・・・熱酸化、熱窒化 ・・陽極酸化 ・・基板・膜の粗面化・段差形成、面粗度
FB FB00
製法2屈折率・複屈折・サイズの調整
FB01 FB02 FB03 FB04 FB05 FB07 FB09
・ビーム照射 ・・ビーム走査 ・・厚さ方向のビーム照射、光造形 ・・マスクを介した照射 ・・フォトブリーチ ・圧力、応力、機械的変形 ・温度(FB11優先)
FB11 FB12 FB13 FB15 FB16
・ドーパントの添加・拡散 ・・熱拡散、外拡散(FB13優先) ・・イオン交換、プロトン交換 ・使用前の素子の特性の修正・調整のため ・・調整膜・調整体の形成によるもの
FC FC00
製法3物質除去方法(FD14優先)
FC01 FC02 FC03 FC04 FC05 FC06 FC07 FC08 FC09 FC10
・エッチング ・・湿式(ウェットエッチング) ・・乾式(ドライエッチング) ・・・プラズマエッチング(FC05優先) ・・・反応性イオンエッチング(RIE) ・リフトオフ ・切削、研磨、トリミング、劈開、切断 ・・機械的方法によるもの ・・ビーム照射によるもの ・余剰物質の退避・回収手段を有するもの
FD FD00
製法4その他の製法
FD01 FD02 FD03 FD04 FD05 FD06 FD07 FD08 FD09 FD10
・成形、モールド ・・コアに対応する凸部を有する型 ・・コアに対応する凹部を有する型 ・・成形型・スタンパの製造方法 ・・・マスタ型を利用 ・・シート・板状体の成形 ・延伸 ・重合 ・マスクに特徴(FB04優先) ・自己整合的・自己組織的な製法
FD11 FD12 FD13 FD14 FD15 FD16 FD17 FD18 FD19 FD20
・分極・物質の配向・整列方法 ・別の機能を有する複数の部分を一括形成 ・素子分離 ・薄膜・薄板・基板等の剥離 ・薄膜・薄板・基板等の圧着・貼合せ ・製造装置(FD17優先) ・組立・実装装置 ・補助具、冶具、工具 ・導波路の特性・膜質の評価・分析に特徴 ・設計・シミュレーションに特徴
FE FE00
製法5製造に用いるビーム・電磁場の種類
FE01 FE02 FE03 FE04 FE05 FE06 FE07 FE08 FE09
・紫外線より短波長(FE06優先) ・紫外線 ・紫外線より長波長の光 ・フェムト秒レーザ、超短光パルス ・干渉光 ・荷電粒子 ・・電子線 ・電圧、電界、マイクロ波 ・磁場、磁界
FF FF00
製法6製造条件(雰囲気、圧力、温度等)
FF01 FF02 FF03 FF04 FF05 FF06 FF07 FF08 FF09 FF10
・雰囲気 ・圧力 ・・高圧(FD01優先) ・・低圧、真空 ・温度 ・・200<T≦500℃ ・・500<T≦750℃ ・・750<T≦1000℃ ・・T>1000℃ ・・温度勾配・温度分布(GA04優先)
GA GA00
目的、課題、効果
GA01 GA02 GA03 GA04 GA05 GA06 GA08 GA10
・温度無依存、温度補償(GA03優先) ・・屈折率温度依存性の異なる物質の利用 ・ドリフト対策 ・温度分布の均一化 ・断熱、熱的クロストークの抑制 ・高温・熱対策 ・高速化(GA30優先) ・小型化、高密度化
GA11 GA12 GA13 GA15 GA16 GA17 GA19 GA20
・偏光無依存 ・反り抑制、熱膨張係数の整合 ・コアの変形防止 ・膜・結晶の質の向上・均一化 ・膜や基板表面・端面の平坦化 ・膜の密着性向上 ・損失低減、透過率向上 ・防水、耐湿、結露防止
GA21 GA22 GA23 GA24 GA25 GA26 GA28 GA29 GA30
・多チャンネル化、大規模化 ・広帯域化、波長無依存化(GA30優先) ・・波長選択特性の平坦化 ・狭帯域化、高Q値化 ・光学的な雑音・クロストーク等の抑制 ・・反射光・戻り光の抑制(CA27優先) ・電気的特性の改善 ・・消費電力・駆動電圧の低減 ・・高周波特性改善
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