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５Ｃ１０１に変更（Ｒ２）
5C034 荷電粒子線装置 応用物理　　　　　　
H01J37/30 -37/36
H01J37/30@A;37/30@Z AA AA00
粒子線装置 		AA01 AA02 AA03 AA04 AA06 AA07 AA09
・ビーム発生部，加速部 ・加工室 ・光学観察系 ・真空排気系 ・大気中加工装置 ・加熱処理装置（アニール装置） ・その他＊
AB AB00
粒子線装置の制御系 		AB01 AB02 AB03 AB04 AB05 AB07 AB09
・ビーム発生部制御 ・・ビーム強度制御 ・走査偏向制御 ・加工制御 ・補正制御 ・電源 ・その他＊
H01J37/305@A;H01J37/305@B;H01J37/305@Z BB BB00
電子・イオンビーム露光装置 		BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BB10
・電子銃 ・電子レンズ ・ブランキング ・走査偏向 ・マスクアパーチャ ・試料室 ・位置合せ ・焦点合せ，収差補正 ・イオンビームを用いるもの ・その他＊
H01J37/317@A;H01J37/317@B;H01J37/317@C;H01J37/317@E;H01J37/317@Z CC CC00
イオン注入装置 		CC01 CC02 CC03 CC04 CC05 CC07 CC08 CC09 CC10
・イオン源，加速部 ・質量分離部 ・集束レンズ ・電磁走査部 ・静電走査部 ・注入室 ・・回転ディスク ・・・ディスク上のウェハ保持交換 ・・ウェハを１枚ずつ処理するもの
CC11 CC12 CC13 CC14 CC16 CC17 CC19
・・・ウェハホールダ ・・キャリッジでウェハを搬送するもの ・・ウェハの帯電防止 ・・ウェハの冷却 ・排気 ・イオンビームの広がり防止 ・その他＊
H01J37/317@A;37/317@B;37/317@C;37/317@Z CD CD00
イオン注入装置の制御，監視 		CD01 CD02 CD03 CD04 CD05 CD06 CD07 CD08 CD09 CD10
・制御システム ・・イオン源，加速部 ・・質量分離 ・・電気的走査制御 ・・回転ディスク制御 ・監視 ・・注入量 ・・注入角度 ・・温度 ・その他＊
H01J37/317@D DD DD00
集束イオンビーム装置 		DD01 DD02 DD03 DD04 DD05 DD06 DD07 DD09
・イオン源，加速部 ・質量分離部 ・集束レンズ ・ブランキング ・走査偏向 ・ビーム制御システム ・・ビーム量 ・その他＊
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