B81C	マイクロ構造装置またはシステムの製造または処理に，特に適合した方法または装置（マイクロカプセルまたはマイクロバルーンの製造Ｂ０１Ｊ１３／０２；圧電素子，電歪素子，または磁歪素子自体の製造や処理に特に適した方法または装置Ｈ１０Ｎ３０／０１）［７］
	注［７］ このサブクラスは，以下のものを包含しない： ・純粋に電気的または電子的装置の製造または処理のための方法または装置，これらはＨセクション，例えば，サブクラスＨ１０Ｐに分類する； ・単一の原子または分子の操作を行う方法または装置，これらはグループＢ８２Ｂ３／００に分類する。