FI(一覧表示)

  • H10K71/00
  • このサブクラスに包含される有機装置に特に適した製造または処理[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/00,831
  • ・エージング HB CC 3K107
  • H10K71/00,851
  • ・基板の分離 HB CC 3K107
  • H10K71/00,861
  • ・リペア HB CC 3K107
  • H10K71/10
  • ・有機活性材料の堆積[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/12
  • ・・液体堆積の利用,例.スピンコーティング[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/13
  • ・・・印刷技術の利用,例.インクジェット印刷またはスクリーン印刷[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/15
  • ・・・使用される溶剤に特徴のあるもの[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/16
  • ・・物理気相成長[PVD]の利用,例.真空蒸着またはスパッタリング[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/16,164
  • ・・・真空蒸着の利用 HB CC 3K107
  • H10K71/16,166
  • ・・・選択的な堆積,例.マスクの利用 HB CC 3K107
  • H10K71/18
  • ・・非液体の印刷技術の利用,例.ドナーシートからの熱転写印刷[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/20
  • ・装置内での活性層の形状変更,例.パターニング[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/30
  • ・活性層へのドーピング,例.電子輸送層[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/40
  • ・熱処理,例.溶媒蒸気下におけるアニーリング[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/50
  • ・2つの基板の貼合による装置の形成,例.ラミネート技術[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/60
  • ・導電領域または導電層の形成,例.電極[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/70
  • ・試験,例.加速寿命試験[2023.01] HB CC 3K107
  • H10K71/80
  • ・仮基板の利用[2023.01] HB CC 3K107
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