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| 4K029 | 物理蒸着 | 無機化学 |
| C23C14/00 -14/58@Z | ||
| C23C14/00-14/58@Z | AA | AA00 基体 |
AA01 | AA02 | AA04 | AA05 | AA06 | AA07 | AA08 | AA09 | ||
| ・材質 | ・・金属質材 | ・・無機質材 | ・・・Ｂ | ・・・Ｓｉ | ・・・Ａｌ２Ｏ３ | ・・・ＳｉＯ２，シリカ | ・・・ガラス | |||||
| AA11 | ||||||||||||
| ・・有機質材 | ||||||||||||
| AA21 | AA22 | AA23 | AA24 | AA25 | AA26 | AA27 | AA29 | |||||
| ・形状 | ・・粒，粉，球 | ・・線 | ・・板 | ・・フィルム，帯，長尺体 | ・・容器体 | ・・管 | ・表面段差を有するもの | |||||
| BA | BA00 被膜材質 |
BA01 | BA02 | BA03 | BA04 | BA05 | BA06 | BA07 | BA08 | BA09 | BA10 | |
| ・金属質材 | ・・単体金属 | ・・・Ａｌ | ・・・Ａｇ | ・・・Ａｕ | ・・・Ｃｏ | ・・・Ｃｒ | ・・・Ｃｕ | ・・・Ｆｅ | ・・・Ｉｎ | |||
| BA11 | BA12 | BA13 | BA14 | BA15 | BA16 | BA17 | BA18 | |||||
| ・・・Ｍｏ | ・・・Ｎｉ | ・・・Ｐｔ | ・・・Ｓｂ | ・・・Ｓｎ | ・・・Ｔａ | ・・・Ｔｉ | ・・・Ｚｎ | |||||
| BA21 | BA22 | BA23 | BA24 | BA25 | BA26 | |||||||
| ・・合金 | ・・・貴金属基合金 | ・・・Ａｌ基合金 | ・・・Ｃｏ基合金 | ・・・Ｎｉ基合金 | ・・・Ｆｅ基合金 | |||||||
| BA31 | BA32 | BA33 | BA34 | BA35 | ||||||||
| ・無機質材 | ・・単体 | ・・・Ｂ | ・・・Ｃ | ・・・Ｓｉ | ||||||||
| BA41 | BA42 | BA43 | BA44 | BA45 | BA46 | BA47 | BA48 | BA49 | BA50 | |||
| ・・化合物 | ・・・フッ化物 | ・・・酸化物 | ・・・・ＡｌＯ系 | ・・・・ＩｎＯ系 | ・・・・ＳｉＯ系 | ・・・・ＳｎＯ系 | ・・・・ＴｉＯ系 | ・・・・ＺｎＯ系 | ・・・・複酸化物 | |||
| BA51 | BA52 | BA53 | BA54 | BA55 | BA56 | BA57 | BA58 | BA59 | BA60 | |||
| ・・・硫化物 | ・・・ケイ化物 | ・・・ホウ化物 | ・・・炭窒化物 | ・・・炭化物 | ・・・・ＳｉＣ | ・・・・ＷＣ | ・・・窒化物 | ・・・・ＢＮ | ・・・・ＴｉＮ | |||
| BA62 | BA64 | |||||||||||
| ・有機質材 | ・混合物 | |||||||||||
| BB | BB00 被膜構造 |
BB01 | BB02 | BB03 | BB04 | BB07 | BB08 | BB09 | BB10 | |||
| ・被膜形態 | ・・多層被膜 | ・・部分被膜，模様被膜 | ・・両面被膜 | ・結晶構造 | ・・多結晶 | ・・単結晶 | ・・非晶質，アモルファス | |||||
| BC | BC00 被膜の性質 |
BC01 | BC02 | BC03 | BC04 | BC05 | BC06 | BC07 | BC08 | BC09 | BC10 | |
| ・耐食性 | ・耐磨耗性 | ・導電性 | ・・超電導 | ・電気抵抗性 | ・磁気的性質 | ・光学的性質 | ・・透光性，透明性 | ・透明導電性 | ・熱的性質 | |||
| BD | BD00 被膜の用途 |
BD01 | BD02 | BD03 | BD04 | BD05 | BD06 | BD07 | BD08 | BD09 | BD10 | |
| ・半導体装置 | ・・リードフレーム，配線材料 | ・機械部品 | ・・摺動部材 | ・工具 | ・装飾品 | ・時計部品 | ・電子写真感光体 | ・反射鏡，反射膜 | ・転写箔 | |||
| BD11 | BD12 | |||||||||||
| ・磁気記録媒体 | ・・光磁気記録媒体 | |||||||||||
| CA | CA00 被覆処理方法 |
CA01 | CA02 | CA03 | CA04 | CA05 | CA06 | CA07 | CA08 | CA09 | CA10 | |
| ・真空蒸着 | ・・反応性 | ・イオンプレーティング，イオンビーム蒸着 | ・・反応性 | ・スパッタリング | ・・反応性 | ・イオンビームミキシング | ・・スパッタリングとイオンビーム照射の併用 | ・・蒸着とイオンビーム照射の併用 | ・イオン注入 | |||
| CA11 | CA12 | CA13 | CA15 | CA17 | ||||||||
| ・有機モノマー重合 | ・・プラズマによる | ・基体にバイアス電位を設定をするもの | ・粒子、ビームの基板斜方照射 | ・基体の振動、転動 | ||||||||
| DA | DA00 処理装置一般 |
DA01 | DA02 | DA03 | DA04 | DA05 | DA06 | DA08 | DA09 | DA10 | ||
| ・槽、ベルジャー | ・真空排気装置 | ・槽内観察装置 | ・ガス導入装置 | ・・吹出ノズル | ・・・配置 | ・基体加熱装置 | ・槽内清浄装置 | ・・粒子防着体 | ||||
| DA12 | DA13 | |||||||||||
| ・シャッター装置 | ・・複合シャッター | |||||||||||
| DB | DB00 蒸着装置 |
DB01 | DB02 | DB03 | DB04 | DB05 | DB06 | DB07 | DB08 | DB09 | DB10 | |
| ・蒸発材、蒸発物質 | ・・材質 | ・・・単体金属 | ・・・合金 | ・・・無機化合物 | ・・・有機物 | ・・形状 | ・・・ペレット、板、棒 | ・・・線、フィラメント | ・・・粉、粒 | |||
| DB11 | DB12 | DB13 | DB14 | DB15 | DB17 | DB18 | DB19 | DB20 | ||||
| ・るつぼ、蒸発材容器 | ・・形状、構造 | ・・材質 | ・・複数のるつぼを有するもの | ・蒸発材供給手段 | ・蒸発材加熱装置 | ・・抵抗加熱 | ・・誘導加熱 | ・・レーザー | ||||
| DB21 | DB22 | DB23 | DB24 | |||||||||
| ・・電子ビーム | ・・・ビーム走査 | ・・・るつぼの回転，移動 | ・・・るつぼ冷却 | |||||||||
| DC | DC00 スパッタリング装置 |
DC01 | DC02 | DC03 | DC04 | DC05 | DC06 | DC07 | DC08 | DC09 | ||
| ・ターゲット | ・・材質 | ・・・単体金属 | ・・・合金 | ・・・無機化合物 | ・・・有機物 | ・・製造法 | ・・・溶解・鋳造 | ・・・焼結 | ||||
| DC12 | DC13 | DC15 | DC16 | DC18 | DC20 | |||||||
| ・・形状 | ・・・筒状，棒状 | ・・複合ターゲット | ・・複数のターゲットを有するもの | ・スパッタガン、Ｓ―ガン | ・アースシールド、シールドリング | |||||||
| DC21 | DC22 | DC23 | DC24 | DC25 | DC26 | DC27 | DC28 | DC29 | DC30 | |||
| ・バッキングプレート | ・・ターゲットの取付け | ・・・治具によるもの | ・・・ろう付、半田付によるもの | ・・冷却機構 | ・スパッタ方式 | ・・放電プラズマによるもの | ・・・電極配置 | ・・・・２極式 | ・・・・・同軸型 | |||
| DC31 | DC32 | DC33 | DC34 | DC35 | DC37 | DC39 | DC40 | |||||
| ・・・・３、４極式 | ・・・・対向ターゲット型 | ・・・電源 | ・・・・直流 | ・・・・高周波 | ・・イオンビームスパッタ | ・・マグネトロンスパッタ | ・・・永久磁石による | |||||
| DC41 | DC42 | DC43 | DC44 | DC45 | DC46 | DC48 | ||||||
| ・・・電磁石による | ・・・磁石の形状，構造 | ・・・磁石の配置 | ・・・ターゲット，磁石の相対運動 | ・・・・ターゲット，磁石の回転（自，公転） | ・・・・ターゲット，磁石の移動（水平，垂直） | ・・マイクロ波によるＥＣＲ適用 | ||||||
| DD | DD00 イオンプレーティング装置 |
DD01 | DD02 | DD03 | DD04 | DD05 | DD06 | |||||
| ・直流放電式 | ・高周波放電式 | ・クラスターイオンビーム式 | ・熱陰極式 | ・電子銃を有する、ＨＣＤ式 | ・アーク放電式 | |||||||
| DE | DE00 イオン注入、イオンビームミキシング装置 |
DE01 | DE02 | DE03 | DE04 | DE05 | DE06 | |||||
| ・イオンビーム発生装置 | ・・イオン源 | ・・イオン分離装置 | ・・イオン加速装置 | ・イオンビーム偏向装置 | ・イオンビーム走査装置 | |||||||
| EA | EA00 測定、制御 |
EA01 | EA02 | EA03 | EA04 | EA05 | EA06 | EA07 | EA08 | EA09 | ||
| ・膜厚 | ・蒸発速度、スパッタ速度 | ・ガス圧、真空度 | ・ガス流量 | ・ガス組成 | ・プラズマ | ・蒸気流分布 | ・基板温度 | ・供給電力 | ||||
| FA | FA00 前処理 |
FA01 | FA02 | FA03 | FA04 | FA05 | FA06 | FA07 | FA09 | |||
| ・基体の前処理 | ・・粗面化 | ・・平滑化 | ・・清浄化、クリーニング | ・・放電処理、プラズマ処理 | ・・加熱処理 | ・・樹脂下地層、アンダコート層の形成 | ・槽内前処理 | |||||
| GA | GA00 後処理 |
GA01 | GA02 | GA03 | GA05 | |||||||
| ・加熱処理 | ・放電処理、プラズマ処理 | ・樹脂層、トップコート層の形成 | ・膜と基体の剥離 | |||||||||
| HA | HA00 部分被覆方法 |
HA01 | HA02 | HA03 | HA04 | HA05 | HA07 | |||||
| ・機械的マスクによる | ・・マスク材質 | ・・マスク形状、構造 | ・・マスク固定手段 | ・マスキング剤による | ・レジストによる | |||||||
| JA | JA00 基体支持 |
JA01 | JA02 | JA03 | JA05 | JA06 | JA08 | JA10 | ||||
| ・基体ホルダー | ・・回転機構 | ・・・プラネタリー式 | ・ホルダーへの基体取付手段 | ・・治具による | ・基体自身の回転 | ・長尺体支持ローラー | ||||||
| KA | KA00 連続処理 |
KA01 | KA02 | KA03 | KA05 | KA06 | KA07 | KA09 | ||||
| ・基体の搬送 | ・・基体収納容器、カセット | ・・搬送ローラー | ・シール装置 | ・・液体シール | ・・ロールシール | ・基体取入・取出室、副真空室 |