English
閉じる

Fタームリスト

4G072 珪素及び珪素化合物 無機化学
C01B33/00 -33/193
C01B33/00-33/193 AA AA00
主題（必須観点） 		AA01 AA02 AA03 AA04 AA05 AA06 AA07 AA08 AA09 AA10
・珪素、シリコン ・ｄｏｐｅｄ―Ｓｉ ・ａ―Ｓｉ、アモルファス珪素 ・ａ―Ｓｉ：Ｈ、アモルファス水素化珪素 ・珪素の水素化物 ・・ＳｉＨ４、シラン ・・Ｓｉ２Ｈ６、ジシラン ・珪素の弗化物 ・・ＳｉＦ４、４弗化珪素 ・・ＳｉＨＦ３、トリフルオロシラン
AA11 AA12 AA13 AA14 AA15 AA16 AA17 AA18 AA19 AA20
・珪素の塩化物 ・・ＳｉＣｌ４、４塩化珪素 ・・Ｓｉ２Ｃｌ６ ・・ＳｉＨＣｌ３、トリクロロシラン ・珪素の臭化物、珪素の沃化物 ・珪素の混合ハロゲン化物 ・珪弗化水素酸、Ｈ２ＳｉＦ６ ・アルカリ金属珪弗化物 ・その他の珪弗化物 ・珪化物
AA21 AA22 AA24 AA25 AA26 AA27 AA28 AA29 AA30
・・Ｔｉの ・・Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗの ・一酸化珪素、Ｓｉｏ ・二酸化珪素、シリカ，Ｓｉｏ２ ・・無水 ・・含水 ・コロンド系シリカ（ＣＣも付与） ・結晶性シリカ ・・石英
AA31 AA32 AA33 AA34 AA35 AA36 AA37 AA38
・・水晶 ・・クリストバライト ・ゼオライト型構造の結晶性シリカ ・石英ガラス ・他の酸化物をを含むシリカ ・・Ａｌ２Ｏ３ ・・ＴｉＯ２ ・その他の物質を含むシリカ
AA41 AA44 AA45 AA50
・被覆シリカ ・珪石、珪砂 ・珪藻土 ・その他
BB BB00
形状・構造 		BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09 BB10
・塊状 ・板状 ・棒状 ・繊維 ・粒状、粉状 ・長粒状 ・球状 ・錠剤型 ・薄膜 ・多層膜
BB11 BB12 BB13 BB14 BB15 BB16 BB20
・単結晶 ・多結晶 ・非晶質、アモルファス ・ガラス ・多孔質 ・中空状 ・その他
CC CC00
コロイド系 		CC01 CC02 CC04 CC05 CC07 CC08 CC10
・ヒドロゾル ・オルガノゾル ・ヒドロゲル ・オルガノゲル ・キセロゲル ・エアロゲル ・シリカゲル
CC11 CC13 CC14 CC16 CC18 CC20
・超微粉シリカゲル ・コロイドシリカ、ホワイトカーボン ・沈降性シリカ ・煙霧状シリカ、高熱シリカ ・溶融シリカ、ヒューズドシリカ ・その他
DD DD00
粒径 		DD01 DD02 DD03 DD04 DD05 DD06 DD07 DD08 DD09
・１ｍｍ以上 ・１－０．１ｍｍ ・０．１－０．０１ｍｍ ・０．０１－０．００１ｍｍ（１０－１μｍ） ・１－０．１μｍ ・０．１－０．０１μｍ ・０．０１－０．００１μｍ（１０－１ｍμ） ・１－０．１ｍμ（ｎｍ） ・０．１ｍμ（１Ａ）以下
EE EE00
分散媒体 		EE01 EE02 EE03 EE05 EE06 EE07 EE10
・水 ・酸 ・アルカリ ・エタノール ・その他のアルコール ・その他の有機溶媒 ・その他
FF FF00
薄膜基材 		FF01 FF02 FF04 FF06 FF07 FF09 FF10
・ガラス ・セラミックス ・金属 ・その他の無機材料 ・有機材料 ・半導体 ・その他
GG GG00
発明のカテゴリー 		GG01 GG02 GG03 GG04 GG05
・単一物質 ・組成物 ・方法 ・装置 ・装置図面
HH HH00
珪素系反応剤、原料、処理剤 		HH01 HH02 HH03 HH04 HH05 HH06 HH07 HH08 HH09 HH10
・珪素 ・金属珪化物、珪素合金 ・珪素の水素化物 ・・ＳｉＨ４ ・珪素の弗化物 ・・ＳｉＦ４ ・珪素の塩化物 ・・ＳｉＣｌ４ ・・ＳｉＨＣｌ３ ・珪素の臭化物、珪素の沃化物
HH11 HH13 HH14 HH15 HH16 HH17 HH18 HH19 HH20
・珪素の混合ハロゲン化物 ・一酸化珪素 ・二酸化珪素（ＨＨ１７－３３／２０以外） ・・結晶性 ・・非晶質 ・コロイド系シリカ ・・ゾル ・・ゲル ・珪石、珪砂
HH21 HH22 HH23 HH24 HH25 HH26 HH28 HH29 HH30
・珪酸ナトリウム、水ガラス ・その他のアルカリ金属珪酸塩 ・アルカリ土類金属珪酸塩 ・その他の珪酸塩 ・珪弗化水素酸 ・珪弗化物 ・有機珪素化合物 ・・アルキル珪素 ・・アルコキシシラン
HH33 HH36 HH37 HH38 HH39 HH40
・その他の珪素化合物 ・鉱物 ・粘土 ・スラグ ・植物体 ・廃棄物
HH41 HH43 HH50
・・湿式リン酸からの ・地下水 ・その他
JJ JJ00
非珪素系反応剤、原料、処理剤 		JJ01 JJ02 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 JJ07 JJ08 JJ09
・水素 ・炭素 ・酸素 ・ハロゲン ・・フッ素 ・・塩素 ・その他の非金属元素 ・アルカリ金属元素 ・その他の金属元素
JJ11 JJ12 JJ13 JJ14 JJ15 JJ16 JJ17 JJ18
・水 ・炭酸ガス ・酸 ・・ＨＣｌ ・・Ｈ２ＳＯ４ ・・ＨＮＯ３ ・・Ｈ３ＰＯ４ ・・ＨＦ
JJ21 JJ22 JJ23 JJ25 JJ26 JJ28 JJ30
・アルカリ ・・ＮａＯＨ ・・ＮＨ３ ・水素化物 ・酸化物 ・金属ハロゲン化物 ・その他の金属塩
JJ33 JJ34 JJ38 JJ39
・アンモニウム化合物 ・その他の無機化合物 ・アルコール ・・エタノール
JJ41 JJ42 JJ44 JJ45 JJ46 JJ47 JJ50
・有機酸 ・窒素含有有機化合物 ・アルキル金属 ・その他の有機金属化合物 ・金属アルコキシド ・その他の有機化合物 ・その他
KK KK00
添加剤・触媒 		KK01 KK03 KK05 KK06 KK07 KK09
・酸 ・アルカリ ・珪酸塩 ・硫酸塩 ・その他の金属塩 ・その他の無機化合物
KK11 KK13 KK15 KK17 KK20
・金属元素 ・アルコール ・窒素含有有機化合物 ・その他の有機化合物 ・その他
LL LL00
反応、処理媒体 		LL01 LL02 LL03 LL04 LL05 LL06 LL07 LL09
・水素 ・窒素 ・不活性ガス ・炭酸ガス ・その他の気体 ・水 ・酸 ・アルカリ
LL11 LL13 LL14 LL15 LL17 LL19
・アルコール ・エーテル ・窒素含有有機溶媒 ・その他の有機溶媒 ・その他の液体 ・固体
MM MM00
反応、分離系操作 		MM01 MM02 MM03 MM04 MM06 MM08 MM09
・生成反応 ・混合、剪断 ・分離、回収 ・溶媒抽出 ・濃縮 ・精製 ・蒸留
MM11 MM12 MM13 MM14 MM17
・吸着 ・・活性炭 ・・ゼオライト ・イオン交換 ・錯化合物形成
MM21 MM22 MM23 MM24 MM25 MM26 MM28
・析出、沈澱 ・ろ過 ・洗浄 ・・酸 ・・アルカリ ・粉砕 ・分級、篩分
MM31 MM32 MM33 MM34 MM35 MM36 MM37 MM38 MM40
・乾燥 ・噴霧乾燥 ・真空乾燥 ・凍結乾燥 ・脱水 ・焼成 ・焼結 ・溶融 ・その他
NN NN00
結晶、薄膜系操作 		NN01 NN02 NN03 NN05 NN06 NN09 NN10
・多結晶化 ・鋳造法 ・単結晶成長 ・帯域溶融 ・非晶質化 ・真空蒸着 ・分子線エピタキシー、ＭＢＥ
NN11 NN13 NN14 NN15 NN16 NN17 NN18
・スパッタリング ・ＣＶＤ法 ・シーメンス法 ・・１担体 ・・複数担体 ・・門形担体 ・ＰＣＶＤ法
NN21 NN24 NN25 NN27 NN30
・溶液からの薄膜形成 ・エピタキシャル成長（ＭＢＥ以外） ・ｄｏｐｉｎｇ ・エッチング ・その他
PP PP00
コロイド系操作 		PP01 PP02 PP03 PP05 PP06 PP07 PP09
・ゾル生成 ・ゾル成長 ・ゾルのゲル化 ・ゲル生成 ・ゲル熟成、エイジング ・ゲルの分散、ゾル化 ・ヒール形成
PP11 PP12 PP13 PP14 PP15 PP17 PP20
・限外ろ過 ・透折 ・電解透折 ・有機溶媒置換 ・有機溶媒留去 ・ゾル―ゲル法 ・その他
QQ QQ00
二次的操作・その他の操作 		QQ01 QQ02 QQ03 QQ05 QQ06 QQ07 QQ09
・造粒 ・成形 ・圧縮 ・安定化 ・表面処理、改質（疏水化以外） ・疏水化 ・被覆
QQ13 QQ16 QQ20
・廃棄物処理 ・制御 ・その他
RR RR00
反応、処理方式・加熱方式・反応、処理装置 		RR01 RR02 RR03 RR04 RR05 RR06 RR07
・分解反応 ・不均化反応 ・酸化 ・還元 ・加水分解 ・中和 ・その他の反応
RR11 RR12 RR13 RR15 RR16 RR17 RR19 RR20
・気相法 ・液相法 ・固相法 ・多段階法 ・再循環法 ・流動化法 ・水熱処理 ・オートクレーブ処理
RR21 RR22 RR23 RR24 RR25 RR26 RR28 RR30
・電気炉 ・アーク炉 ・高周波 ・マイクロ波 ・プラズマ ・レーザ ・電極 ・その他
SS SS00
珪酸塩と酸の反応方式 		SS01 SS02 SS04 SS05 SS06 SS07 SS09 SS10
・酸を添加 ・珪酸塩を添加 ・バッチ方式、１回方式 ・回分方式、断続方式 ・連続添加方式 ・同時添加方式 ・強酸性条件（ｐＨ１以下） ・酸性条件（ｐＨ２－５）
SS11 SS12 SS14 SS20
・中性条件（ｐＨ６－８） ・アルカリ性条件（ｐＨ９以上） ・第３物質添加（ＫＫも付与） ・その他
TT TT00
性質（クレーム） 		TT01 TT02 TT04 TT05 TT06 TT08 TT09
・粒径 ・粒径分布 ・嵩密度、見掛比重（ｇ／ｍｌ） ・比表面積（ｍ２／ｇ） ・ＢＥＴ比表面積 ・平均細孔径 ・細孔容積（ｍｌ／ｇ）
TT11 TT12 TT14 TT15 TT17 TT19 TT20
・吸油量（ｍｌ／１００ｇ） ・ＤＢＰ値 ・ＪＩＳ規格 ・ＤＩＮ規格（ドイツ工業規格） ・導電率 ・不純物量 ・・アルカリ金属
TT21 TT30
・・Ｕ、Ｔｈ ・その他
UU UU00
分野・用途 		UU01 UU02 UU03 UU04 UU07 UU08 UU09
・半導体 ・太陽電池 ・光導電材料 ・感光体 ・充填剤 ・・ゴム ・・プラスチック
UU11 UU12 UU13 UU15 UU17 UU19
・吸着剤 ・乾燥剤 ・クロマトグラフ ・触媒 ・担体 ・オレフィン重合
UU21 UU22 UU23 UU25 UU26 UU27 UU30
・ガラス原料 ・歯磨き ・歯科 ・製紙 ・繊維 ・食品 ・その他
TOP