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このページは、G03F内の「メイングループ」または、「ファセット」等が選択できます。 |
HB:ハンドブック | ||||
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CC:コンコーダンス | ||||
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フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿，例．マスク，フォトマスク又はレチクル；そのためのマスクブランク又はペリクル；特にそれに適合した容器；その準備［３，２０１２．０１］ | HB | CC | 2H195 | |
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色分解；色調の修正（写真的複写装置一般Ｇ０３Ｂ） | HB | CC | 2H117 | |
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スクリーン法；そのためのスクリーン | HB | CC | 2H117 | |
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フォトメカニカル法，例．フォトリソグラフ法，による凹凸化又はパターン化された表面，例．印刷表面，の製造；そのための材料，例．フォトレジストからなるもの；そのため特に適合した装置（特別の製造法のためのフォトレジスト構造を用いるもの，関係箇所，例．Ｂ４４Ｃ，Ｈ０１Ｌ，例．Ｈ０１Ｌ２１／００，Ｈ０５Ｋ，を参照）［３，５］ | HB | CC | 2H196 | |
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原稿，マスク，フレーム，写真シート，表面構造または模様が作成された表面，の位置決めまたは位置合わせ，例．自動的なもの（Ｇ０３Ｆ７／２２が優先；写真マスクの製造Ｇ０３Ｆ１／００；複製用写真焼付装置用のものＧ０３Ｂ２７／００）［４］ | HB | CC | 2H197 | |