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| 2K009 | 光学要素の表面処理 | 応用光学 |
| G02B1/10 -1/18 | ||
| G02B1/10-1/18 | AA | AA00 表面構造（＊） |
AA01 | AA02 | AA03 | AA04 | AA05 | AA06 | AA07 | AA08 | AA09 | AA10 |
| ・反射防止構造 | ・・反射防止膜 | ・・・層数 | ・・・・１層 | ・・・・２層 | ・・・・３層 | ・・・・４層 | ・・・・５層 | ・・・・６層以上 | ・・・不均質層を有するもの | |||
| AA12 | AA15 | |||||||||||
| ・・拡散、吸収（例、粗面） | ・ハードコート層 | |||||||||||
| BB | BB00 基板材料（＊） |
BB01 | BB02 | BB04 | BB06 | |||||||
| ・無機材料（＊） | ・・ガラス（＊） | ・・結晶、赤外紫外線用材料（＊） | ・・金属（＊） | |||||||||
| BB11 | BB12 | BB13 | BB14 | BB15 | ||||||||
| ・有機材料（＊） | ・・付加重合体系（＊） | ・・・スチレン系（＊） | ・・・アクリル系（＊） | ・・・ハロゲン含有系（＊） | ||||||||
| BB22 | BB23 | BB24 | BB25 | BB27 | BB28 | |||||||
| ・・重縮合体系（＊） | ・・・エポキシ系（＊） | ・・・ポリエステル、ポリカーボネート系（＊） | ・・・ポリウレタン、ＮＣＯ含有系（＊） | ・・天然物系（＊） | ・・・セルロース系（＊） | |||||||
| CC | CC00 被覆材料（＊） |
CC01 | CC02 | CC03 | CC06 | CC09 | ||||||
| ・無機材料（例、カーボン）（＊） | ・・金属化合物（＊） | ・・・金属酸化物（＊） | ・・・金属フッ化物（＊） | ・・・粒状物（コロイダルシリカ等）（＊） | ||||||||
| CC12 | CC14 | |||||||||||
| ・・結晶、赤外紫外線用材料（＊） | ・・金属、光吸収材料（＊） | |||||||||||
| CC21 | CC22 | CC23 | CC24 | CC25 | CC26 | |||||||
| ・有機材料（＊） | ・・付加重合体系（＊） | ・・・スチレン系（＊） | ・・・アクリル系（＊） | ・・・不飽和カルボン酸系（＊） | ・・・ハロゲン含有系（＊） | |||||||
| CC32 | CC33 | CC34 | CC35 | CC37 | CC38 | |||||||
| ・・重縮合体系（＊） | ・・・エポキシ系（＊） | ・・・ポリエステル、ポリカーボネート系（＊） | ・・・ポリウレタン、ＮＣＯ含有系（＊） | ・・天然物系（＊） | ・・・セルロース系（＊） | |||||||
| CC42 | CC45 | CC47 | ||||||||||
| ・・Ｓｉ含有化合物系（シラン化合物等）（＊） | ・・ＢＡｌＺｒＰＴｉＶＣｒＮｂＳｎＳｂＴａ含有物 | ・・界面活性剤（＊） | ||||||||||
| DD | DD00 表面処理方法（＊） |
DD01 | DD02 | DD03 | DD04 | DD05 | DD06 | DD07 | DD08 | DD09 | ||
| ・被覆方法（塗布、接着、圧着、酸化、加水分解等） | ・・塗布、浸漬 | ・・蒸着 | ・・スパッタリング、プラズマ処理 | ・・光（各種粒子線を含む）照射、光硬化 | ・・加熱、乾燥 | ・・イオン処理（イオンプレーティング等） | ・・前処理 | ・・被覆装置 | ||||
| DD11 | DD12 | DD15 | DD16 | DD17 | ||||||||
| ・表面加工方法（＊） | ・・化学的処理（溶剤処理、エッチング等） | ・・物理的処理 | ・・・研磨 | ・・・輻射、粒子線処理（コロナ、プラズマ処理等 | ||||||||
| EE | EE00 特殊目的（＊） |
EE01 | EE02 | EE03 | EE04 | EE05 | EE06 | |||||
| ・染色、着色 | ・防曇、結露防止 | ・導電性、帯電防止 | ・耐熱性 | ・防カビ性、汚れ防止 | ・非球面化 | |||||||
| FF | FF00 組合わせ光学要素との関連構成（＊） |
FF01 | FF02 | FF03 | ||||||||
| ・光学素子表面を部分的に処理したもの | ・光学素子の複数面を表面処理したもの | ・光学素子の接着面におけるもの |