Descriptions for H10P90/00 and notes/indexes are displayed on this screen.

注[2026.01]
1.このグループは,その後に内部または上部に半導体装置または固体装置を製造する前のウェハを製造するための多段階工程を包含する。
2.このグループは半導体のインゴットの単結晶の成長を包含しない,当該単結晶の成長はサブクラスC30Bに包含される。