| FI |
変更後 |
変更前 |
更新時期 |
| C10G 7/08 |
・共沸または抽出蒸留（水素の不存在下，選択溶剤を用いた抽出による炭化水素油の精製Ｃ１０Ｇ２１／００）［３］ |
・共沸または抽出蒸留（水素の不存在下，選択溶剤を用いた抽出による炭化水素油の精製２１／００）［３］ |
2013年11月 |
| C10G 11/00 |
炭化水素油の水素の不存在下における接触分解（溶融金属または塩との直接接触による分解Ｃ１０Ｇ９／３４） |
炭化水素油の水素の不存在下における接触分解（溶融金属または塩との直接接触による分解９／３４） |
2013年11月 |
| C10G 17/07 |
・・・ハロゲン酸またはハロゲンのオキシ酸を用いるもの（ハロゲンを生成する酸Ｃ１０Ｇ２７／０２）［３］ |
・・・ハロゲン酸またはハロゲンのオキシ酸を用いるもの（ハロゲンを生成する酸２７／０２）［３］ |
2013年11月 |
| C10G 17/08 |
・酸生成酸化物を用いるもの（選択的溶剤としてＣＯ↓２またはＳＯ↓２を用いる精製Ｃ１０Ｇ２１／０６） |
・酸生成酸化物を用いるもの（選択的溶剤としてＣＯ↓２またはＳＯ↓２を用いる精製２１／０６） |
2013年11月 |
| C10G 21/27 |
・・・グループＣ１０Ｇ２１／１４～Ｃ１０Ｇ２１／２６の単一のグループに分類されない有機化合物［３］ |
・・・グループ２１／１４～２１／２６の単一のグループに分類されない有機化合物［３］ |
2013年11月 |
| C10G 27/12 |
・・酸素発生化合物，例．過化合物，クロム酸，クロム酸塩を用いるもの（亜鉛酸塩または鉛酸塩Ｃ１０Ｇ１９／０６）［３］ |
・・酸素発生化合物，例．過化合物，クロム酸，クロム酸塩を用いるもの（亜鉛酸塩または鉛酸塩１９／０６）［３］ |
2013年11月 |
| C10G 31/00 |
他に分類されない方法による水素の不存在下における炭化水素油の精製（蒸留によるものＣ１０Ｇ７／００）［２］ |
他に分類されない方法による水素の不存在下における炭化水素油の精製（蒸留によるもの７／００）［２］ |
2013年11月 |
| C10G 33/00 |
炭化水素油の脱水または抗乳化（蒸留によるものＣ１０Ｇ７／０４） |
炭化水素油の脱水または抗乳化（蒸留によるもの７／０４） |
2013年11月 |
| C10G 45/58 |
・存在する他の炭化水素を分解することなくある炭化水素成分の骨格構造を変化させるためのもの，例．流動点の低下；ノルマルパラフィンの選択的水素化分解（Ｃ１０Ｇ３２／００が優先；ナフサのオクタン価または芳香族含量の改良または向上Ｃ１０Ｇ３５／００）［３］ |
・存在する他の炭化水素を分解することなくある炭化水素成分の骨格構造を変化させるためのもの，例．流動点の低下；ノルマルパラフィンの選択的水素化分解（３２／００が優先；ナフサのオクタン価または芳香族含量の改良または向上３５／００）［３］ |
2013年11月 |
| C10G 47/00 |
低沸点の留分を得るための水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の分解（Ｃ１０Ｇ１５／００が優先；非溶融性固体炭素質または類似物質の分解水添Ｃ１０Ｇ１／０６）［３］ |
低沸点の留分を得るための水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の分解（１５／００が優先；非溶融性固体炭素質または類似物質の分解水添１／０６）［３］ |
2013年11月 |
| C10G 49/00 |
グループＣ１０Ｇ４５／０２，Ｃ１０Ｇ４５／３２，Ｃ１０Ｇ４５／４４，Ｃ１０Ｇ４５／５８またはＣ１０Ｇ４７／００の単一のグループに分類されない水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の処理［３］ |
グループ４５／０２，４５／３２，４５／４４，４５／５８または４７／００の単一のグループに分類されない水素または水素発生化合物の存在下における炭化水素油の処理［３］ |
2013年11月 |
| C10G 63/00 |
少なくとも１つのリホーミング工程と少なくとも１つの他の変換工程とによるナフサの処理（Ｃ１０Ｇ５９／００，Ｃ１０Ｇ６１／００が優先）［３］ |
少なくとも１つのリホーミング工程と少なくとも１つの他の変換工程とによるナフサの処理（５９／００，６１／００が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C10G 69/00 |
少なくとも１つの水素化処理工程と少なくとも１つの他の変換工程とによる炭化水素油の処理（Ｃ１０Ｇ６７／００が優先）［３］ |
少なくとも１つの水素化処理工程と少なくとも１つの他の変換工程とによる炭化水素油の処理（６７／００が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C10G 70/00 |
グループＣ１０Ｇ９／００，Ｃ１０Ｇ１１／００，Ｃ１０Ｇ１５／００，Ｃ１０Ｇ４７／００，Ｃ１０Ｇ５１／００に包含される工程により得られた組成の不明確な通常ガス状の混合物の仕上げ処理加工［５］ |
グループ９／００，１１／００，１５／００，４７／００，５１／００に包含される工程により得られた組成の不明確な通常ガス状の混合物の仕上げ処理加工［５］ |
2013年11月 |