このページは、メイングループC21C7/00内の「FI」を全て表示しています。 HB:ハンドブック CC:コンコーダンス FIセクション/広域ファセット選択に戻る 一階層上へ C21C7/00 グループＣ２１Ｃ１／００～Ｃ２１Ｃ５／００に包含されない溶融鉄系合金，例．鋼，の処理（鋳造中の溶融金属の処理Ｂ２２Ｄ１／００，Ｂ２２Ｄ２７／００） HB CC 4K013 C21C7/00@A 特殊鋼の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@B ・真空処理を含むもの HB CC 4K013 C21C7/00@C 磁性鋼の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@D 快削鋼の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@E 電熱処理 HB CC 4K013 C21C7/00@F ・ア－ク加熱 HB CC 4K013 C21C7/00@G ・・プラズマア－ク加熱 HB CC 4K013 C21C7/00@H 連鋳前の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@J スラグの処理 HB CC 4K013 C21C7/00@K 連続処理，複数の処理の組合せ HB CC 4K013 C21C7/00@N Ｈ，Ｎ，Ｍｎ等の除去 HB CC 4K013 C21C7/00@P 装置，付属設備 HB CC 4K013 C21C7/00@Q ・耐火物，炉壁 HB CC 4K013 C21C7/00@R 測定・制御一般 HB CC 4K013 C21C7/00@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/00,101 ・加炭：加窒 HB CC 4K013 C21C7/00,101@A 加炭 HB CC 4K013 C21C7/00,101@Z その他〔＝加窒〕 HB CC 4K013 C21C7/04 ・処理剤の添加による不純物の除去 HB CC 4K013 C21C7/04@A 添加剤 HB CC 4K013 C21C7/04@B ・金属を含む HB CC 4K013 C21C7/04@C ・・カルシウムを含む HB CC 4K013 C21C7/04@D ・・希土類を含む HB CC 4K013 C21C7/04@E ・・耐火金属を含む HB CC 4K013 C21C7/04@F ・非金属を含む HB CC 4K013 C21C7/04@G ・・ボロンを含む HB CC 4K013 C21C7/04@J ・線状 HB CC 4K013 C21C7/04@K ・ガス発生型 HB CC 4K013 C21C7/04@L ・被覆型，カプセル型 HB CC 4K013 C21C7/04@M ・成形物状 HB CC 4K013 C21C7/04@N ・含浸されたもの HB CC 4K013 C21C7/04@P 添加方法・装置 HB CC 4K013 C21C7/04@Q ・インペラ－撹拌を伴う HB CC 4K013 C21C7/04@R ・線状添加剤の HB CC 4K013 C21C7/04@S ・強制浸漬による HB CC 4K013 C21C7/04@T ・成形物状添加剤の HB CC 4K013 C21C7/04@U ・連続流への HB CC 4K013 C21C7/04@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/06 ・・脱酸，例．キリング［２］ HB CC 4K013 C21C7/064 ・・脱リン；脱硫［３］ HB CC 4K013 C21C7/064@A 脱リン HB CC 4K013 C21C7/064@Z その他〔＝脱硫〕 HB CC 4K013 C21C7/068 ・・脱炭［３］ HB CC 4K013 C21C7/072 ・・ガスによる処理（Ｃ２１Ｃ７／０６，Ｃ２１Ｃ７／０６４，Ｃ２１Ｃ７／０６８が優先）［３］ HB CC 4K013 C21C7/072@A ランス・吹込管 HB CC 4K013 C21C7/072@B ・ランスの保持 HB CC 4K013 C21C7/072@C ・インペラ－兼用のもの HB CC 4K013 C21C7/072@J 羽口・ノズル HB CC 4K013 C21C7/072@P ポ－ラスプラグ HB CC 4K013 C21C7/072@S 粉体・液体の吹込み HB CC 4K013 C21C7/072@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/076 ・・処理剤としてのスラグまたは溶剤の使用（Ｃ２１Ｃ７／０６，Ｃ２１Ｃ７／０６４，Ｃ２１Ｃ７／０６８が優先）［３］ HB CC 4K013 C21C7/076@A フラツクス HB CC 4K013 C21C7/076@P ・連鋳用フラツクス HB CC 4K013 C21C7/076@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/10 ・真空中における処理 HB CC 4K013 C21C7/10@A ＲＨ・ＤＨ HB CC 4K013 C21C7/10@B ・構造一般，付属装置 HB CC 4K013 C21C7/10@C ・浸漬管 HB CC 4K013 C21C7/10@D ・加熱 HB CC 4K013 C21C7/10@E ・補修 HB CC 4K013 C21C7/10@F ・ガス吹込み HB CC 4K013 C21C7/10@J 真空処理＋酸素ガス処理 HB CC 4K013 C21C7/10@K 連続流の脱ガス HB CC 4K013 C21C7/10@L 流滴脱ガス法 HB CC 4K013 C21C7/10@P 付属設備・装置 HB CC 4K013 C21C7/10@Q 装入 HB CC 4K013 C21C7/10@R 加熱 HB CC 4K013 C21C7/10@S 撹拌 HB CC 4K013 C21C7/10@Z その他 HB CC 4K013 TOP
C21C7/00 グループＣ２１Ｃ１／００～Ｃ２１Ｃ５／００に包含されない溶融鉄系合金，例．鋼，の処理（鋳造中の溶融金属の処理Ｂ２２Ｄ１／００，Ｂ２２Ｄ２７／００） HB CC 4K013 C21C7/00@A 特殊鋼の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@B ・真空処理を含むもの HB CC 4K013 C21C7/00@C 磁性鋼の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@D 快削鋼の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@E 電熱処理 HB CC 4K013 C21C7/00@F ・ア－ク加熱 HB CC 4K013 C21C7/00@G ・・プラズマア－ク加熱 HB CC 4K013 C21C7/00@H 連鋳前の処理 HB CC 4K013 C21C7/00@J スラグの処理 HB CC 4K013 C21C7/00@K 連続処理，複数の処理の組合せ HB CC 4K013 C21C7/00@N Ｈ，Ｎ，Ｍｎ等の除去 HB CC 4K013 C21C7/00@P 装置，付属設備 HB CC 4K013 C21C7/00@Q ・耐火物，炉壁 HB CC 4K013 C21C7/00@R 測定・制御一般 HB CC 4K013 C21C7/00@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/00,101 ・加炭：加窒 HB CC 4K013 C21C7/00,101@A 加炭 HB CC 4K013 C21C7/00,101@Z その他〔＝加窒〕 HB CC 4K013 C21C7/04 ・処理剤の添加による不純物の除去 HB CC 4K013 C21C7/04@A 添加剤 HB CC 4K013 C21C7/04@B ・金属を含む HB CC 4K013 C21C7/04@C ・・カルシウムを含む HB CC 4K013 C21C7/04@D ・・希土類を含む HB CC 4K013 C21C7/04@E ・・耐火金属を含む HB CC 4K013 C21C7/04@F ・非金属を含む HB CC 4K013 C21C7/04@G ・・ボロンを含む HB CC 4K013 C21C7/04@J ・線状 HB CC 4K013 C21C7/04@K ・ガス発生型 HB CC 4K013 C21C7/04@L ・被覆型，カプセル型 HB CC 4K013 C21C7/04@M ・成形物状 HB CC 4K013 C21C7/04@N ・含浸されたもの HB CC 4K013 C21C7/04@P 添加方法・装置 HB CC 4K013 C21C7/04@Q ・インペラ－撹拌を伴う HB CC 4K013 C21C7/04@R ・線状添加剤の HB CC 4K013 C21C7/04@S ・強制浸漬による HB CC 4K013 C21C7/04@T ・成形物状添加剤の HB CC 4K013 C21C7/04@U ・連続流への HB CC 4K013 C21C7/04@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/06 ・・脱酸，例．キリング［２］ HB CC 4K013 C21C7/064 ・・脱リン；脱硫［３］ HB CC 4K013 C21C7/064@A 脱リン HB CC 4K013 C21C7/064@Z その他〔＝脱硫〕 HB CC 4K013 C21C7/068 ・・脱炭［３］ HB CC 4K013 C21C7/072 ・・ガスによる処理（Ｃ２１Ｃ７／０６，Ｃ２１Ｃ７／０６４，Ｃ２１Ｃ７／０６８が優先）［３］ HB CC 4K013 C21C7/072@A ランス・吹込管 HB CC 4K013 C21C7/072@B ・ランスの保持 HB CC 4K013 C21C7/072@C ・インペラ－兼用のもの HB CC 4K013 C21C7/072@J 羽口・ノズル HB CC 4K013 C21C7/072@P ポ－ラスプラグ HB CC 4K013 C21C7/072@S 粉体・液体の吹込み HB CC 4K013 C21C7/072@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/076 ・・処理剤としてのスラグまたは溶剤の使用（Ｃ２１Ｃ７／０６，Ｃ２１Ｃ７／０６４，Ｃ２１Ｃ７／０６８が優先）［３］ HB CC 4K013 C21C7/076@A フラツクス HB CC 4K013 C21C7/076@P ・連鋳用フラツクス HB CC 4K013 C21C7/076@Z その他 HB CC 4K013 C21C7/10 ・真空中における処理 HB CC 4K013 C21C7/10@A ＲＨ・ＤＨ HB CC 4K013 C21C7/10@B ・構造一般，付属装置 HB CC 4K013 C21C7/10@C ・浸漬管 HB CC 4K013 C21C7/10@D ・加熱 HB CC 4K013 C21C7/10@E ・補修 HB CC 4K013 C21C7/10@F ・ガス吹込み HB CC 4K013 C21C7/10@J 真空処理＋酸素ガス処理 HB CC 4K013 C21C7/10@K 連続流の脱ガス HB CC 4K013 C21C7/10@L 流滴脱ガス法 HB CC 4K013 C21C7/10@P 付属設備・装置 HB CC 4K013 C21C7/10@Q 装入 HB CC 4K013 C21C7/10@R 加熱 HB CC 4K013 C21C7/10@S 撹拌 HB CC 4K013 C21C7/10@Z その他 HB CC 4K013