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H10P76/00 半導体本体上のマスクの製造または処理，例．リソグラフィまたはフォトリソグラフィによるもの［２０２６．０１］ CC H10P76/20 ・有機材料からなるマスク［２０２６．０１］ CC H10P76/40 ・無機材料からなるマスク［２０２６．０１］ CC