このページは、メイングループC01G23/00内の「FI」を全て表示しています。 HB:ハンドブック CC:コンコーダンス FIセクション/広域ファセット選択に戻る 一階層上へ C01G23/00 チタン化合物 HB CC 4G047 C01G23/00@A 硫酸塩 HB CC 4G047 C01G23/00@B チタン酸アルカリ HB CC 4G047 C01G23/00@C 複数金属化合物〔アルカリを除く〕 HB CC 4G047 C01G23/00@D 硫黄を含むもの HB CC 4G047 C01G23/00@Z その他のもの HB CC 4G047 C01G23/02 ・チタンのハロゲン化物 HB CC 4G047 C01G23/02@A 低級チタンハロゲン化物 HB CC 4G047 C01G23/02@B ・ＴｉＣｌ↓２ HB CC 4G047 C01G23/02@C ・ＴｉＣｌ↓３ HB CC 4G047 C01G23/02@D ＴｉＣｌ↓４ HB CC 4G047 C01G23/02@E ・精製 HB CC 4G047 C01G23/02@H 触媒〔有機アルミを含まないもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@J 触媒〔有機アルミを含むもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@K ・触媒〔有機アルミ，錯化剤を含むもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@L 触媒〔その他のもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@Z その他のもの HB CC 4G047 C01G23/04 ・酸化物；水酸化物［３］ HB CC 4G047 C01G23/04@B 顔料；微粒子の製造 HB CC 4G047 C01G23/04@C 薄膜 HB CC 4G047 C01G23/04@D 鉱石の処理〔物理的処理，硫化処理，アルカリ，水浸出処理等〕 HB CC 4G047 C01G23/04@E ・鉱酸又は塩素化処理 HB CC 4G047 C01G23/04@Z その他のもの HB CC 4G047 C01G23/047 ・・二酸化チタン［３］ HB CC 4G047 C01G23/053 ・・・湿式法による製造，例．チタン塩の加水分解［３］ HB CC 4G047 C01G23/07 ・・・気相法による製造，例．ハロゲン化物の酸化［３］ HB CC 4G047 C01G23/08 ・・・乾燥，か焼［３］ HB CC 4G047 TOP
C01G23/00 チタン化合物 HB CC 4G047 C01G23/00@A 硫酸塩 HB CC 4G047 C01G23/00@B チタン酸アルカリ HB CC 4G047 C01G23/00@C 複数金属化合物〔アルカリを除く〕 HB CC 4G047 C01G23/00@D 硫黄を含むもの HB CC 4G047 C01G23/00@Z その他のもの HB CC 4G047 C01G23/02 ・チタンのハロゲン化物 HB CC 4G047 C01G23/02@A 低級チタンハロゲン化物 HB CC 4G047 C01G23/02@B ・ＴｉＣｌ↓２ HB CC 4G047 C01G23/02@C ・ＴｉＣｌ↓３ HB CC 4G047 C01G23/02@D ＴｉＣｌ↓４ HB CC 4G047 C01G23/02@E ・精製 HB CC 4G047 C01G23/02@H 触媒〔有機アルミを含まないもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@J 触媒〔有機アルミを含むもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@K ・触媒〔有機アルミ，錯化剤を含むもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@L 触媒〔その他のもの〕 HB CC 4G047 C01G23/02@Z その他のもの HB CC 4G047 C01G23/04 ・酸化物；水酸化物［３］ HB CC 4G047 C01G23/04@B 顔料；微粒子の製造 HB CC 4G047 C01G23/04@C 薄膜 HB CC 4G047 C01G23/04@D 鉱石の処理〔物理的処理，硫化処理，アルカリ，水浸出処理等〕 HB CC 4G047 C01G23/04@E ・鉱酸又は塩素化処理 HB CC 4G047 C01G23/04@Z その他のもの HB CC 4G047 C01G23/047 ・・二酸化チタン［３］ HB CC 4G047 C01G23/053 ・・・湿式法による製造，例．チタン塩の加水分解［３］ HB CC 4G047 C01G23/07 ・・・気相法による製造，例．ハロゲン化物の酸化［３］ HB CC 4G047 C01G23/08 ・・・乾燥，か焼［３］ HB CC 4G047