FI(一覧表示)

C01B17/00	いおう；その化合物	HB	CC	4G043

C01B17/00@C	粒，小片，その他成型品の製造〔コロイド状いおうまたは粉状いおう→１７／１０〕	HB	CC	4G043

C01B17/00@D	・液状いおうと小滴に分割し，固化することによるもの	HB	CC	4G043

C01B17/00@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/02	・いおうの製造；精製	HB	CC	4G043

C01B17/027	・・元素状いおうを含む原料，例．ルックスマス，からのいおうの回収；精製［３］	HB	CC	4G043

C01B17/027@A	気化によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/027@E	・物質を添加するもの	HB	CC	4G043

C01B17/027@M	溶融によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/027@R	・物質を添加するもの〔水，水蒸気，不活性ガスは除く〕	HB	CC	4G043

C01B17/027@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/033	・・・液体抽出剤を用いるもの［３］	HB	CC	4G043

C01B17/04	・・ガス状硫化物を含むガス状いおう化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B17/04@A	ＳＯｘを含むガスからのもの〔Ｎ含有化合物も含むガスからのもの，→Ｘ〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@C	・ＳＯｘと気体，液体還元剤との反応を含むもの〔気体還元剤がＨ↓２Ｓ→Ｍ～Ｖ；クラウス法テ－ルガスの処理→Ｖ；湿式法１７／０５〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@E	・ＳＯｘと固体還元剤との反応を含むもの	HB	CC	4G043

C01B17/04@F	・・固体還元剤；その前後処理；その供給，排出〔廃ガスの収，脱着工程と結合したもの→Ｋ，Ｌ〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@H	・・反応後のガスの処理〔廃ガスの収，脱着工程と結合したもの→Ｋ，Ｌ〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@W	・・・クラウス工程による処理〔←そのための還元工程の操作〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@K	・・廃ガスの収，脱着工程と結合したもの〔収着済収着剤よりＳＯｘを放出せずいおうを回収するもの→Ｅ〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@L	・・・廃ガスの収，脱着工程と還元工程とで炭素質物質が流用されるもの	HB	CC	4G043

C01B17/04@M	Ｈ↓２Ｓを含むガスからのもの〔Ｎ含有化合物も含むガスからのもの→Ｘ〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@N	・Ｈ↓２ＳとＳＯｘまたはＯ↓２との反応を含むもの〔Ｈ↓２ＳがＳＯｘ還元により製造されたもの→Ａ～Ｌ〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@Q	・・無触媒燃焼反応工程	HB	CC	4G043

C01B17/04@R	・・触媒反応工程	HB	CC	4G043

C01B17/04@T	・・・いおうの露点以下で反応させるもの〔←ＣＢＡ法〕〔いおうの露点は，４４４．６℃〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@V	・・反応後のガスの処理〔←ＳＣＯＴ法；ＣＢＡ法→Ｔ〕	HB	CC	4G043

C01B17/04@X	Ｎ含有化合物を含むガス状いおう化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B17/04@Z	その他のもの〔←Ｈ↓２Ｓ＋Ｈ↓２Ｏ↓２→Ｓ＋２Ｈ↓２Ｏ〕	HB	CC	4G043

C01B17/05	・・・湿式法によるもの［３］	HB	CC	4G043

C01B17/05@A	Ｈ↓２Ｓを含むガスとＳＯｘまたはＯ↓２を含むガスからのもの〔吸収溶液組成は最後の適切な箇所に分類する〕	HB	CC	4G043

C01B17/05@B	・アルカリ金属，アルカリ土類金属，アンモニウム含有液中でのもの	HB	CC	4G043

C01B17/05@E	・重金属含有液中でのもの	HB	CC	4G043

C01B17/05@G	・有機化合物含有液中でのもの	HB	CC	4G043

C01B17/05@J	・・金属キレ－ト化合物含有液中でのもの	HB	CC	4G043

C01B17/05@L	・・芳香族ニトロ化合物含有液中でのもの	HB	CC	4G043

C01B17/05@N	・・キノン類含有液中でのもの	HB	CC	4G043

C01B17/05@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/06	・・非ガス状硫化物またはそのような硫化物を含む原料，例．鉱石，からのもの	HB	CC	4G043

C01B17/06@A	湿式法によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/06@B	・ＳＯｘ及びまたは，Ｏ↓２を含むガスとからのもの	HB	CC	4G043

C01B17/06@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/10	・・粉状いおう，例．昇華いおう，いおう華	HB	CC	4G043

C01B17/12	・・不溶性いおう（μ－いおう）	HB	CC	4G043

C01B17/16	・硫化水素	HB	CC	4G043

C01B17/16@A	乾式法による製造〔Ｈ↓２Ｓ吸収体のＨ↓２Ｓを放つての再生→Ｎ〕	HB	CC	4G043

C01B17/16@B	・ガス状いおう化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B17/16@D	・・ＳＯｘを含むガスからのもの	HB	CC	4G043

C01B17/16@F	湿式法による製造；融液中における製造	HB	CC	4G043

C01B17/16@H	・水性媒体中におけるもの〔←いおう分含有水溶液を噴霧するもの；Ｈ↓２Ｓ吸収液のＨ↓２Ｓを放つての再生→Ｐ〕	HB	CC	4G043

C01B17/16@M	分離；精製	HB	CC	4G043

C01B17/16@N	・ガスからの硫化水素の収着および分離，再生	HB	CC	4G043

C01B17/16@P	・・湿式法によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/16@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/18	・・水素多硫化物	HB	CC	4G043

C01B17/20	・硫化物または多硫化物の一般的製造方法（硫化または多硫化アンモニウムＣ０１Ｃ；アルカリ金属，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムおよびバリウム以外の金属硫化物または多硫化物はその金属にしたがいＣ０１ＦまたはＣ０１Ｇの該当するグループ参照）	HB	CC	4G043

C01B17/22	・アルカリ金属硫化物または多硫化物	HB	CC	4G043

C01B17/24	・・還元による製造	HB	CC	4G043

C01B17/26	・・・炭素によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/28	・・・還元性ガスによるもの	HB	CC	4G043

C01B17/30	・・ナトリウムまたはカリウムアマルガムといおうまたは硫化物からの製造	HB	CC	4G043

C01B17/32	・・ナトリウムまたはカリウムの水硫化物	HB	CC	4G043

C01B17/34	・・ナトリウムまたはカリウムの多硫化物	HB	CC	4G043

C01B17/36	・・精製	HB	CC	4G043

C01B17/38	・・脱水	HB	CC	4G043

C01B17/40	・・成形品，例．粒，の製造	HB	CC	4G043

C01B17/42	・マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムの硫化物または多硫化物	HB	CC	4G043

C01B17/43	・・酸化物または水酸化物といおうまたは硫化水素とからのもの	HB	CC	4G043

C01B17/44	・・硫酸塩の還元によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/45	・いおうとハロゲンとを含有し，酸素を伴うまたは伴わない化合物	HB	CC	4G043

C01B17/45@A	ハロゲン化いおう	HB	CC	4G043

C01B17/45@G	・ふつ素を含むもの	HB	CC	4G043

C01B17/45@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/46	・いおう，ハロゲン，水素および酸素を含有する化合物	HB	CC	4G043

C01B17/48	・二酸化いおう；亜硫酸	HB	CC	4G043

C01B17/50	・・二酸化いおうの製造	HB	CC	4G043

C01B17/50@A	非ガス状いおう化合物からのもの〔←Ｈ↓２ＳＯ↓４からのもの〕	HB	CC	4G043

C01B17/50@C	・アンモニウムを含む非ガス状いおう化合物からのもの〔←イミド硫酸からのもの；ＳＯｘ脱硫液のＳＯ↓２を放つての再生→１７／６０Ｂ〕	HB	CC	4G043

C01B17/50@E	・金属を含む非ガス状いおう化合物からのもの〔硫化鉱の焙焼によるもの→１７／５２；ＳＯｘ脱硫液のＳＯ↓２を放つての再生→１７／６０Ａ～Ｐ〕	HB	CC	4G043

C01B17/50@G	・・重金属を含む非ガス状いおう化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B17/50@M	ガス状いおう化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B17/50@N	・ＳＯ↓３からのもの〔Ｓ＋ＳＯ↓３→Ｚ〕	HB	CC	4G043

C01B17/50@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/52	・・・硫化物のばい焼によるもの（原鉱石またはスクラップの予備的処理一般Ｃ２２Ｂ１／００）［２００６．０１］	HB	CC	4G043

C01B17/52@A	流動焙焼法によるもの〔←渦動床〕	HB	CC	4G043

C01B17/52@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/54	・・・元素状いおうの燃焼によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/54@A	いおうを溶融させるもの	HB	CC	4G043

C01B17/54@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/56	・・・分離；精製	HB	CC	4G043

C01B17/56@A	洗浄による不純物の除去〔ＳＯｘ含有焙焼ガスの水洗，酸洗による除塵，冷却または脱水〕	HB	CC	4G043

C01B17/56@E	・添加物を含む洗浄液によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/56@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/58	・・・アシッドタールまたは同等物から二酸化いおうの回収	HB	CC	4G043

C01B17/60	・・・ガスから二酸化いおうの分離	HB	CC	4G043

C01B17/60@A	湿式法によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/60@B	・アルカリ金属，アルカリ土類金属またはアンモニウム含有液によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/60@G	・・酸性物質〔例．重亜硫酸塩〕の添加によりＳＯ↓２を放出するもの	HB	CC	4G043

C01B17/60@J	・・いおう化合物の分離または分解によりＳＯ↓２を放出するもの	HB	CC	4G043

C01B17/60@M	・重金属含有液によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/60@P	・有機化合物含有液によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/60@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/62	・亜硫酸塩の一般的製造方法（特に個々の亜硫酸塩は陽イオンにしたがいＣ０１Ｂ～Ｃ０１Ｇ中の該当するグループ参照）	HB	CC	4G043

C01B17/64	・チオ硫酸塩；亜二チオン酸塩；多チオン酸塩	HB	CC	4G043

C01B17/64@B	ガス状酸化剤〔除ＳＯｘ〕を用いる製造	HB	CC	4G043

C01B17/64@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/66	・・亜二チオン酸塩	HB	CC	4G043

C01B17/66@B	蟻曹法による製造〔ＨＣＯＯＮａ＋ＮａＨＳＯ↓３＋ＳＯ↓２→Ｎａ↓２Ｓ↓２Ｏ↓４＋ＣＯ↓２＋Ｈ↓２Ｏ〕	HB	CC	4G043

C01B17/66@E	・亜ニチオン酸塩結晶洗浄液または結晶分離母液の処理	HB	CC	4G043

C01B17/66@M	処理	HB	CC	4G043

C01B17/66@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/69	・三酸化いおう；硫酸［３］	HB	CC	4G043

C01B17/69@M	添加剤による処理〔←増粘；←固体化〕	HB	CC	4G043

C01B17/69@Z	その他のもの〔ＳＯ↓３の水性媒体への吸収による硫酸の製造→１７／７４Ｇ〕	HB	CC	4G043

C01B17/70	・・γ型三酸化いおうの安定化	HB	CC	4G043

C01B17/74	・・製造［３］	HB	CC	4G043

C01B17/74@A	三酸化いおうの製造〔触媒によるもの→１７／７６～１７／８０〕	HB	CC	4G043

C01B17/74@D	液相中での硫酸の製造〔←液相中での，ＳＯ↓３↑２↑－の不均化（Ｓ＋ＳＯ↓４↑２↑－）〕	HB	CC	4G043

C01B17/74@E	・酸化によるもの〔液相接触法→１７／７７５Ａ〕	HB	CC	4G043

C01B17/74@F	・・ハロゲン，ハロゲン化合物を用いるもの	HB	CC	4G043

C01B17/74@G	・三酸化いおうの水性媒体への吸収によるもの〔多段式ＳＯ↓３転化の中間吸収→１７／７６５Ａ〕	HB	CC	4G043

C01B17/74@M	・・他のガス処理工程，例．二酸化いおうまたは空気の乾燥工程，とで水性媒体が流用されるもの	HB	CC	4G043

C01B17/74@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/76	・・・接触法による	HB	CC	4G043

C01B17/76@A	他のいおう，いおう化合物処理工程，例．二酸化いおうの製造，精製，乾燥または三酸化いおうの吸収工程，と結合したもの〔多段式，ＳＯ↓３転化の中間吸収との結合→１７／７６５Ａ〕	HB	CC	4G043

C01B17/76@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/765	・・・・多段式ＳＯ↓３転化［３］	HB	CC	4G043

C01B17/765@A	三酸化いおうの中間分離工程と結合したもの	HB	CC	4G043

C01B17/765@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/77	・・・・流動床法［３］	HB	CC	4G043

C01B17/775	・・・・液相接触法または湿式触媒法［３］	HB	CC	4G043

C01B17/775@A	液相接触法〔使用触媒を特徴とするもの→１７／７８，７９〕	HB	CC	4G043

C01B17/775@E	・炭素質触媒によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/775@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/78	・・・・使用触媒を特徴とするもの	HB	CC	4G043

C01B17/79	・・・・・バナジウムを含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B17/80	・・・・装置	HB	CC	4G043

C01B17/80@A	触媒転化器	HB	CC	4G043

C01B17/80@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/82	・・・酸化窒素法を用いる硫酸の	HB	CC	4G043

C01B17/84	・・・・鉛室法	HB	CC	4G043

C01B17/86	・・・・塔式法	HB	CC	4G043

C01B17/88	・・硫酸の濃縮	HB	CC	4G043

C01B17/88@A	加熱表面に硫酸を接触させるもの〔蒸発操作が多段のもの→Ｓ〕	HB	CC	4G043

C01B17/88@B	・硫酸の薄層を接触させるもの	HB	CC	4G043

C01B17/88@E	・循環させるもの〔薄層を接触させるもの→Ｂ〕	HB	CC	4G043

C01B17/88@H	加熱ガスと硫酸を直接接触させるもの〔蒸発操作が多段のもの→Ｓ〕	HB	CC	4G043

C01B17/88@S	二以上の蒸発操作を結合したもの，例．多重効用蒸発缶	HB	CC	4G043

C01B17/88@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/90	・・分離；精製	HB	CC	4G043

C01B17/90@A	温度，圧力または濃度の調整；撹拌；蒸留；脱気によるもの〔Ｈ↓２Ｏ，ＳＯ↓３，不活性ガスを除くのガスの吹き込み→Ｋ～Ｒ〕	HB	CC	4G043

C01B17/90@C	・液相より不純物を析出させるもの〔←液相として析出〕	HB	CC	4G043

C01B17/90@E	電解；透析；浸透；逆浸透によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/90@K	Ｈ↓２Ｏ，ＳＯ↓３，Ｈ↓２ＳＯ↓４，不活性ガスを除く物質の添加によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/90@L	・沈澱剤によるもの〔酸化による沈澱生成→Ｒ；吸着剤による沈澱生成→Ｐ〕	HB	CC	4G043

C01B17/90@P	・吸着剤によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/90@Q	・・イオン交換樹脂またはキレ－ト樹脂によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/90@R	・酸化剤によるもの〔不活性ガスとしての空気の使用→Ａ〕	HB	CC	4G043

C01B17/90@S	・液体抽出剤によるもの	HB	CC	4G043

C01B17/90@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B17/92	・・・アシッドタールまたは同等物からの回収	HB	CC	4G043

C01B17/94	・・・ニトロ化用酸からの回収	HB	CC	4G043

C01B17/96	・硫酸塩の一般的製造方法（特に個々の硫酸塩は陽イオンにしたがいＣ０１Ｂ～Ｃ０１Ｇ中の該当するグループ参照）	HB	CC	4G043

C01B17/98	・いおうと酸素を含有する他の化合物（過硫酸Ｃ０１Ｂ１５／０６；過硫酸塩Ｃ０１Ｂ１５／０８）	HB	CC	4G043

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