Fタームリスト

2K102へ統合(H24)
2K002 光偏向、復調、非線型光学、光学的論理素子 アミューズマシン
G02F1/29 -7/00
G02F1/29-7/00 AA AA00
用途
AA01 AA02 AA03 AA04 AA05 AA06 AA07
・光情報処理 ・光通信 ・光コンピュータ ・計測,分析,製造 ・光ディスク ・プリンタ,ファクシミリ,複写機,カメラ ・その他の用途(ディスプレイ等)
AB AB00
機能,デバイス
AB01 AB02 AB03 AB04 AB05 AB06 AB07 AB08 AB09 AB10
・光分波(分岐)器 ・光合波器 ・光偏向器(スキャナ等) ・・光スイッチ(デジタル偏向) ・・・マトリクススイッチ ・・アナログ偏向 ・・光軸方向の偏向 ・・2次元偏向 ・光変調器 ・・空間光変調器
AB11 AB12 AB13 AB14 AB15 AB16 AB18 AB19
・光変換器 ・・周波数(波長)変換,シフト ・・位相変換,シフト ・・インコヒ―レント―コヒ―レント変換 ・・光学的AD,DA変換 ・・パラレル―シリアル変換 ・復調 ・・ホモダイン・ヘテロダイン検波
AB21 AB22 AB23 AB24 AB25 AB27 AB28 AB29 AB30
・光論理素子 ・・相関演算素子 ・・論理演算素子 ・・・光フリップフロップ回路 ・・・光インバータ回路 ・発光源(レーザ等) ・光双安定素子,多安定素子 ・光メモリ ・光増幅器
AB31 AB32 AB33 AB34 AB40
・位相共役素子 ・光ソリトン発生 ・光パルス圧縮 ・波長分離 ・その他の機能,デバイス*
BA BA00
制御因子
BA01 BA02 BA03 BA04 BA06 BA07 BA08
・光 ・・パルス光 ・・偏光した光 ・・複数の光 ・電気 ・・光起電力 ・・電荷注入(キャリア濃度)
BA11 BA12 BA13 BA20
・磁気,磁界 ・音,超音波,弾性波,表面波 ・熱 ・その他の制御因子(圧力等)
CA CA00
材料
CA01 CA02 CA03 CA04 CA05 CA06 CA07 CA08 CA09 CA10
・制御本体材料* ・・無機材料* ・・・LiNbO3,LiTaO3 ・・・KDP,ADP ・・有機材料* ・・・高分子材料* ・・・複素環式化合物誘導体* ・・・縮合多環化合物誘導体* ・・・単核芳香族誘導体* ・・・・2置換ベンゼン*
CA11 CA12 CA13 CA14 CA15 CA16 CA17
・・・・3置換ベンゼン* ・・・複核芳香族誘導体* ・・半導体材料* ・・液晶材料* ・・ガラス* ・・・半導体ドープガラス* ・・液体*
CA21 CA22 CA23 CA24 CA25 CA26 CA30
・基板材料 ・・結晶* ・・非晶質* ・・有機物* ・クラッド・バッファ部材* ・端面・表面処理部材* ・その他の材料*
DA DA00
形態
DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DA06 DA07 DA08 DA09 DA10
・バルク ・・貼合せ ・導波路 ・・薄膜型 ・・・スラブ型 ・・・チャンネル型 ・・・・方向性結合型 ・・・・分岐・合流型 ・・・薄膜レンズ ・・ファイバ型
DA11 DA12 DA14 DA20
・・半導体型 ・・・MQW型 ・液晶 ・その他の形態*
EA EA00
構造
EA01 EA02 EA03 EA04 EA05 EA06 EA07 EA08 EA09 EA10
・端面構造 ・・形状 ・・反射膜被覆構造 ・光導波路構造 ・・厚み・幅の変化 ・・導波部間隔の変化 ・・回折格子を有するもの ・・光吸収層,クラッド層,導波路層との関係 ・配置 ・・直列接続
EA11 EA12 EA13 EA14 EA15 EA16
・・・複屈折結晶との組合せ ・・・偏光方向の異なる媒体 ・・立体集積構造 ・・マトリクス ・・光集積回路(OEIC) ・・・モノリシック
EA21 EA22 EA23 EA24 EA25 EA26 EA27 EA28 EA29 EA30
・ハウジング,基板 ・・素子取付け ・・一体化 ・・・光軸調整 ・・・光学要素との一体化 ・・・駆動回路との一体化 ・半導体構造 ・・半導体レーザ構造 ・・共振器の内部構造 ・光学要素との組合せ
EB EB00
制御部の構造と回路
EB01 EB02 EB03 EB04 EB05 EB06 EB07 EB08 EB09
・電極 ・・配置 ・・・位置 ・・・縦型 ・・形状 ・・・わん曲 ・・・くし歯型(IDT型) ・・透明なもの ・・複数の電極
EB11 EB12 EB13 EB14 EB15
・制御部構造 ・制御回路 ・・駆動波形,電圧印加パターン ・・信号処理 ・・検知,フィードバック
FA FA00
製造方法
FA01 FA02 FA03 FA04 FA05 FA06 FA07 FA08 FA09 FA10
・成膜法 ・・エピタキシャル成長 ・・・液相エピタキシャル(LPE) ・・・分子線エピタキシャル(MBE) ・・・CVD ・・真空蒸着 ・・スパッタ法 ・・塗布 ・・LB(ラングミュアーブロジェット)法 ・・重合
FA11 FA12 FA13 FA14 FA15 FA16 FA17 FA18 FA19 FA20
・単結晶作製 ・・ブリッジマン法 ・・ゾーンメルト法 ・・有機結晶成長 ・光ファイバ作製 ・パターン形成 ・・フォトリソグラフィ ・・ビームの利用 ・・・レーザ ・・・イオンビーム
FA21 FA22 FA23 FA24 FA25 FA26 FA27 FA28 FA29 FA30
・・・電子ビーム ・処理 ・・イオン注入,打込み ・・イオン交換法 ・・・電界印加イオン交換法 ・・プロトン交換 ・・分極処理 ・・拡散 ・貼合せ法(融着等) ・その他の製造方法に関連するもの
GA GA00
目的
GA01 GA02 GA03 GA04 GA05 GA06 GA07 GA10
・偏光無依存 ・クロストーク除去 ・ドリフト除去 ・位相整合 ・動作状態保持 ・温度補償 ・動作のための光量・電圧等の低減 ・その他の特殊目的*
HA HA00
動作原理
HA01 HA02 HA03 HA04 HA05 HA06 HA07 HA08 HA09 HA10
・線形光学現象 ・・電気光学効果 ・・・ポッケルス効果 ・・・偏波面回転 ・・・位相変調 ・・・伝搬係数変化 ・・・全反射 ・・・周期的屈折率変化 ・・磁気光学効果 ・・音響光学効果
HA11 HA13 HA14 HA15 HA16 HA17 HA18 HA19 HA20
・・熱光学効果 ・非線形光学現象 ・・二次 ・・・電界屈折率効果 ・・・・光屈折率効果 ・・・・量子閉じ込めシュタルク効果 ・・・周波数変換 ・・・・三光波混合 ・・・・・高調波発生
HA21 HA22 HA23 HA24 HA25 HA26 HA27 HA28 HA29 HA30
・・・・光パラメトリック発振 ・・三次 ・・・誘導散乱 ・・・・誘導ブルリアン散乱 ・・・光ソリトン効果 ・・・非線形屈折率効果 ・・・・光カー効果 ・・・・光シュタルク効果 ・・・光双安定 ・・・励起子吸収飽和
HA31 HA32 HA33
・・・四光波混合 ・・・・三次高調波発生 ・・・・縮退光波混合
TOP