G03F	フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造，例．印刷用，半導体装置の製造法用；そのための材料；そのための原稿；そのために特に適合した装置（写真植字機Ｂ４１Ｂ；写真用感光材料または処理Ｇ０３Ｃ；エレクトログラフィー，そのための感光層または処理Ｇ０３Ｇ）
	このサブクラスにおいては，下記の用語は以下に示す意味で用いる： ―“感光性”は電磁波に対する感光性のみならず，粒子線に対する感光性も意味する； ―“感光性組成物”は感光性物質，例．キノンジアジド，およびもし適用できれば，結合剤または添加剤を包含する； ―“感光材料”は感光性組成物，例．フォトレジスト，それら支持体およびもし適用できれば，補助層を包含する。［５］