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リスト部分改訂旧５Ｆ１４６（Ｒ７）
5F246 半導体の露光処理 応用物理　　　　　　
H10P76/00 ;76/00,561-76/40
H10P76/00,600 AA AA00
半導体の露光の共通事項
AA28
・その他＊
AA31 AA32 AA33 AA34
・ナノインプリント ・・転写原版となる型 ・・転写対象となる硬化性組成物 ・・離型性の向上
H10P76/00,563 HA HA00
レジスト塗布以前のウェハの表面処理 		HA01 HA02 HA03 HA04 HA05 HA07
・レジストの接着強化膜の形成＊ ・・そのための装置＊ ・洗浄 ・エッチング ・エッチング以外のプラズマ処理 ・その他＊
H10P76/00,564@C-76/00,564@Z JA JA00
レジスト塗布 		JA01 JA02 JA03 JA04 JA05 JA06 JA07 JA08 JA09 JA10
・レジスト液の供給，及びその制御，調整 ・・供給ノズル ・・供給配管 ・回転塗布 ・・処理容器，又は処理容器の洗浄，清浄 ・・レジストの再付着防止 ・・気体の導入 ・・排気，排液系 ・・溶媒の供給 ・・回転チャック本体
JA11 JA12 JA13 JA14 JA15 JA16 JA19 JA20
・・回転機構の特殊化 ・・レジスト液にウェハを浸すもの ・・回転，回転数の調整 ・・ウェハ表面を下向きにして塗布，又は乾燥 ・・塗布中のウェハ裏面又は端面の洗浄，清浄 ・・ＪＡ０５～１５以外の回転塗布方法 ・ロールコート ・ウェハ表面へのレジストの堆積
JA21 JA22 JA24 JA25 JA27
・レジスト膜の特性検知，膜厚検知 ・他のプロセス処理との組合せ＊ ・温度調整 ・静電気除去 ・その他＊
H10P76/00,567 KA KA00
ベーキング装置 		KA01 KA02 KA03 KA04 KA05 KA07 KA08 KA09 KA10
・加熱手段 ・・赤外線ランプ ・・マグネトロン，マイクロ波 ・・ヒーター，熱板 ・・加熱気体 ・ウェハの搬送を伴うもの ・・ベルトコンベア ・・ウォーキングビーム ・その他＊
H10P76/00,569@A-76/00,569@Z LA LA00
湿式現像，リンス 		LA01 LA02 LA03 LA04 LA05 LA06 LA07 LA08 LA09
・回転処理 ・・処理中のウェハ裏面，端面の清浄 ・・処理液の供給，及びその調整 ・・供給ノズル ・・回転チャック ・・処理容器 ・・吸気，排気，排液系 ・・ＬＡ０２～０７以外の回転処理方法 ・現像槽（浸漬）
LA11 LA12 LA13 LA14 LA15 LA17 LA18 LA19
・ウェハの搬送を伴うもの ・現像液，リンス液＊ ・温度調整 ・現像，リンス方法 ・現像終点の検知 ・ドライ現像との組合せ ・他のプロセス処理との組合せ＊ ・その他＊
H10P76/00,569@H LB LB00
ドライ現像 		LB01 LB02 LB03 LB06 LB07 LB09 LB10
・プラズマ処理 ・露光によるレジストの直接除去 ・・紫外線，光露光による ・紫外線処理 ・加熱処理 ・他の処理との組合せ＊ ・その他＊
H10P76/00,572@A-76/00,572@Z MA MA00
レジスト膜の剥離 		MA01 MA02 MA03 MA04 MA05 MA06 MA07 MA10
・湿式剥離 ・・剥離液，剥離剤＊ ・・加熱，煮沸 ・・紫外線処理との組合せ ・・気体の供給 ・・制御，調整，検知，表示 ・・ＭＡ０２～０６以外の湿式剥離方法 ・・湿式剥離装置
MA11 MA12 MA13 MA17 MA18 MA19
・ドライ剥離 ・・プラズマ処理 ・・紫外線，酸素，オゾン処理 ・２以上の剥離処理の組合せ ・他のプロセス処理との組合せ＊ ・その他＊
H10P76/00,573 NA NA00
多層レジスト膜及びその処理 		NA01 NA02 NA03 NA04 NA05 NA06 NA07 NA08 NA09
・２層レジスト膜 ・・下層がネガ形，上層がポジ形＊ ・・下層がネガ形，上層もネガ形＊ ・・下層がポジ形，上層がネガ形＊ ・・下層がポジ形，上層もポジ形＊ ・３層以上のレジスト膜 ・２層のレジスト間にレジスト以外の中間層＊ ・下層のレジストが露光済 ・同一レジストによる多層膜
NA11 NA12 NA13 NA14 NA15 NA16 NA17 NA18 NA19
・処理方法 ・・塗布，ベーキング ・・現像 ・・・上層レジストの ・・・下層レジストの ・・レジストのエッチング除去 ・・・ドライエッチング ・・・下層レジストの ・その他＊
H10P76/00,574 PA PA00
光の吸収膜，反射膜 		PA01 PA02 PA03 PA04 PA05 PA06 PA07 PA08 PA09 PA10
・吸収膜 ・・シリコン（ポリ，アモルファスを含む） ・・酸化膜 ・・窒化膜 ・・金属＊ ・・粗面化 ・・有機，高分子膜＊ ・・・レジスト ・・染料，光吸収剤 ・・黒色化
PA11 PA12 PA13 PA17 PA18 PA19
・・炭素，炭化物の膜 ・・屈折率の調整 ・・・多層膜 ・反射膜 ・・金属＊ ・その他＊
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