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このページは、メイングループH10P14/00内の「IPC」を全て表示しています。 |
CC:コンコーダンス |
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| 材料の形成，例．層またはピラー状に形成［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・半導体材料の形成［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・物理蒸着を用いるもの，例．真空蒸着またはスパッタリング［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・化学気相成長［ＣＶＤ］を用いるもの［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・液相堆積を用いるもの［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・導電材料または抵抗材料の形成［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・気体または蒸気を用いるもの［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・・化学蒸着，例．化学気相成長［ＣＶＤ］［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・・物理気相成長［ＰＶＤ］［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・・・スパッタリング［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・液体を用いるもの［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・・電解析出，すなわち電解めっき；無電解めっき［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・絶縁材料の形成［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・マスクを用いるもの［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・有機材料，例．フォトレジスト［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・無機材料［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・・酸化物，ガラス状酸化物または酸化物系ガラスから成るもの［２０２６．０１］ | CC | ||
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| ・・・窒化物から成るもの［２０２６．０１］ | CC |