FI(一覧表示)

  • B32B38/00
  • 積層過程に伴う付随的操作[8] HB CC 4F100
  • B32B38/04
  • ・パンチング,スリットの形成または穴あけ[8] HB CC 4F100
  • B32B38/06
  • ・エンボス加工[8] HB CC 4F100
  • B32B38/08
  • ・含浸[8] HB CC 4F100
  • B32B38/10
  • ・層またはその一部の,機械的または化学的除去[2006.01] HB CC 4F100
  • B32B38/12
  • ・深しぼり[8] HB CC 4F100
  • B32B38/14
  • ・印刷または着色[8] HB CC 4F100
  • B32B38/16
  • ・乾燥;軟化;清浄[8] HB CC 4F100
  • B32B38/18
  • ・層または積層体の取扱い[8] HB CC 4F100
  • B32B38/18@A
  • 組立てられた層の処理を特徴とするもの HB CC 4F100
  • B32B38/18@B
  • ・機械的に処理するもの HB CC 4F100
  • B32B38/18@C
  • ・・切断または他のやり方での分離を特徴とするもの HB CC 4F100
  • B32B38/18@D
  • ・・表面処理を特徴とするもの HB CC 4F100
  • B32B38/18@E
  • ・非機械的に処理するもの HB CC 4F100
  • B32B38/18@F
  • ・赤外線以外の輻射を特徴とするもの HB CC 4F100
  • B32B38/18@Z
  • その他のもの HB CC 4F100
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