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4H060 工業ガス 化学応用　　　　　　
C10K1/00 -3/06
C10K1/00-3/06 AA AA00
発明の種類（クレームの末尾に基づいて付与） 		AA01 AA02 AA03 AA04 AA08
・合成、精製、転化、分離又は混合方法 ・合成、精製、転化、分離又は混合装置 ・付属機器類（例、ガス分離膜又は制御用機器） ・もの（例、触媒、吸着剤、吸収剤又は洗浄剤） ・その他
BB BB00
プロセスの種類 		BB01 BB02 BB03 BB04 BB05 BB06 BB07 BB08
・ＣＯ含有ガスの合成 ・・固体炭素質（熱分解）ＣＯ含有ガス ・・・固体廃棄物（熱分解）ＣＯ含有ガス ・・固体炭素質（部分酸化）ＣＯ含有ガス ・・固体炭素質（水蒸気改質）ＣＯ含有ガス ・・固体炭素質＋ＣＯ２（還元）ＣＯ含有ガス ・・液体炭素質（部分酸化）ＣＯ含有ガス ・・液体炭素質（水蒸気改質）ＣＯ含有ガス
BB11 BB12 BB13 BB14 BB15 BB16 BB17
・ＣＯ含有ガスの転化 ・・ＣＯ＋Ｈ２Ｏ（転化）ＣＯ２＋Ｈ２ ・・ＣＯ＋Ｈ２（転化）ＣＨ４＋Ｈ２Ｏ ・・ＣＯ２＋Ｈ２（転化）ＣＯ＋Ｈ２Ｏ ・・ＣＯ２＋Ｈ２（転化）ＣＨ４＋Ｈ２Ｏ ・・ＣＯＳ＋Ｈ２Ｏ（転化）Ｈ２Ｓ＋ＣＯ２ ・・ジェン等又はＯ２の水素添加
BB21 BB22 BB23 BB24 BB25
・粗ガスの精製 ・・粗ガス（吸着）精製ガス（←乾式吸収） ・・粗ガス（湿式吸収）精製ガス ・・粗ガス（冷却）精製ガス ・・粗ガス（乾式除塵）精製ガス
BB31 BB32 BB33 BB34 BB38
・ガスの分離又は混合 ・・ガス（分離）富化製品ガス（←不燃成分除去） ・・ガス源（分離）高純度ガス ・・ガス＋別ガス（混合）製品ガス（例、増熱） ・その他のプロセス（←貯蔵又は原料の調整）
CC CC00
プロセスの改良点 		CC01 CC02 CC03 CC04 CC05 CC06
・装置の保守、防汚、洗浄又は防臭 ・易貯蔵物質を媒体に用いる需要供給の調整 ・エネルギーの回収（←スチーム） ・廃物類の利用 ・有用副生物の回収 ・特異なエネルギー源又は反応式の適用
CC11 CC12 CC13 CC14 CC15 CC18
・原料の供給源の選択 ・プロセスの自動制御 ・プロセスの始動、停止又は維持 ・転化プロセスでのガスの循環 ・単一処理プロセスの多段化 ・その他＊
DD DD00
ＢＢ２１－３３で除去される成分 		DD01 DD02 DD03 DD04 DD05 DD06 DD07
・ＣＯ ・ＣＯ２ ・ＣＨ４、Ｃ２Ｈ６等 ・Ｈ２ ・Ｈ２Ｏ ・Ｏ２ ・Ｎ２又は不活性ガス
DD11 DD12 DD13 DD14 DD15
・酸性ガス ・・硫黄化合物 ・・ハロゲン化合物 ・・シアン化合物 ・・ＮＯＸ
DD21 DD22 DD23 DD24 DD28
・アンモニア化合物 ・ガム質、ジェン類又はオレフィン類 ・フェノール、タール又は軽油類 ・ダスト又はミスト ・その他（例、Ｈｇ又はＡｓ）
EE EE00
ＢＢ３３で得られる高純度ガス 		EE01 EE02 EE03 EE04 EE08
・ＣＯ ・ＣＯ２ ・Ｈ２ ・ＣＨ４ ・その他（例、Ｃ３Ｈ８又はＨ２Ｓ）
FF FF00
ものの使用、その組成又は材質 		FF01 FF02 FF03 FF04 FF05 FF06 FF07
・装置又は付属機器類の組成又は材質 ・ＢＢ０１－１７での触媒の使用又は組成 ・固体吸着剤の使用又は組成 ・液体吸収剤の使用又は組成 ・ＢＢ２４での固体塊冷却材の使用 ・ＢＢ２４での油性冷却材の使用 ・ＢＢ２４での水性冷却材の使用
FF11 FF12 FF13 FF18
・洗浄剤の使用 ・防錆剤の使用 ・使用したものの再生 ・その他のものの使用
GG GG00
ガスの用途 		GG01 GG02 GG08
・ガスタービン用 ・燃料電池用 ・その他
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