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HB:ハンドブック | ||||
CC:コンコーダンス |
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単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質への拡散またはドーブ工程;そのための装置[3,5] | HB | CC | 4G077 | |
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・固相状態の拡散物質と接触させるもの[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・液相状態の拡散物質と接触させるもの[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・ガス状態の拡散物質と接触させるもの[2006.01] | HB | CC | 4G077 | |
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・・拡散物質が被拡散元素の化合物であるもの[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・・反応室;そのための材料の選択[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・・反応室の加熱[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・・基板保持体またはサセプタ[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・・ガスの供給および排出手段;ガス流の調節[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・・制御または調整[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・電磁波照射または粒子線放射によるドービング[3] | HB | CC | 4G077 | |
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・・イオン注入によるもの[3] | HB | CC | 4G077 | |