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C01B3/00	水素；水素を含有する混合ガス；水素を含有する混合物からのそれの分離；水素の精製（固体炭素質物質からの水性ガスまたは合成ガスの製造Ｃ１０Ｊ）［３］	定義	CC
C01B3/02	・水素または水素含有混合ガスの製造［３］		CC
C01B3/04	・・無機化合物，例．アンモニア，の分解によるもの［３］		CC
C01B3/06	・・エレクトロポジティブに結合した水素を含有する無機化合物，例．水，酸，塩基，アンモニア，と無機還元剤との反応によるもの（水電解によるものＣ２５Ｂ１／０４）［３］		CC
C01B3/08	・・・金属によるもの［３］		CC
C01B3/10	・・・・金属と水蒸気との反応によるもの［３］		CC
C01B3/12	・・・一酸化炭素と水蒸気との反応によるもの［３］		CC
C01B3/14	・・・・熱および蒸気の運用［３］		CC
C01B3/16	・・・・触媒を使用するもの［３］		CC
C01B3/18	・・・・移動固体粒子を使用するもの［３］		CC
C01B3/20	・・・金属水酸化物と一酸化炭素との反応によるもの［３］		CC
C01B3/22	・・気体または液体有機化合物の分解によるもの［３］	定義	CC
C01B3/24	・・・炭化水素の［３］		CC
C01B3/26	・・・・触媒を使用するもの［３］		CC
C01B3/28	・・・・移動固体粒子を使用するもの［３］		CC
C01B3/30	・・・・・流動床技術を用いるもの［３］		CC
C01B3/32	・・ガス化剤，例．水，二酸化炭素，空気，と気体または液体有機化合物との反応によるもの［３］		CC
C01B3/34	・・・ガス化剤と炭化水素との反応によるもの［３］		CC
C01B3/36	・・・・ガス化剤として酸素または酸素含有混合物を用いるもの［３］		CC
C01B3/38	・・・・触媒を用いるもの［３］		CC
C01B3/40	・・・・・触媒を特徴とするもの［３］		CC
C01B3/42	・・・・・移動固体粒子を用いるもの［３］		CC
C01B3/44	・・・・・・流動床技術を用いるもの［３］		CC
C01B3/46	・・・・不連続的に予熱された非移動固体材料を用いるもの，例．ブラストとラン［３］		CC
C01B3/48	・・・・一酸化炭素と水蒸気との反応にしたがうもの［３］		CC
C01B3/50	・混合ガスからの水素または水素含有ガスの分離，例．精製（Ｃ０１Ｂ３／１４が優先）［３］		CC
C01B3/52	・・液体との接触によるもの；使用液体の再生［３］		CC
C01B3/54	・・・触媒反応を含むもの［３］		CC
C01B3/56	・・固体との接触によるもの；使用固体の再生［３］		CC
C01B3/58	・・・触媒反応を含むもの［３］		CC