| FI |
変更後 |
変更前 |
更新時期 |
| C25D 11/04,308 |
・・・・組成に特徴のあるもの（Ｃ２５Ｄ１１／０４，３０７またはＣ２５Ｄ１１／１４，３０１が優先） |
・・・・組成に特徴のあるもの（１１／０４３０７，１１／１４３０１が優先） |
2014年4月 |
| C25D 11/04,310 |
・・・模様表面の形成（Ｃ２５Ｄ１１／１８，３１４またはＣ２５Ｄ１１／２２，３１１が優先） |
・・・模様表面の形成（１１／１８３１４，１１／２２３１１が優先） |
2014年4月 |
| C25D 11/04,313 |
・・・白色，乳白色，不透明皮膜の形成（Ｃ２５Ｄ１１／２２，３１０が優先） |
・・・白色，乳白色，不透明皮膜の形成（１１／２２３１０が優先） |
2014年4月 |
| C25D 11/18,302 |
・・・・着色（塗装によるものＣ２５Ｄ１１／１８，３０６またはＣ２５Ｄ１１／２０，３０４） |
・・・・着色（塗装によるもの１１／１８３０６，１１／２０３０４） |
2014年4月 |
| C25D 11/18,307 |
・・・・・着色酸化皮膜への塗装（無脱色電着塗装Ｃ２５Ｄ１１／２０，３０４） |
・・・・・着色酸化皮膜への塗装（無脱色電着塗装１１／２０３０４） |
2014年4月 |
| C25D 11/22,303 |
・・・・・・電気的条件に特徴のあるもの（１１／２２－３０４が優先） |
・・・・・・電気的条件に特徴のあるもの（１１／２２－３０４が優光） |
2014年4月 |
| C25D 1/08 |
・多孔物品または有孔物品，例．ふるい（Ｃ２５Ｄ１／１０が優先）［２］ |
・多孔物品または有孔物品，例．ふるい（１／１０が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 3/02 |
・溶液から（Ｃ２５Ｄ５／２４～Ｃ２５Ｄ５／３２が優先）［２］ |
・溶液から（５／２４～５／３２が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 3/54 |
・・グループＣ２５Ｄ３／０４～Ｃ２５Ｄ３／５０に分類されない金属［２］ |
・・グループ３／０４から３／５０に分類されない金属［２］ |
2013年11月 |
| C25D 5/10 |
・同種または異種の２層以上からなる金属の電気鍍金（軸受Ｃ２５Ｄ７／１０）［２］ |
・同種または異種の２層以上からなる金属の電気鍍金（軸受７／１０）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 5/24 |
・被覆しにくい金属の表面への電気鍍金（Ｃ２５Ｄ５／３４が優先）［２］ |
・被覆しにくい金属の表面への電気鍍金（５／３４が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 5/54 |
・非金属表面の電気鍍金（Ｃ２５Ｄ７／１２が優先）［２］ |
・非金属表面の電気鍍金（７／１２が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 9/00 |
金属以外での電解被覆（Ｃ２５Ｄ１１／００，Ｃ２５Ｄ１５／００が優先；電気泳動被覆Ｃ２５Ｄ１３／００）［２］ |
金属以外での電解被覆（１１／００，１５／００が優先；電気泳動被覆１３／００）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 11/34 |
・・グループＣ２５Ｄ１１／０４～Ｃ２５Ｄ１１／３２に分類されない金属または合金［２］ |
・・グループ１１／０４から１１／３２に分類されない金属または合金［２］ |
2013年11月 |
| C25D 17/12 |
・・形状または型（Ｃ２５Ｄ１７／１４が優先）［２］ |
・・形状または型（１７／１４が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 21/18 |
・・電解液（Ｃ２５Ｄ２１／２２が優先）［２］ |
・・電解液（２１／２２が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 21/20 |
・・洗浄溶液（Ｃ２５Ｄ２１／２２が優先）［２］ |
・・洗浄溶液（２１／２２が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C25D 11/18 |
・・・後処理，例．封孔処理［２］ |
・・・後処理，例．封孔処理（ラッカー塗装Ｂ４４Ｄ）［２］ |
2013年5月 |
| C25D 13/00 |
電気泳動被覆（Ｃ２５Ｄ１５／００が優先；電気泳動被覆のための組成物Ｃ０９Ｄ５／４４）［２］ |
電気泳動被覆（１５／００が優先；浴中に物品を連続的に移送するための装置Ｂ６５Ｇ，例．Ｂ６５Ｇ４９／００；電気泳動被覆のための組成物Ｃ０９Ｄ５／４４）［２］ |
2013年5月 |
| C25D 17/00 |
電解被覆用槽の構造部品またはその組立体［２］ |
電解被覆用槽の構造部品またはその組立体（浴中に物品を連続的に移送するための装置Ｂ６５Ｇ，例．Ｂ６５Ｇ４９／００；電気的装置は関連する箇所，例．Ｈ０１Ｂ，Ｈ０２Ｇ，を参照）［２］ |
2013年5月 |
| C25D 21/12 |
・プロセス制御または調整［２］ |
・プロセス制御または調整（制御または調整一般Ｇ０５）［２］ |
2013年5月 |