この画面は、B01Dの説明文、注記/索引を表示しています。

(1)このサブクラスは以下のものを包含する:
―蒸発,蒸留,晶析,ろ過,粉末の沈降,気体の洗浄,吸収,吸着;
―吸収または吸着の場合を除いた,分離に関係ないかまたはそれのみに制限されない類似の方法を含む。
(2)このサブグラスにおいては,下記の用語または表現は以下に示す意味で用いる: 
―“ろ過”および類似した用語は流体から固体を濾すことを含む。ろ過とは,通常,ろ過媒体を用いた処理である。;
―“ろ過媒体”は流体から固体をろ過するため用いられる多孔性物質または物質の多孔性配列である;
―“ろ過体”は媒体が取り外し自在にまたは永続的に取付けられる部品のほか,ろ過媒体の一部分であって,媒体の他の部分,末端のふた,外周の枠または端近の細片を含む。ただし,ハウジングは除く;[5]
―“ろ過装置のハウジング”は流体を閉じこめる不浸透容器で,開放または閉鎖を問わず,その内部に1つ以上のろ過体またはろ過媒体を含み,または含むために設けられるものである;[5]
―“ろ過室”はハウジング内の空間であり,ろ過体またはろ過媒体が入れられる。仕切りによって単一のハウジングが複数の室に分割されている;[5]
―“ろ過装置”はハウジングと組み合わされたろ過体,清掃装置,モーターまたは類似の部品からなり,それらは装置の特殊な型を特徴づけている。ポンプまたはバルブのような付属装置はろ過装置内部にあるときはその部品と考えられる。粉砕機,混合機または非ろ過分離機のような類似または異なる単位操作を行なう付属装置は,ろ過装置内にあろうとなかろうと,その部品とは考えない。用語は例えば,ろ過機がその一部品にすぎない洗濯機のような装置にまでは及ばない。[5]
(3)乾燥または蒸発に用いる装置に関しては,クラスF26が,このサブクラスに優先する。
(4)グループB01D59/00は,このサブクラスの他のグループおよびクラスB01の他のサブクラスに優先する。
蒸発;蒸留;昇華 1/00;3/00;5/00;7/00
コールドトラップ,コールドバッフル 8/00
晶析 9/00
溶剤抽出 11/00
液体の処理:置換,吸着,分離,脱気,クロマトグラフィー 12/00,15/00,17/00,19/00[8]
ガスまたは蒸気の処理:廃ガスの分離,回収,化学的または生物学的浄化 53/00
液体から懸濁粒子の分離
沈でんによるもの 21/00
ろ過によるもの
工程 37/00
重力ろ過機;ろ過体から構成されたろ過機,加圧または吸引ろ過機 24/00;25/00,29/00
カートリッジろ過機 27/00
可動ろ過体を有するろ過機 33/00
ろ過装置 35/00
ろ過系統または組み合わせ 36/00
他の工程によるもの 43/00
ガスまたは蒸気からの分散粒子の分離
ガスまたは蒸気の前処理 51/00
重力,慣性,遠心力によるもの;ろ過によるもの;装置の組み合わせによるもの 45/00;46/00;50/00
他の方法によるもの 47/00,49/00
ろ過材 39/00,41/00
同位元素の分離 59/00
吸収,吸着,クロマトグラフィー;その他の分離方法 15/00,15/08,53/02,53/14;57/00
半透膜を用いる分離;透析,浸透,限外ろ過 61/00~71/00