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テーマ名変更（Ｈ４）
| 2G001 | 放射線を利用した材料分析 | 物理測定 |
| G01N23/00 -23/2276 | ||
| G01N23/00-23/2276 | AA | AA00 試料入射粒子（源），刺激（含意図外，直分析外） |
AA01 | AA02 | AA03 | AA04 | AA05 | AA06 | AA07 | AA08 | AA09 | AA10 |
| ・Ｘ | ・γ | ・ｅ（β） | ・ｎ（含中性粒子） | ・ｉ；重（≠ｎ） | ・・不活性 | ・電磁波（≠Ｘ，γ） | ・他（粒子；刺激）Ｆ | ・Ｅ（λ）言及Ｆ | ・ＰＣ（種；Ｅ；源数） | |||
| AA11 | AA12 | AA13 | AA15 | AA20 | ||||||||
| ・Ｉｓｏｔｏｐｅ | ・炉 | ・他（線源） | ・流用；兼用 | ・テ－マ | ||||||||
| BA | BA00 利用，言及生起現象；分折手法（含意図外、直分析外） |
BA01 | BA02 | BA03 | BA04 | BA05 | BA06 | BA07 | BA08 | BA09 | ||
| ・核関与（≠散） | ・・ｎ－捕獲 | ・・メスバウア | ・螢光Ｘ線 | ・特性Ｘ（≠螢） | ・スパッタ；衝撃 | ・２次電子 | ・・光電子 | ・・オ－ジェ | ||||
| BA11 | BA12 | BA13 | BA14 | BA15 | BA16 | BA17 | BA18 | BA19 | BA20 | |||
| ・透過；吸収 | ・・分光透・吸 | ・・・吸収端関連 | ・散乱（≠回） | ・・後方：反射 | ・・非弾性 | ・エキソ電子 | ・回折 | ・・ラウェ（法） | ・・ＷＢ；ＰＣ；回転（振）法 | |||
| BA21 | BA22 | BA23 | BA24 | BA25 | BA26 | BA27 | BA28 | BA29 | BA30 | |||
| ・・コッセル（含擬） | ・・粉末，多結晶；ＤＳ，集中（法） | ・・ディフラクトメ－タ（法） | ・・ラング；ＢＢ等回顕 | ・・応力関連特定法Ｆ | ・・他特定法，カメラ等Ｆ | ・・他特定概念用語等（≠面指）Ｆ | ・他自分野Ｆ | ・他分野Ｆ | ・ＰＣ（種） | |||
| CA | CA00 試料出射粒子（含意図外，直分析外） |
CA01 | CA02 | CA03 | CA04 | CA05 | CA07 | CA08 | CA10 | |||
| ・Ｘ | ・γ | ・ｅ（β） | ・ｎ（含中性粒子） | ・ｉ；重（≠ｎ） | ・電磁波（≠Ｘ．γ） | ・他粒子Ｆ | ・ＰＣ（種） | |||||
| DA | DA00 検出器関連言及 |
DA01 | DA02 | DA03 | DA05 | DA06 | DA07 | DA08 | DA09 | DA10 | ||
| ・形；構；材；製 | ・配置；方向 | ・粒子遮閉；保全 | ・他特徴；言及（Ｆ）；放射線検出以外の各種検出 | ・ＰＣ（数；種） | ・・曲アレイ | ・・直アレイ | ・・２次元以上 | ・テ－マ | ||||
| EA | EA00 分光；弁別（Ｅ，λ；ｅ／ｍ；粒子） |
EA01 | EA02 | EA03 | EA04 | EA05 | EA06 | EA07 | EA08 | EA09 | ||
| ・結晶；格子 | ・・構；型；材；製 | ・波高分折 | ・Ｅ，Ｈ偏向 | ・・フィルタ型 | ・吸収フィルタ（≠ＥＡ０５） | ・他手段Ｆ | ・ＰＣ（数；種） | ・試料入射前 | ||||
| EA20 | ||||||||||||
| ・テ－マ | ||||||||||||
| FA | FA00 信号処理とその周辺手段（測定出力提供とその精度向上関連 |
FA01 | FA02 | FA03 | FA04 | FA05 | FA06 | FA07 | FA08 | FA09 | FA10 | |
| ・標準；基準 | ・・試料；物体 | ・・電気的基準；基準値一般 | ・・粒子モニタ | ・・ＰＣ（数；種） | ・メモリ利用 | ・平衡式 | ・補正；補償（≠ＣＴ算自体） | ・・零点；ＯＦＳ；ＢＬ | ・・非線；数落；欠落等内因 | |||
| FA11 | FA12 | FA13 | FA14 | FA15 | FA16 | FA17 | FA18 | FA19 | FA20 | |||
| ・・外因パラメ－タ補正 | ・・・共存，介在成分 | ・・・・水分 | ・・・重；体；厚；距；密 | ・・・Ｔ；Ｐ | ・・・他外因パラメ－タ補正Ｆ | ・ＳＰ重畳対策関連 | ・特定値言及，算出 | ・ＰＨＡ等波高安定 | ・電源関連 | |||
| FA21 | FA22 | FA23 | FA24 | FA25 | FA29 | FA30 | ||||||
| ・ゲ－ト的手法 | ・・（逆）同時 | ・変調；検波 | ・計数値条件付 | ・測定レンジ関連 | ・その他手法等Ｆ | ・テ－マ | ||||||
| GA | GA00 測定内容；条件；動作等関連変数，量ψ |
GA01 | GA02 | GA03 | GA04 | GA05 | GA06 | GA07 | GA08 | GA09 | GA10 | |
| ・Ｅ：λ | ・ｅ／ｍ；ｍ | ・ｔ；ｄｎ／ｄｔｎ；回等 | ・ｘ（点；位置） | ・ｌ（長；距；線；径） | ・〔ｘ，ｙ〕（面；２次元） | ・・Ｓ（面積） | ・Ｚ（上下；３次元；厚み、奥行方向） | ・Ｖ；Ｅ（電位，圧；ク－ロンカ） | ・Ｈ（磁場；磁力） | |||
| GA11 | GA12 | GA13 | GA14 | GA16 | GA17 | GA19 | ||||||
| ・Ｉ（電流） | ・Ｑ（電荷） | ・θ；ω等（角；向：立体角） | ・・面，ミラ－指数 | ・熱力変数（Ｐ，Ｔ，Ｓ……） | ・・Ｐ以外［Ｔ以外Ｆ］ | ・他変数Ｆ | ||||||
| HA | HA00 表示；記録；像化；観察；報知等 |
HA01 | HA02 | HA03 | HA04 | HA05 | HA06 | HA07 | HA08 | HA09 | HA10 | |
| ・ｆ（ψ） | ・ｇ〔ｆ（ψ）〕 | ・・成分 | ・・Ｇｒａｄｅ付け | ・測定手順；状況 | ・保安情報 | ・像関連演算Ｆ（≠単ＣＴ） | ・・ＣＴ算自体特徴 | ・観察（≠本測定） | ・他情報Ｆ | |||
| HA11 | HA12 | HA13 | HA14 | HA15 | HA16 | HA19 | HA20 | |||||
| ・機械的手段 | ・可光；写真；螢光手段（≠ＨＡ１３；蓄螢、輝尽） | ・撮像的；ＴＶ；ＣＲＴ | ・断層像表示 | ・他表示等手段（Ｆ）（含蓄螢；輝尽） | ・支持等周辺手段関連 | ・他事頃Ｆ | ・テ－マ | |||||
| JA | JA00 制御；動作；調整；安定化；監視；切換；設定等 |
JA01 | JA02 | JA03 | JA04 | JA05 | JA06 | JA07 | JA08 | JA09 | JA10 | |
| ・試料入射前 | ・・管，銃等パラメ－タ；焦点 | ・・偏向 | ・・開口関連 | ・分光；弁別系（≠ＳＡ０７） | ・検出器系（≠ＳＡ０７） | ・測定段階試料 | ・・自転；公転（≠ＳＡ０７） | ・・走行；流動 | ・・振動；攪拌 | |||
| JA11 | JA12 | JA13 | JA14 | JA15 | JA16 | JA17 | JA19 | JA20 | ||||
| ・測定ｓｔｅｐｓ；シ－ケンス | ・・試料関連 | ・表示，記録、撮影等条件制御；関連動作業等（含フィルム送り） | ・環境（Ｔ，Ｐｅｔｃ．） | ・プロセス制御への利用（例圧延、加工） | ・デ－タ等伝送関連（含、ＡＤ、ＤＡ、変換二値化関連） | ・標準（試料；電圧等） | ・その他Ｆ | ・テ－マ | ||||
| KA | KA00 分析の目的；用途；応用；志向 |
KA01 | KA02 | KA03 | KA04 | KA05 | KA06 | KA07 | KA08 | KA09 | KA10 | |
| ・成分；濃，密度 | ・・核種レベル | ・欠陥；損傷 | ・空隙；ボイド（≠ＫＡ０５） | ・境界；レベル；物有無 | ・危険物関連 | ・応力；疲労 | ・結晶パラメ－タＦ | ・合金；メッキ情報 | ・粒度 | |||
| KA11 | KA12 | KA13 | KA14 | KA20 | ||||||||
| ・厚み | ・物性詳細 | ・・電子情報（≠ＫＡ０１） | ・・核情報（≠ＫＡ０２） | ・他目的Ｆ | ||||||||
| LA | LA00 対象試料言及（物品レベル） |
LA01 | LA02 | LA03 | LA04 | LA05 | LA06 | LA07 | LA08 | LA09 | LA10 | |
| ・生体；食；医 | ・金属（的）物品 | ・岩石；鉱物；セメント等 | ・石油；油一般 | ・プラスチック；ゴム等有機材一般 | ・ガラス；セラミックス | ・宝石；貴金属 | ・核；放射性 | ・廃物；余剩物 | ・手荷物類 | |||
| LA11 | LA20 | |||||||||||
| ・電気部品類（例半導体ウエハ） | ・他物品Ｆ | |||||||||||
| MA | MA00 試料形状言及 |
MA01 | MA02 | MA03 | MA04 | MA05 | MA06 | MA07 | MA08 | MA10 | ||
| ・気体 | ・液体 | ・粘性；低流動性体 | ・粉：粒状体 | ・板；膜；ウェブ | ・管状；棒状 | ・環状 | ・球；円板 | ・他形状Ｆ | ||||
| NA | NA00 検出；定量；着目物質とその構成元素；関連特定状態等 |
NA01 | NA02 | NA03 | NA04 | NA05 | NA06 | NA07 | NA08 | NA09 | NA10 | |
| ・Ｈ；水分 | ・不活性元素 | ・Ｃ；Ｎ；Ｏ | ・Ｆ；Ｃｌ，Ｂｒ；Ｉ | ・Ｎａ | ・Ｍｇ；Ａｌ→１７付与 | ・Ｓｉ；Ｐ；Ｇｅ；Ａｓ | ・Ｓ | ・Ｋ；Ｃａ | ・Ｃｒ；Ｍｎ；Ｆｅ→１７付与 | |||
| NA11 | NA12 | NA13 | NA14 | NA15 | NA16 | NA17 | NA18 | NA19 | NA20 | |||
| ・Ｃｏ；Ｎｉ；Ｐｂ→１７付与 | ・Ａｇ；Ｃｄ；Ａｕ；Ｈｇ→１７付与 | ・Ｃｕ；Ｚｎ；Ｓｎ→１７付与 | ・Ｐｕ；Ｕ；Ｔｈ | ・他元素 | ・軽重元素言及 | ・金属 | ・金属化合物 | ・有機物 | ・他化合物 | |||
| NA21 | NA30 | |||||||||||
| ・他物質；特定状態等Ｆ | ・他特記事項Ｆ | |||||||||||
| PA | PA00 測定前後の試料の動き |
PA01 | PA02 | PA03 | PA04 | PA05 | PA06 | PA07 | ||||
| ・採取；受入 | ・交換言及 | ・分類；仕分言及 | ・計量；量，数制御 | ・標準試料 | ・担体；容器ごと | ・環境言及 | ||||||
| PA11 | PA12 | PA13 | PA14 | PA15 | PA16 | PA17 | PA18 | PA19 | PA20 | |||
| ・水平並進 | ・自転 | ・公転；曲線 | ・含上下成分 | ・他運動Ｆ | ・把持；懸架 | ・付着；浸着 | ・流動 | ・気送 | ・バイパス | |||
| PA29 | PA30 | |||||||||||
| ・他事項；手段Ｆ | ・テ－マ | |||||||||||
| QA | QA00 試料保特，収容手段；状態等 |
QA01 | QA02 | QA03 | QA04 | QA10 | ||||||
| ・測定装置内手段特徴 | ・別体特徴（容器；カセット等） | ・他保特関連Ｆ | ・保特，固定なし | ・テ－マ | ||||||||
| RA | RA00 試料作成；調製；試料及び他部分に対する処理；措置等 |
RA01 | RA02 | RA03 | RA04 | RA05 | RA06 | RA07 | RA08 | RA10 | ||
| ・機械的 | ・化学的（含濾過等） | ・熱的 | ・エッチング | ・清浄化 | ・マ－キング | ・脱泡 | ・被覆；密封 | ・他処理；措置等Ｆ | ||||
| RA19 | RA20 | |||||||||||
| ・含対試料外Ｆ | ・テ－マ | |||||||||||
| SA | SA00 機能要素；部品素子；技術手段要素等；雑特記事項その他 |
SA01 | SA02 | SA03 | SA04 | SA05 | SA06 | SA07 | SA08 | SA09 | SA10 | |
| ・開口手段 | ・・ユリメ－ト機能 | ・減速材 | ・粒子阻止（≠ＤＡ，ＥＡ） | ・Ｅ；Ｈの遮閉 | ・Ｅ；Ｈの利用（≠ＥＡ） | ・ゴニオメ－タ等自体 | ・防振言及 | ・不使用時言及 | ・特定材料（≠ＤＡ．ＥＡ）Ｆ | |||
| SA11 | SA12 | SA13 | SA14 | SA15 | SA16 | SA17 | ||||||
| ・粒子強度減衰器（くさび；透過度計等） | ・定規；スケ－ル；チャ－ト等 | ・保護；防護（≠ＤＡ０３） | ・・人体；生物的 | ・・回路的 | ・・機械的；熱的；化学的等 | ・写真等濃度測定；蓄螢読出 | ||||||
| SA29 | SA30 | |||||||||||
| ・他機能；事項参考情報雑メモ等Ｆ | ・テ－マ |