IPC(一覧表示)

H05H1/00	プラズマの生成；プラズマの取扱い（熱核融合炉へのプラズマ技術の応用Ｇ２１Ｂ１／００）		CC
H05H1/02	・電界または磁界あるいはそれらによってプラズマを閉じ込めるための装置；プラズマを加熱するための装置（電子光学Ｈ０１Ｊ）		CC
H05H1/03	・・静電界を用いるもの［３］		CC
H05H1/04	・・プラズマ中の放電によって発生する磁界を用いるもの		CC
H05H1/06	・・・直線ピンチプラズマ発生装置		CC
H05H1/08	・・・誘導ピンチ（θピンチ）プラズマ発生装置		CC
H05H1/10	・・磁界のみを用いるもの		CC
H05H1/11	・・・カスプ配位を用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／１４が優先）［３］		CC
H05H1/12	・・・閉ループ形状の容器を用いるもの，例．ステラレイタ		CC
H05H1/14	・・・容器が直線状で磁気鏡をもつもの		CC
H05H1/16	・・電界と磁界を用いるもの		CC
H05H1/18	・・・超高周波，例．マイクロ波領域，の振動電界および磁界を用いるもの		CC
H05H1/20	・・オーム加熱		CC
H05H1/22	・・入射加熱のためのもの		CC
H05H1/24	・プラズマの発生［２］		CC
H05H1/26	・・プラズマトーチ［２］		CC
H05H1/28	・・・冷却装置［３］		CC
H05H1/30	・・・電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（Ｈ０５Ｈ１／２８が優先）［３］		CC
H05H1/32	・・・アークを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２８が優先）［３］		CC
H05H1/34	・・・・細部，例．電極，ノズル［３］		CC
H05H1/36	・・・・・回路装置（Ｈ０５Ｈ１／３８，Ｈ０５Ｈ１／４０が優先）［３］		CC
H05H1/38	・・・・・電極の案内またはセンタリング［３］		CC
H05H1/40	・・・・・磁界を用いるもの，例．アークを集束または回転させるためのもの［３］		CC
H05H1/42	・・・・プラズマ中に材料，例．粉末または液体，を導入するための設備を有するもの［２００６．０１］	定義	CC
H05H1/44	・・・・複数のトーチを用いるもの［３］		CC
H05H1/46	・・電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先）［３］		CC
H05H1/48	・・アークを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先）［３］		CC
H05H1/50	・・・そして磁界を用いるもの，例．アークを集束または回転させるためのもの［３］		CC
H05H1/52	・・イクスプロウディングワイヤまたはスパークギャップを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先）［２００６．０１］	定義	CC
H05H1/54	・プラズマの加速［３］		CC