H10F | 赤外線,可視光,短波長電磁波または粒子線の輻射に感応する無機半導体装置[2025.01] |
1. 無機輻射線感応半導体装置が以下に特に適している場合に限り,このサブクラスは当該装置を包含する。: ・輻射線エネルギーの電気的エネルギーへの変換; または ・輻射線による電気的エネルギーの制御 2.このサブクラスでは,「赤外線」は,約700nmから約1mmの間の波長を含む。 3.このサブクラスでは,セクションCの注(3)の周期表中で示されたI~VIII族の周期系が用いられる。[2025.01] | |
光起電 個々の光起電セル H10F10/00 光起電モジュールまたは集積装置 H10F19/00 輻射線によって制御される装置 個々のフォトレジスタ,フォトダイオード,フォトトランジスタまたは類似の装置 H10F30/00 集積装置または複数の装置の組立体 H10F39/00 他の装置 電気光源と結合された輻射線感応装置 H10F55/00 製造または処理;構造的細部 製造または処理 H10F71/00 構造的細部 H10F77/00 このサブクラスの他のグループに分類されない主題事項 H10F99/00[2025.01] |
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