| FI | 変更後 | 変更前 | 更新時期 |
|---|---|---|---|
| H05H 1/42 | ・・・・プラズマ中に材料，例．粉末または液体，を導入するための設備を有するもの［２００６．０１］ | ・・・・プラズマ中に材料，例．粉末，液体，を導入するための設備を有するもの（静電噴霧，噴霧を電気的に荷電するための手段を有する装置Ｂ０５Ｂ５／００）［３］ | 2025年1月 |
| H05H 1/52 | ・・イクスプロウディングワイヤまたはスパークギャップを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先）［２００６．０１］ | ・・イクスプロウディングワイヤまたはスパークギャップを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先；スパークギャップ一般Ｈ０１Ｔ）［３］ | 2025年1月 |
| H05H 3/02 | ・分子ビームまたは原子ビームの発生，例．共振ビーム発生［２００６．０１］ | ・分子ビームまたは原子ビームの発生，例．共振ビーム発生（ガスメーザＨ０１Ｓ１／０６）［３］ | 2025年1月 |
| H05H 5/03 | ・・加速管［２００６．０１］ | ・・加速管（容器表面に改良されたポテンシャル分布を有する放電管のうつわまたは容器Ｈ０１Ｊ５／０６；うつわまたは容器に組み合わされたＸ線管の遮へいＨ０１Ｊ３５／１６）［４］ | 2025年1月 |
| H05H 7/02 | ・高周波エネルギを供給するための回路および方式［２００６．０１］ | ・高周波エネルギを供給するための回路および方式（高周波発生器Ｈ０３Ｂ） | 2025年1月 |
| H05H 1/46@L | ・誘導結合プラズマ | ・高周波コイル型 | 2023年10月 |
| H05H 1/46@M | ・容量結合プラズマ | ・平行平板型 | 2023年10月 |
| H05H 1/44 | ・・・・複数のトーチを用いるもの［３］ | ・・・・１以上のトーチを用いるもの［３］ | 2014年11月 |
| H05H 1/11 | ・・・カスプ配位を用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／１４が優先）［３］ | ・・・カスプ配位を用いるもの（１／１４が優先）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 1/30 | ・・・電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（Ｈ０５Ｈ１／２８が優先）［３］ | ・・・電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（１／２８が優先）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 1/32 | ・・・アークを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２８が優先）［３］ | ・・・アークを用いるもの（１／２８が優先）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 1/36 | ・・・・・回路装置（Ｈ０５Ｈ１／３８，Ｈ０５Ｈ１／４０が優先）［３］ | ・・・・・回路装置（１／３８，１／４０が優先）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 1/46 | ・・電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先）［３］ | ・・電磁界を用いるもの，例．高周波またはマイクロ波エネルギー（１／２６が優先）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 1/48 | ・・アークを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先）［３］ | ・・アークを用いるもの（１／２６が優先）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 1/52 | ・・イクスプロウディングワイヤまたはスパークギャップを用いるもの（Ｈ０５Ｈ１／２６が優先；スパークギャップ一般Ｈ０１Ｔ）［３］ | ・・イクスプロウディングワイヤまたはスパークギャップを用いるもの（１／２６が優先；スパークギャップ一般Ｈ０１Ｔ）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 3/06 | ・中性子ビームを発生するもの（核反応を起こすためのターゲットＨ０５Ｈ６／００；中性子源Ｇ２１Ｇ４／０２）［５］ | ・中性子ビームを発生するもの（核反応を起こすためのターゲット６／００；中性子源Ｇ２１Ｇ４／０２）［５］ | 2013年11月 |
| H05H 5/00 | 直流電圧型加速器；単一パルスを用いる加速器（Ｈ０５Ｈ３／０６が優先）［５］ | 直流電圧型加速器；単一パルスを用いる加速器（３／０６が優先）［５］ | 2013年11月 |
| H05H 5/02 | ・細部（核反応を起こすためのターゲットＨ０５Ｈ６／００）［３］ | ・細部（核反応を起こすためのターゲット６／００）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 7/00 | グループＨ０５Ｈ９／００～Ｈ０５Ｈ１３／００によって包含される型の装置の細部（核反応を起こすためのターゲットＨ０５Ｈ６／００）［３］ | グループ９／００から１３／００によって包含される型の装置の細部（核反応を起こすためのターゲット６／００）［３］ | 2013年11月 |
| H05H 7/14 | ・真空室（Ｈ０５Ｈ５／０３が優先）［４］ | ・真空室（５／０３が優先）［４］ | 2013年11月 |
| H05H 7/22 | ・線型加速器の細部，例．ドリフト管（Ｈ０５Ｈ７／０２～Ｈ０５Ｈ７／２０が優先）［４］ | ・線型加速器の細部，例．ドリフト管（７／０２から７／２０が優先）［４］ | 2013年11月 |
| H05H 9/00 | 線形加速器（Ｈ０５Ｈ１１／００が優先） | 線形加速器（１１／００が優先） | 2013年11月 |