FI(一覧表示)

  • C03B8/00
  • 溶融法以外の方法によるガラスの製造(C03B37/014が優先;微粉状のシリカの製造一般C01B33/18)[4] HB CC 4G014
  • C03B8/00@A
  • 前駆体の処理に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/00@B
  • 焼結、熱処理工程に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/00@C
  • 非酸化物ガラスの製造 HB CC 4G014
  • C03B8/00@Z
  • その他 HB CC 4G014
  • C03B8/02
  • ・液相反応法によるもの[4] HB CC 4G014
  • C03B8/02@A
  • 原料に特徴があるもの[主原料、ドーパント原料等] HB CC 4G014
  • C03B8/02@B
  • ・添加剤の使用[触媒、界面活性剤等] HB CC 4G014
  • C03B8/02@C
  • 粉砕工程を有するもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@D
  • シリカ粉末・微粒子を加えるもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@E
  • 撹拌、振動工程に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@F
  • 複数のゾル液を混合するもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@G
  • pHの調整に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@H
  • 分離工程に特徴があるもの[ろ過、分級等] HB CC 4G014
  • C03B8/02@J
  • 乾燥工程に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@K
  • ゲル体の処理に特徴があるもの[雰囲気加熱等] HB CC 4G014
  • C03B8/02@L
  • ・洗浄工程に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@M
  • 温度制御に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/02@N
  • 前駆体、製品の構造、物性に特徴があるもの[気泡、脈理、不純物、光吸収等] HB CC 4G014
  • C03B8/02@Z
  • その他 HB CC 4G014
  • C03B8/04
  • ・気相反応法によるもの[4] HB CC 4G014
  • C03B8/04@A
  • VAD法 HB CC 4G014
  • C03B8/04@B
  • 内付けCVD HB CC 4G014
  • C03B8/04@C
  • 外付けCVD HB CC 4G014
  • C03B8/04@D
  • 原料に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/04@E
  • 原料ガス中にドーパントを導入するもの HB CC 4G014
  • C03B8/04@F
  • バーナーに特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/04@G
  • ・ポートの形状・構造 HB CC 4G014
  • C03B8/04@H
  • ・バーナーの配置 HB CC 4G014
  • C03B8/04@J
  • ・バーナーの駆動方法 HB CC 4G014
  • C03B8/04@K
  • 基体に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/04@L
  • 前駆体の処理に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/04@M
  • ・脱水工程に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/04@N
  • ・液中浸漬、含浸工程に特徴があるもの HB CC 4G014
  • C03B8/04@P
  • 雰囲気に特徴があるもの[焼結雰囲気、熱処理雰囲気等] HB CC 4G014
  • C03B8/04@Q
  • 製造装置の保守、管理に特徴があるもの[器具の洗浄、補修、異常検知等] HB CC 4G014
  • C03B8/04@R
  • 前駆体、製品の構造、物性に特徴があるもの[気泡、脈理、不純物、光吸収等] HB CC 4G014
  • C03B8/04@Z
  • その他 HB CC 4G014
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