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４Ｄ１４８へ変更（Ｈ２７）
4D048 触媒による排ガス処理 分離処理　　　　　　
B01D53/73 ,500;53/86-53/90;53/94-53/94,400;53/96,500
B01D53/73,500;53/86-53/90;53/94-53/94,400;53/96,500 AA AA00
被処理成分 		AA01 AA02 AA03 AA04 AA05 AA06 AA07 AA08 AA09 AA10
・硫黄化合物（ＦＷ） ・・ＳＯＸ ・・Ｈ２Ｓ ・・ＣＯＳ，ＣＳ２ ・窒素化合物（ＦＷ） ・・ＮＯＸ ・・・Ｎ２Ｏ ・・ＮＨ３ ・・シアン化合物，ニトリル ・・・ＨＣＮ
AA11 AA12 AA13 AA14 AA15 AA16 AA17 AA18 AA19 AA20
・ハロゲン，ハロゲン化物 ・Ｏ３ ・ＣＯ ・未燃カーボン ・リン化合物，ケイ素化合物 ・金属，金属化合物 ・有機化合物（ＡＡ０１～１６優先）（ＦＷ） ・・未燃炭化水素 ・・アルデヒド類 ・・アルコール類
AA21 AA22 AA23 AA24 AA30
・化合物として特定されないもの ・・悪臭成分 ・・有機溶剤成分 ・・油脂，タール ・その他（化合物として特定されるもの）（ＦＷ）
AB AB00
化学反応 		AB01 AB02 AB03 AB05 AB06 AB07 AB10
・酸化，燃焼 ・還元 ・分解 ・多成分同時処理 ・前処理反応を行うもの ・非反応成分による影響のあるもの ・その他
AC AC00
添加処理剤 		AC01 AC02 AC03 AC04 AC05 AC06 AC07 AC08 AC09 AC10
・Ｈ２ ・ＣＯ，炭化水素 ・窒素化合物（ＡＣ０８優先）（ＦＷ） ・・ＮＨ３ ・ハロゲン，ハロゲン化物（ＡＣ０８優先） ・Ｏ２ ・Ｏ３ ・Ｈ２Ｏ２，無機酸 ・有機化合物（ＡＣ０２，０３，０５優先）（ＦＷ） ・その他（ＦＷ）
BA BA00
触媒成分，担体成分 		BA01 BA02 BA03 BA04 BA05 BA06 BA07 BA08 BA09 BA10
・Ｍｇ ・Ｃａ ・Ａｌ ・Ｂ ・Ｃ（炭素化合物はＢＡ４５） ・Ｓｉ ・Ｔｉ ・Ｚｒ ・天然鉱物 ・セラミック
BA11 BA12 BA13 BA14 BA15 BA16 BA17 BA18 BA19 BA20
・ゼオライト ・その他の無機耐火物 ・ＢＡ０１～１２で触媒成分となるもの ・アルカリ金属 ・Ｂｅ，アルカリ土類（Ｍｇ，Ｃａ除く） ・Ｚｎ，Ｃｄ，Ｈｇ ・Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ ・希土類元素，Ｈｆ，Ａｃ系列元素 ・・Ｃｅ ・Ｇｅ，Ｐｂ
BA21 BA22 BA23 BA24 BA25 BA26 BA27 BA28 BA29 BA30
・Ｓｎ ・Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ ・Ｖ ・Ｎｂ，Ｔａ ・Ｃｒ ・Ｍｏ ・Ｗ ・Ｍｎ ・Ｔｃ，Ｒｅ ・Ｐｔ
BA31 BA32 BA33 BA34 BA35 BA36 BA37 BA38 BA39
・Ｐｄ ・Ｒｕ ・Ｒｈ，Ｉｒ，Ｏｓ ・Ａｇ，Ａｕ ・Ｃｕ ・Ｆｅ ・Ｃｏ ・Ｎｉ ・合金担体，金属担体
BA41 BA42 BA43 BA44 BA45 BA46 BA48 BA50
・酸化物 ・・複合酸化物 ・ハロゲン化物 ・Ｐ，リン化合物 ・炭素化合物 ・硫黄化合物，窒素化合物 ・化合物として特定されないもの ・その他（ＦＷ）
BB BB00
触媒，担体の形状，構造 		BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB06 BB07 BB08 BB09
・粒状 ・ハニカム状，格子状 ・平板状（板と平行のガス流） ・波状，凹凸状，突起を設けたもの ・筒状，リング状 ・棒状，線状，針状，コイル状 ・網状 ・繊維状，織布状 ・発泡三次元構造体
BB11 BB12 BB13 BB14 BB15 BB16 BB17 BB18 BB20
・補強構造をとるもの ・特殊形状の通気路をもつもの ・切欠き，溝，孔を設けたもの ・通気路端に閉塞のあるもの ・触媒構造が不均一なもの ・組成，担持量等が不均一なもの ・細孔径，粒径等に特徴のあるもの ・触媒，担体自体の固定，保持用構造 ・その他
BC BC00
触媒の保護 		BC01 BC02 BC03 BC04 BC05 BC06 BC07 BC08 BC09 BC10
・触媒毒をガス中に含むもの（ＦＷ） ・・Ｐを含むもの ・・金属を含むもの ・触媒毒の予備除去 ・触媒に耐被毒処理を施すもの ・摩耗防止 ・・触媒に保護被覆を施すもの ・・粗粒等の予備除去 ・冷却による過熱防止 ・その他
BD BD00
触媒の再生，活性化 		BD01 BD02 BD03 BD04 BD05 BD06 BD07 BD10
・加熱によるもの ・ガス処理によるもの ・・還元剤を使用するもの ・・酸化剤を使用するもの ・液体処理によるもの ・・水洗 ・再調製によるもの ・その他
CA CA00
触媒を静置する装置 		CA01 CA02 CA03 CA04 CA05 CA06 CA07 CA08 CA10
・容器，ケース ・成形触媒のユニット化 ・塔，槽 ・・ダウンフローのもの ・ラジアルフローのもの ・シート状，層状 ・反応器，塔，槽の形状，構造に特徴 ・容器，塔，槽の製法に特徴 ・その他
CB CB00
触媒が動く装置 		CB01 CB02 CB03 CB04 CB05 CB06 CB07 CB10
・移動床 ・・保持手段等に特徴のあるもの ・流動床 ・気流搬送式 ・回転式 ・・一体成形触媒の使用 ・無端ベルト ・その他
CC CC00
装置一般、細部構造 		CC01 CC02 CC03 CC04 CC05 CC06 CC07 CC08 CC09 CC10
・触媒の保持、シール ・・緩衝保持部材、シール部材 ・・・金属製 ・・・無機耐火物製 ・・・熱膨張材料の使用 ・・・形状、製法に特徴のあるもの ・・シール部への触媒配置 ・・触媒ユニットの固定保持用構造 ・・連結棒、枠による保持 ・・支持部材に特徴のあるもの
CC11 CC12 CC13 CC14 CC15 CC16 CC17
・ダスト対策（ＣＤ０３―０５優先） ・・ダストの堆積防止装置 ・・・山形部材の使用 ・・付着物の機械的除去 ・・・削取り、掃取り ・・・エアー吹付け ・・・触媒の浮動、攪拌、振動
CC21 CC22 CC23 CC24 CC25 CC26 CC27 CC28 CC29
・ガス流関係 ・・整流機構を有するもの ・・ガス混合、攪拌機構を有するもの ・・流路面積、流速の調節 ・・ガス流方向の調節、切換え ・・ガス流バイパス路 ・・処理ガス循環流路 ・・同一触媒層に複数回流すもの（ＣＣ２７優先） ・・触媒間等の隙間にガスを流すもの
CC31 CC32 CC33 CC34 CC35 CC36 CC38 CC39 CC40
・触媒の配置 ・・触媒反応部が複数のもの ・・・並列配置 ・・複数の矩形触媒層側面からガスを排出するもの ・・ガス流に対し触媒を傾けるもの ・・触媒の積層配置に特徴 ・・特定機器への取付 ・・・燃焼機器 ・・・空気浄化機
CC41 CC42 CC43 CC44 CC45 CC46 CC47 CC48 CC49 CC50
・・他機能のものとの一体化 ・・・熱交換器 ・・・加熱手段 ・・異種触媒の使用 ・・・形状、サイズの異なるもの ・・・組成の異なるもの ・・・・酸化触媒と還元触媒 ・・・・活性温度の異なるもの ・・・担持量等の異なるもの ・・・混合状態で使用するもの
CC51 CC52 CC53 CC54 CC55 CC57 CC58 CC59
・温度調節（ＣＣ２１～２９，ＢＣ０９優先） ・・加熱手段（ＣＣ４３，５４優先） ・・・触媒自体の加熱 ・・熱交換器（ＣＣ４２，５５優先） ・・触媒層温度の均一化構造 ・触媒ユニットの形状（ＣＣ０８優先） ・・触媒層内を区画するもの ・・触媒層容積の調節
CC61 CC62 CC63 CC70
・処理剤添加装置の構造、配置に特徴 ・触媒の充填、搬送に特徴 ・装置の材質に特徴 ・その他
CD CD00
他の装置との組合せ 		CD01 CD02 CD03 CD04 CD05 CD06 CD08 CD10
・吸着、乾式吸収装置 ・湿式吸収装置 ・集塵装置 ・・移動床式 ・・フィルター式 ・触媒活性検査装置 ・配置順序に特徴 ・その他
DA DA00
制御、検知、数値限定 		DA01 DA02 DA03 DA05 DA06 DA07 DA08 DA09 DA10
・制御 ・検知 ・数値限定 ・ガス流量 ・ガス温度 ・ガス圧力 ・被処理成分濃度 ・処理剤濃度 ・処理剤添加量
DA11 DA12 DA13 DA20
・触媒濃度 ・触媒供給量 ・触媒温度 ・その他の制御、検知、数値限定の対象
EA EA00
その他の特徴 		EA01 EA02 EA03 EA04 EA05 EA06 EA07 EA08 EA10
・光、紫外線照射 ・触媒層を電極とするもの ・放電、磁気、超音波処理 ・触媒が吸着、吸収作用をもつもの ・ダスト等からの成分回収 ・熱膨張対策 ・後処理を行うもの ・触媒の取付方法に特徴があるもの ・その他
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