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HB:ハンドブック | ||||
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CC:コンコーダンス | |||||
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液相エピタキシャル成長［３］ | HB | CC | 4G077 | |
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スライド法（スライド法とはスライダ－とボ－トとを相対的に滑動させながら，スライダ－に載せられた基板とボ－ドに収容された単結晶原料融液とを接触させることによつて，基板表面に単結晶の層を成長させる単結晶の育成方法である．） | HB | CC | 4G077 | |
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その他 | HB | CC | 4G077 | |
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・溶融溶媒を用いるもの，例．フラックス［３］ | HB | CC | 4G077 | |
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・・溶媒が結晶組成の一成分であるもの［３］ | HB | CC | 4G077 | |
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・反応室；融液支持用ボート；基板保持体［３］ | HB | CC | 4G077 | |
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スライド法 | HB | CC | 4G077 | |
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その他 | HB | CC | 4G077 | |
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・反応室または基板の加熱［３］ | HB | CC | 4G077 | |
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・制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［３］ | HB | CC | 4G077 | |
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・基板によって特徴づけられたもの［３］ | HB | CC | 4G077 | |