G03F1/00	フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿，例．マスク，フォトマスク又はレチクル；そのためのマスクブランク又はペリクル；特にそれに適合した容器；その準備［３，２０１２．０１］
G03F1/00	フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿の作成（写真製版法一般７／００）［３］
	このメイングループでは，ファーストプレイス優先ルールが適用される，すなわち各階層レベルにおいて，相反する指示がない限り，最初の適切な箇所に分類する。［２０１２．０１］