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4G072 | 珪素及び珪素化合物 | 無機化学 |
C01B33/00 -33/193 |
C01B33/00-33/193 | AA | AA00 主題(必須観点) |
AA01 | AA02 | AA03 | AA04 | AA05 | AA06 | AA07 | AA08 | AA09 | AA10 |
・珪素、シリコン | ・doped―Si | ・a―Si、アモルファス珪素 | ・a―Si:H、アモルファス水素化珪素 | ・珪素の水素化物 | ・・SiH4、シラン | ・・Si2H6、ジシラン | ・珪素の弗化物 | ・・SiF4、4弗化珪素 | ・・SiHF3、トリフルオロシラン | |||
AA11 | AA12 | AA13 | AA14 | AA15 | AA16 | AA17 | AA18 | AA19 | AA20 | |||
・珪素の塩化物 | ・・SiCl4、4塩化珪素 | ・・Si2Cl6 | ・・SiHCl3、トリクロロシラン | ・珪素の臭化物、珪素の沃化物 | ・珪素の混合ハロゲン化物 | ・珪弗化水素酸、H2SiF6 | ・アルカリ金属珪弗化物 | ・その他の珪弗化物 | ・珪化物 | |||
AA21 | AA22 | AA24 | AA25 | AA26 | AA27 | AA28 | AA29 | AA30 | ||||
・・Tiの | ・・Cr、Mo、Wの | ・一酸化珪素、Sio | ・二酸化珪素、シリカ,Sio2 | ・・無水 | ・・含水 | ・コロンド系シリカ(CCも付与) | ・結晶性シリカ | ・・石英 | ||||
AA31 | AA32 | AA33 | AA34 | AA35 | AA36 | AA37 | AA38 | |||||
・・水晶 | ・・クリストバライト | ・ゼオライト型構造の結晶性シリカ | ・石英ガラス | ・他の酸化物をを含むシリカ | ・・Al2O3 | ・・TiO2 | ・その他の物質を含むシリカ | |||||
AA41 | AA44 | AA45 | AA50 | |||||||||
・被覆シリカ | ・珪石、珪砂 | ・珪藻土 | ・その他 | |||||||||
BB | BB00 形状・構造 |
BB01 | BB02 | BB03 | BB04 | BB05 | BB06 | BB07 | BB08 | BB09 | BB10 | |
・塊状 | ・板状 | ・棒状 | ・繊維 | ・粒状、粉状 | ・長粒状 | ・球状 | ・錠剤型 | ・薄膜 | ・多層膜 | |||
BB11 | BB12 | BB13 | BB14 | BB15 | BB16 | BB20 | ||||||
・単結晶 | ・多結晶 | ・非晶質、アモルファス | ・ガラス | ・多孔質 | ・中空状 | ・その他 | ||||||
CC | CC00 コロイド系 |
CC01 | CC02 | CC04 | CC05 | CC07 | CC08 | CC10 | ||||
・ヒドロゾル | ・オルガノゾル | ・ヒドロゲル | ・オルガノゲル | ・キセロゲル | ・エアロゲル | ・シリカゲル | ||||||
CC11 | CC13 | CC14 | CC16 | CC18 | CC20 | |||||||
・超微粉シリカゲル | ・コロイドシリカ、ホワイトカーボン | ・沈降性シリカ | ・煙霧状シリカ、高熱シリカ | ・溶融シリカ、ヒューズドシリカ | ・その他 | |||||||
DD | DD00 粒径 |
DD01 | DD02 | DD03 | DD04 | DD05 | DD06 | DD07 | DD08 | DD09 | ||
・1mm以上 | ・1-0.1mm | ・0.1-0.01mm | ・0.01-0.001mm(10-1μm) | ・1-0.1μm | ・0.1-0.01μm | ・0.01-0.001μm(10-1mμ) | ・1-0.1mμ(nm) | ・0.1mμ(1A)以下 | ||||
EE | EE00 分散媒体 |
EE01 | EE02 | EE03 | EE05 | EE06 | EE07 | EE10 | ||||
・水 | ・酸 | ・アルカリ | ・エタノール | ・その他のアルコール | ・その他の有機溶媒 | ・その他 | ||||||
FF | FF00 薄膜基材 |
FF01 | FF02 | FF04 | FF06 | FF07 | FF09 | FF10 | ||||
・ガラス | ・セラミックス | ・金属 | ・その他の無機材料 | ・有機材料 | ・半導体 | ・その他 | ||||||
GG | GG00 発明のカテゴリー |
GG01 | GG02 | GG03 | GG04 | GG05 | ||||||
・単一物質 | ・組成物 | ・方法 | ・装置 | ・装置図面 | ||||||||
HH | HH00 珪素系反応剤、原料、処理剤 |
HH01 | HH02 | HH03 | HH04 | HH05 | HH06 | HH07 | HH08 | HH09 | HH10 | |
・珪素 | ・金属珪化物、珪素合金 | ・珪素の水素化物 | ・・SiH4 | ・珪素の弗化物 | ・・SiF4 | ・珪素の塩化物 | ・・SiCl4 | ・・SiHCl3 | ・珪素の臭化物、珪素の沃化物 | |||
HH11 | HH13 | HH14 | HH15 | HH16 | HH17 | HH18 | HH19 | HH20 | ||||
・珪素の混合ハロゲン化物 | ・一酸化珪素 | ・二酸化珪素(HH17-33/20以外) | ・・結晶性 | ・・非晶質 | ・コロイド系シリカ | ・・ゾル | ・・ゲル | ・珪石、珪砂 | ||||
HH21 | HH22 | HH23 | HH24 | HH25 | HH26 | HH28 | HH29 | HH30 | ||||
・珪酸ナトリウム、水ガラス | ・その他のアルカリ金属珪酸塩 | ・アルカリ土類金属珪酸塩 | ・その他の珪酸塩 | ・珪弗化水素酸 | ・珪弗化物 | ・有機珪素化合物 | ・・アルキル珪素 | ・・アルコキシシラン | ||||
HH33 | HH36 | HH37 | HH38 | HH39 | HH40 | |||||||
・その他の珪素化合物 | ・鉱物 | ・粘土 | ・スラグ | ・植物体 | ・廃棄物 | |||||||
HH41 | HH43 | HH50 | ||||||||||
・・湿式リン酸からの | ・地下水 | ・その他 | ||||||||||
JJ | JJ00 非珪素系反応剤、原料、処理剤 |
JJ01 | JJ02 | JJ03 | JJ04 | JJ05 | JJ06 | JJ07 | JJ08 | JJ09 | ||
・水素 | ・炭素 | ・酸素 | ・ハロゲン | ・・フッ素 | ・・塩素 | ・その他の非金属元素 | ・アルカリ金属元素 | ・その他の金属元素 | ||||
JJ11 | JJ12 | JJ13 | JJ14 | JJ15 | JJ16 | JJ17 | JJ18 | |||||
・水 | ・炭酸ガス | ・酸 | ・・HCl | ・・H2SO4 | ・・HNO3 | ・・H3PO4 | ・・HF | |||||
JJ21 | JJ22 | JJ23 | JJ25 | JJ26 | JJ28 | JJ30 | ||||||
・アルカリ | ・・NaOH | ・・NH3 | ・水素化物 | ・酸化物 | ・金属ハロゲン化物 | ・その他の金属塩 | ||||||
JJ33 | JJ34 | JJ38 | JJ39 | |||||||||
・アンモニウム化合物 | ・その他の無機化合物 | ・アルコール | ・・エタノール | |||||||||
JJ41 | JJ42 | JJ44 | JJ45 | JJ46 | JJ47 | JJ50 | ||||||
・有機酸 | ・窒素含有有機化合物 | ・アルキル金属 | ・その他の有機金属化合物 | ・金属アルコキシド | ・その他の有機化合物 | ・その他 | ||||||
KK | KK00 添加剤・触媒 |
KK01 | KK03 | KK05 | KK06 | KK07 | KK09 | |||||
・酸 | ・アルカリ | ・珪酸塩 | ・硫酸塩 | ・その他の金属塩 | ・その他の無機化合物 | |||||||
KK11 | KK13 | KK15 | KK17 | KK20 | ||||||||
・金属元素 | ・アルコール | ・窒素含有有機化合物 | ・その他の有機化合物 | ・その他 | ||||||||
LL | LL00 反応、処理媒体 |
LL01 | LL02 | LL03 | LL04 | LL05 | LL06 | LL07 | LL09 | |||
・水素 | ・窒素 | ・不活性ガス | ・炭酸ガス | ・その他の気体 | ・水 | ・酸 | ・アルカリ | |||||
LL11 | LL13 | LL14 | LL15 | LL17 | LL19 | |||||||
・アルコール | ・エーテル | ・窒素含有有機溶媒 | ・その他の有機溶媒 | ・その他の液体 | ・固体 | |||||||
MM | MM00 反応、分離系操作 |
MM01 | MM02 | MM03 | MM04 | MM06 | MM08 | MM09 | ||||
・生成反応 | ・混合、剪断 | ・分離、回収 | ・溶媒抽出 | ・濃縮 | ・精製 | ・蒸留 | ||||||
MM11 | MM12 | MM13 | MM14 | MM17 | ||||||||
・吸着 | ・・活性炭 | ・・ゼオライト | ・イオン交換 | ・錯化合物形成 | ||||||||
MM21 | MM22 | MM23 | MM24 | MM25 | MM26 | MM28 | ||||||
・析出、沈澱 | ・ろ過 | ・洗浄 | ・・酸 | ・・アルカリ | ・粉砕 | ・分級、篩分 | ||||||
MM31 | MM32 | MM33 | MM34 | MM35 | MM36 | MM37 | MM38 | MM40 | ||||
・乾燥 | ・噴霧乾燥 | ・真空乾燥 | ・凍結乾燥 | ・脱水 | ・焼成 | ・焼結 | ・溶融 | ・その他 | ||||
NN | NN00 結晶、薄膜系操作 |
NN01 | NN02 | NN03 | NN05 | NN06 | NN09 | NN10 | ||||
・多結晶化 | ・鋳造法 | ・単結晶成長 | ・帯域溶融 | ・非晶質化 | ・真空蒸着 | ・分子線エピタキシー、MBE | ||||||
NN11 | NN13 | NN14 | NN15 | NN16 | NN17 | NN18 | ||||||
・スパッタリング | ・CVD法 | ・シーメンス法 | ・・1担体 | ・・複数担体 | ・・門形担体 | ・PCVD法 | ||||||
NN21 | NN24 | NN25 | NN27 | NN30 | ||||||||
・溶液からの薄膜形成 | ・エピタキシャル成長(MBE以外) | ・doping | ・エッチング | ・その他 | ||||||||
PP | PP00 コロイド系操作 |
PP01 | PP02 | PP03 | PP05 | PP06 | PP07 | PP09 | ||||
・ゾル生成 | ・ゾル成長 | ・ゾルのゲル化 | ・ゲル生成 | ・ゲル熟成、エイジング | ・ゲルの分散、ゾル化 | ・ヒール形成 | ||||||
PP11 | PP12 | PP13 | PP14 | PP15 | PP17 | PP20 | ||||||
・限外ろ過 | ・透折 | ・電解透折 | ・有機溶媒置換 | ・有機溶媒留去 | ・ゾル―ゲル法 | ・その他 | ||||||
QQ00 二次的操作・その他の操作 |
QQ01 | QQ02 | QQ03 | QQ05 | QQ06 | QQ07 | QQ09 | |||||
・造粒 | ・成形 | ・圧縮 | ・安定化 | ・表面処理、改質(疏水化以外) | ・疏水化 | ・被覆 | ||||||
QQ13 | QQ16 | QQ20 | ||||||||||
・廃棄物処理 | ・制御 | ・その他 | ||||||||||
RR | RR00 反応、処理方式・加熱方式・反応、処理装置 |
RR01 | RR02 | RR03 | RR04 | RR05 | RR06 | RR07 | ||||
・分解反応 | ・不均化反応 | ・酸化 | ・還元 | ・加水分解 | ・中和 | ・その他の反応 | ||||||
RR11 | RR12 | RR13 | RR15 | RR16 | RR17 | RR19 | RR20 | |||||
・気相法 | ・液相法 | ・固相法 | ・多段階法 | ・再循環法 | ・流動化法 | ・水熱処理 | ・オートクレーブ処理 | |||||
RR21 | RR22 | RR23 | RR24 | RR25 | RR26 | RR28 | RR30 | |||||
・電気炉 | ・アーク炉 | ・高周波 | ・マイクロ波 | ・プラズマ | ・レーザ | ・電極 | ・その他 | |||||
SS | SS00 珪酸塩と酸の反応方式 |
SS01 | SS02 | SS04 | SS05 | SS06 | SS07 | SS09 | SS10 | |||
・酸を添加 | ・珪酸塩を添加 | ・バッチ方式、1回方式 | ・回分方式、断続方式 | ・連続添加方式 | ・同時添加方式 | ・強酸性条件(pH1以下) | ・酸性条件(pH2-5) | |||||
SS11 | SS12 | SS14 | SS20 | |||||||||
・中性条件(pH6-8) | ・アルカリ性条件(pH9以上) | ・第3物質添加(KKも付与) | ・その他 | |||||||||
TT | TT00 性質(クレーム) |
TT01 | TT02 | TT04 | TT05 | TT06 | TT08 | TT09 | ||||
・粒径 | ・粒径分布 | ・嵩密度、見掛比重(g/ml) | ・比表面積(m2/g) | ・BET比表面積 | ・平均細孔径 | ・細孔容積(ml/g) | ||||||
TT11 | TT12 | TT14 | TT15 | TT17 | TT19 | TT20 | ||||||
・吸油量(ml/100g) | ・DBP値 | ・JIS規格 | ・DIN規格(ドイツ工業規格) | ・導電率 | ・不純物量 | ・・アルカリ金属 | ||||||
TT21 | TT30 | |||||||||||
・・U、Th | ・その他 | |||||||||||
UU | UU00 分野・用途 |
UU01 | UU02 | UU03 | UU04 | UU07 | UU08 | UU09 | ||||
・半導体 | ・太陽電池 | ・光導電材料 | ・感光体 | ・充填剤 | ・・ゴム | ・・プラスチック | ||||||
UU11 | UU12 | UU13 | UU15 | UU17 | UU19 | |||||||
・吸着剤 | ・乾燥剤 | ・クロマトグラフ | ・触媒 | ・担体 | ・オレフィン重合 | |||||||
UU21 | UU22 | UU23 | UU25 | UU26 | UU27 | UU30 | ||||||
・ガラス原料 | ・歯磨き | ・歯科 | ・製紙 | ・繊維 | ・食品 | ・その他 |