Descriptions for H10P54/00 and notes/indexes are displayed on this screen.

注[2026.01]
このグループは,半導体装置または固体装置が内部または上部に形成されている,またはこれから形成される,ウェハまたは基板の切断または分離,を包含する。当該切断は局所的であってもよい。例.溝を作るためのもの