このページは、メイングループB01J37/00内の「IPC」を全て表示しています。 |
CC:コンコーダンス |
| 触媒調製のためのプロセス一般;触媒の活性化のためのプロセス一般[4] | CC | ||
| ・含浸,被覆または沈澱(被覆による保護B01J33/00)[2] | CC | ||
| ・・別個の中間層,例.基板支持活性層,を用いるもの[6] | CC | ||
| ・・沈澱;共沈[4] | CC | ||
| ・混合[2] | CC | ||
| ・洗浄[2] | CC | ||
| ・熱処理[2] | CC | ||
| ・・水の存在中,例.蒸気[2] | CC | ||
| ・酸化[2] | CC | ||
| ・・遊離した酸素を含有するガスによるもの[2] | CC | ||
| ・還元[2] | CC | ||
| ・・遊離した水素を含有するガスによるもの[2] | CC | ||
| ・硫化[2] | CC | ||
| ・ハロゲン化[2] | CC | ||
| ・・塩素化[2] | CC | ||
| ・・ふっ素化[2] | CC | ||
| ・りん化[2] | CC | ||
| ・イオン交換[2] | CC | ||
| ・凍結乾燥,すなわち凍結真空乾燥[2] | CC | ||
| ・電気,磁気または波動エネルギー,例.超音波,の照射または適用[2] | CC | ||
| ・生化学的方法[2] | CC |