FIメイングループ/ファセット選択

  • C25D1/00
  • 電鋳[2] HB CC 4K023
  • C25D2/00
  • 電気分解による加工品の接合[6] HB CC 4K023
  • C25D3/00
  • 電気鍍金;そのための鍍金浴[2] HB CC 4K023
  • C25D5/00
  • 方法に特徴のある電気鍍金;加工品の前処理または後処理[2] HB CC 4K024
  • C25D7/00
  • 被覆される物品に特徴のある電気鍍金[2] HB CC 4K024
  • C25D9/00
  • 金属以外での電解被覆(C25D11/00,C25D15/00が優先;電気泳動被覆C25D13/00)[2] HB CC 4K025
  • C25D11/00
  • 表面反応による電解被覆,すなわち転換層の形成[2] HB CC 4K006
  • C25D13/00
  • 工程に特徴のある電気泳動被覆(C25D15/00が優先;電気泳動被覆のための組成物C09D5/44)[2] HB CC 4K025
  • C25D15/00
  • 埋込み材料を含む被覆の電解または電気泳動製造,例.粒子,ウィスカー,線材[2] HB CC 4K025
  • C25D17/00
  • 電解被覆用槽の構造部品またはその組立体[2] HB CC 4K025
  • C25D19/00
  • 電解被覆プラント[2] HB CC 4K025
  • C25D21/00
  • 電解被覆用槽の保守または操作方法[2] HB CC 4K025
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