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HB:ハンドブック | ||||
CC:コンコーダンス |
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いおう;その化合物 | HB | CC | 4G043 | |
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粒,小片,その他成型品の製造〔コロイド状いおうまたは粉状いおう→17/10〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・液状いおうと小滴に分割し,固化することによるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・いおうの製造;精製 | HB | CC | 4G043 | |
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・・元素状いおうを含む原料,例.ルックスマス,からのいおうの回収;精製[3] | HB | CC | 4G043 | |
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気化によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・物質を添加するもの | HB | CC | 4G043 | |
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溶融によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・物質を添加するもの〔水,水蒸気,不活性ガスは除く〕 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・液体抽出剤を用いるもの[3] | HB | CC | 4G043 | |
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・・ガス状硫化物を含むガス状いおう化合物からのもの | HB | CC | 4G043 | |
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SOxを含むガスからのもの〔N含有化合物も含むガスからのもの,→X〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・SOxと気体,液体還元剤との反応を含むもの〔気体還元剤がH↓2S→M~V;クラウス法テ-ルガスの処理→V;湿式法17/05〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・SOxと固体還元剤との反応を含むもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・固体還元剤;その前後処理;その供給,排出〔廃ガスの収,脱着工程と結合したもの→K,L〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・反応後のガスの処理〔廃ガスの収,脱着工程と結合したもの→K,L〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・クラウス工程による処理〔←そのための還元工程の操作〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・廃ガスの収,脱着工程と結合したもの〔収着済収着剤よりSOxを放出せずいおうを回収するもの→E〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・廃ガスの収,脱着工程と還元工程とで炭素質物質が流用されるもの | HB | CC | 4G043 | |
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H↓2Sを含むガスからのもの〔N含有化合物も含むガスからのもの→X〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・H↓2SとSOxまたはO↓2との反応を含むもの〔H↓2SがSOx還元により製造されたもの→A~L〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・無触媒燃焼反応工程 | HB | CC | 4G043 | |
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・・触媒反応工程 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・いおうの露点以下で反応させるもの〔←CBA法〕〔いおうの露点は,444.6℃〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・反応後のガスの処理〔←SCOT法;CBA法→T〕 | HB | CC | 4G043 | |
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N含有化合物を含むガス状いおう化合物からのもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの〔←H↓2S+H↓2O↓2→S+2H↓2O〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・湿式法によるもの[3] | HB | CC | 4G043 | |
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H↓2Sを含むガスとSOxまたはO↓2を含むガスからのもの〔吸収溶液組成は最後の適切な箇所に分類する〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・アルカリ金属,アルカリ土類金属,アンモニウム含有液中でのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・重金属含有液中でのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・有機化合物含有液中でのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・金属キレ-ト化合物含有液中でのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・芳香族ニトロ化合物含有液中でのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・キノン類含有液中でのもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・非ガス状硫化物またはそのような硫化物を含む原料,例.鉱石,からのもの | HB | CC | 4G043 | |
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湿式法によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・SOx及びまたは,O↓2を含むガスとからのもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・粉状いおう,例.昇華いおう,いおう華 | HB | CC | 4G043 | |
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・・不溶性いおう(μ-いおう) | HB | CC | 4G043 | |
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・硫化水素 | HB | CC | 4G043 | |
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乾式法による製造〔H↓2S吸収体のH↓2Sを放つての再生→N〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・ガス状いおう化合物からのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・SOxを含むガスからのもの | HB | CC | 4G043 | |
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湿式法による製造;融液中における製造 | HB | CC | 4G043 | |
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・水性媒体中におけるもの〔←いおう分含有水溶液を噴霧するもの;H↓2S吸収液のH↓2Sを放つての再生→P〕 | HB | CC | 4G043 | |
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分離;精製 | HB | CC | 4G043 | |
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・ガスからの硫化水素の収着および分離,再生 | HB | CC | 4G043 | |
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・・湿式法によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・水素多硫化物 | HB | CC | 4G043 | |
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・硫化物または多硫化物の一般的製造方法(硫化または多硫化アンモニウムC01C;アルカリ金属,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウムおよびバリウム以外の金属硫化物または多硫化物はその金属にしたがいC01FまたはC01Gの該当するグループ参照) | HB | CC | 4G043 | |
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・アルカリ金属硫化物または多硫化物 | HB | CC | 4G043 | |
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・・還元による製造 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・炭素によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・還元性ガスによるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・ナトリウムまたはカリウムアマルガムといおうまたは硫化物からの製造 | HB | CC | 4G043 | |
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・・ナトリウムまたはカリウムの水硫化物 | HB | CC | 4G043 | |
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・・ナトリウムまたはカリウムの多硫化物 | HB | CC | 4G043 | |
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・・精製 | HB | CC | 4G043 | |
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・・脱水 | HB | CC | 4G043 | |
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・・成形品,例.粒,の製造 | HB | CC | 4G043 | |
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・マグネシウム,カルシウム,ストロンチウムまたはバリウムの硫化物または多硫化物 | HB | CC | 4G043 | |
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・・酸化物または水酸化物といおうまたは硫化水素とからのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・硫酸塩の還元によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・いおうとハロゲンとを含有し,酸素を伴うまたは伴わない化合物 | HB | CC | 4G043 | |
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ハロゲン化いおう | HB | CC | 4G043 | |
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・ふつ素を含むもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・いおう,ハロゲン,水素および酸素を含有する化合物 | HB | CC | 4G043 | |
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・二酸化いおう;亜硫酸 | HB | CC | 4G043 | |
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・・二酸化いおうの製造 | HB | CC | 4G043 | |
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非ガス状いおう化合物からのもの〔←H↓2SO↓4からのもの〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・アンモニウムを含む非ガス状いおう化合物からのもの〔←イミド硫酸からのもの;SOx脱硫液のSO↓2を放つての再生→17/60B〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・金属を含む非ガス状いおう化合物からのもの〔硫化鉱の焙焼によるもの→17/52;SOx脱硫液のSO↓2を放つての再生→17/60A~P〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・重金属を含む非ガス状いおう化合物からのもの | HB | CC | 4G043 | |
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ガス状いおう化合物からのもの | HB | CC | 4G043 | |
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・SO↓3からのもの〔S+SO↓3→Z〕 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・硫化物のばい焼によるもの(原鉱石またはスクラップの予備的処理一般C22B1/00)[2006.01] | HB | CC | 4G043 | |
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流動焙焼法によるもの〔←渦動床〕 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・元素状いおうの燃焼によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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いおうを溶融させるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・分離;精製 | HB | CC | 4G043 | |
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洗浄による不純物の除去〔SOx含有焙焼ガスの水洗,酸洗による除塵,冷却または脱水〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・添加物を含む洗浄液によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・アシッドタールまたは同等物から二酸化いおうの回収 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・ガスから二酸化いおうの分離 | HB | CC | 4G043 | |
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湿式法によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・アルカリ金属,アルカリ土類金属またはアンモニウム含有液によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・酸性物質〔例.重亜硫酸塩〕の添加によりSO↓2を放出するもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・いおう化合物の分離または分解によりSO↓2を放出するもの | HB | CC | 4G043 | |
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・重金属含有液によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・有機化合物含有液によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・亜硫酸塩の一般的製造方法(特に個々の亜硫酸塩は陽イオンにしたがいC01B~C01G中の該当するグループ参照) | HB | CC | 4G043 | |
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・チオ硫酸塩;亜二チオン酸塩;多チオン酸塩 | HB | CC | 4G043 | |
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ガス状酸化剤〔除SOx〕を用いる製造 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・亜二チオン酸塩 | HB | CC | 4G043 | |
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蟻曹法による製造〔HCOONa+NaHSO↓3+SO↓2→Na↓2S↓2O↓4+CO↓2+H↓2O〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・亜ニチオン酸塩結晶洗浄液または結晶分離母液の処理 | HB | CC | 4G043 | |
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処理 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・三酸化いおう;硫酸[3] | HB | CC | 4G043 | |
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添加剤による処理〔←増粘;←固体化〕 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの〔SO↓3の水性媒体への吸収による硫酸の製造→17/74G〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・γ型三酸化いおうの安定化 | HB | CC | 4G043 | |
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・・製造[3] | HB | CC | 4G043 | |
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三酸化いおうの製造〔触媒によるもの→17/76~17/80〕 | HB | CC | 4G043 | |
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液相中での硫酸の製造〔←液相中での,SO↓3↑2↑-の不均化(S+SO↓4↑2↑-)〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・酸化によるもの〔液相接触法→17/775A〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・ハロゲン,ハロゲン化合物を用いるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・三酸化いおうの水性媒体への吸収によるもの〔多段式SO↓3転化の中間吸収→17/765A〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・・他のガス処理工程,例.二酸化いおうまたは空気の乾燥工程,とで水性媒体が流用されるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・接触法による | HB | CC | 4G043 | |
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他のいおう,いおう化合物処理工程,例.二酸化いおうの製造,精製,乾燥または三酸化いおうの吸収工程,と結合したもの〔多段式,SO↓3転化の中間吸収との結合→17/765A〕 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・多段式SO↓3転化[3] | HB | CC | 4G043 | |
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三酸化いおうの中間分離工程と結合したもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・流動床法[3] | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・液相接触法または湿式触媒法[3] | HB | CC | 4G043 | |
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液相接触法〔使用触媒を特徴とするもの→17/78,79〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・炭素質触媒によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・使用触媒を特徴とするもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・・バナジウムを含むもの[3] | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・装置 | HB | CC | 4G043 | |
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触媒転化器 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・酸化窒素法を用いる硫酸の | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・鉛室法 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・・塔式法 | HB | CC | 4G043 | |
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・・硫酸の濃縮 | HB | CC | 4G043 | |
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加熱表面に硫酸を接触させるもの〔蒸発操作が多段のもの→S〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・硫酸の薄層を接触させるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・循環させるもの〔薄層を接触させるもの→B〕 | HB | CC | 4G043 | |
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加熱ガスと硫酸を直接接触させるもの〔蒸発操作が多段のもの→S〕 | HB | CC | 4G043 | |
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二以上の蒸発操作を結合したもの,例.多重効用蒸発缶 | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・分離;精製 | HB | CC | 4G043 | |
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温度,圧力または濃度の調整;撹拌;蒸留;脱気によるもの〔H↓2O,SO↓3,不活性ガスを除くのガスの吹き込み→K~R〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・液相より不純物を析出させるもの〔←液相として析出〕 | HB | CC | 4G043 | |
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電解;透析;浸透;逆浸透によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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H↓2O,SO↓3,H↓2SO↓4,不活性ガスを除く物質の添加によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・沈澱剤によるもの〔酸化による沈澱生成→R;吸着剤による沈澱生成→P〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・吸着剤によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・イオン交換樹脂またはキレ-ト樹脂によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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・酸化剤によるもの〔不活性ガスとしての空気の使用→A〕 | HB | CC | 4G043 | |
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・液体抽出剤によるもの | HB | CC | 4G043 | |
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その他のもの | HB | CC | 4G043 | |
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・・・アシッドタールまたは同等物からの回収 | HB | CC | 4G043 | |
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・・・ニトロ化用酸からの回収 | HB | CC | 4G043 | |
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・硫酸塩の一般的製造方法(特に個々の硫酸塩は陽イオンにしたがいC01B~C01G中の該当するグループ参照) | HB | CC | 4G043 | |
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・いおうと酸素を含有する他の化合物(過硫酸C01B15/06;過硫酸塩C01B15/08) | HB | CC | 4G043 | |