IPC(一覧表示)

  • G03F7/00
  • フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置(特別の製造法のためのフォトレジスト構造を用いるもの,関係箇所,例.B44C,H01L,例.H01L21/00,H05K,を参照)[3,5] CC
  • G03F7/004
  • ・感光材料(G03F7/12,G03F7/14が優先)[5] CC
  • G03F7/008
  • ・・アジド(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/012
  • ・・・高分子アジド;高分子添加剤,例.結合剤[5] CC
  • G03F7/016
  • ・・ジアゾニウム塩又は化合物(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/021
  • ・・・高分子ジアゾニウム化合物;高分子添加剤,例.結合剤[5] CC
  • G03F7/022
  • ・・キノンジアジド(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/023
  • ・・・高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤[5] CC
  • G03F7/025
  • ・・炭素-炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/027
  • ・・炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/028
  • ・・・増感物質をもつもの,例.光重合開始剤[5] CC
  • G03F7/029
  • ・・・・無機化合物;オニウム化合物;酸素,窒素又は硫黄以外の異種原子をもつ有機化合物[5] CC
  • G03F7/031
  • ・・・・グループG03F7/029に包含されない有機化合物[5] CC
  • G03F7/032
  • ・・・結合剤をもつもの[5] CC
  • G03F7/033
  • ・・・・結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体[5] CC
  • G03F7/035
  • ・・・・結合剤がポリウレタンであるもの[5] CC
  • G03F7/037
  • ・・・・結合剤がポリアミド又はポリイミドであるもの[5] CC
  • G03F7/038
  • ・・不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物(G03F7/075が優先;高分子アジドG03F7/012;高分子ジアゾニウム化合物G03F7/021)[5] CC
  • G03F7/039
  • ・・光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト(G03F7/075が優先;高分子キノンジアジドG03F7/023)[5] CC
  • G03F7/04
  • ・・クロム酸塩(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/06
  • ・・銀塩(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/07
  • ・・・拡散転写に用いられるもの[5] CC
  • G03F7/075
  • ・・シリコン含有化合物[5] CC
  • G03F7/085
  • ・・接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/09
  • ・・構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの(印刷版用支持体一般B41N)[5] CC
  • G03F7/095
  • ・・・2つ以上の感光層をもつもの(G03F7/075が優先)[5] CC
  • G03F7/105
  • ・・・可視像を形成するための物質,例.指示薬,をもつもの[5] CC
  • G03F7/11
  • ・・・被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの[5] CC
  • G03F7/115
  • ・・・真空焼付においてスクリーン効果又はより良い密着を得るための手段を有する支持体又は層をもつもの[5] CC
  • G03F7/12
  • ・スクリーン印刷版又は類似の印刷版,例.ステンシル,の製造 CC
  • G03F7/14
  • ・コロタイプ印刷版の製造 CC
  • G03F7/16
  • ・塗布法;そのための装置(支持体材料への塗布一般B05;写真目的用支持体への感光組成物の塗布G03C1/74) CC
  • G03F7/18
  • ・・カーブした面への塗布 CC
  • G03F7/20
  • ・露光;そのための装置(複製用写真焼付装置G03B27/00)[4] CC
  • G03F7/207
  • ・・焦点調節手段,例.自動焦点調節手段(位置合わせと焦点調節との組合わせG03F9/02;投影焼付装置の自動焦点調節手段G03B27/34;焦点調節信号の自動発生のためのシステム一般G02B7/28)[4] CC
  • G03F7/213
  • ・・同一表面の異なる位置を同一パターンで同時に露光するもの(G03F7/207が優先)[4] CC
  • G03F7/22
  • ・・同一表面の異なる位置を同一パターンで逐次露光するもの(G03F7/207が優先)[4] CC
  • G03F7/23
  • ・・・そのための自動的な手段[4] CC
  • G03F7/24
  • ・・カーブした表面への露光 CC
  • G03F7/26
  • ・感光材料の処理;そのための装置(G03F7/12~G03F7/24が優先)[3,5] CC
  • G03F7/28
  • ・・粉体画像を得るためのもの(G03F3/10が優先)[5] CC
  • G03F7/30
  • ・・液体手段を用いる画像様除去[5] CC
  • G03F7/32
  • ・・・そのための液体組成物,例.現像剤[5] CC
  • G03F7/34
  • ・・選択的転写による画像様除去,例.剥離[5] CC
  • G03F7/36
  • ・・グループG03F7/30~G03F7/34に包含されない画像様除去,例.ガス流を用いるもの,プラズマを用いるもの[5] CC
  • G03F7/38
  • ・・画像様除去前の処理,例.予熱[5] CC
  • G03F7/40
  • ・・画像様除去後の処理,例.加熱[5] CC
  • G03F7/42
  • ・・剥離又はそのための処理剤[5] CC
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