H05H	プラズマ技術（Ｘ線の発生に特に適した装置と方法Ｈ０５Ｇ２／００）；加速された荷電粒子のまたは中性子の発生；中性分子または原子ビームの発生または加速
	注［３］ （１）このサブクラスは，以下のものを包含する： （ａ）プラズマの発生または取扱い； （ｂ）電子，イオンビームまたは中性粒子を加速する装置； （ｃ）中性粒子ビームを発生させるための装置； （ｄ）（ａ），（ｂ），または（ｃ）のためのターゲット （２）このサブクラスは、サブクラスＨ０１Ｊが包含する放電管または放電ランプ内で電子またはイオンの流れを生成、加速、影響、または利用するための装置を包含しない。