| FI |
変更後 |
変更前 |
更新時期 |
| C07C 68/00@C |
カルバミン酸エステル，すなわちウレタン類からの |
カルバミド酸エステル〔ウレタン類〕からの |
2020年3月 |
| C07C 68/02@B |
ハロホルメートからの |
ハロホルメ－トからの |
2020年3月 |
| C07C 68/04@B |
無機カーボネートからの |
無機カ－ボネ－トからの |
2020年3月 |
| C07C 68/04@C |
二酸化炭素および無機カーボネートからの |
二酸化炭素および無機カ－ボネ－トからの |
2020年3月 |
| C07C 67/56 |
・・固―液処理によるもの；化学吸着によるもの［３］ |
・・固―液処理によるもの，例．化学吸着［３］ |
2018年9月 |
| C07C 257/10 |
・カルボキシル基の他方の酸素原子が窒素原子で置き換えられているもの，例．アミジン［５］ |
・カルボキシル基の一方の酸素原子が窒素原子で置き換えられているもの，例．アミジン［５］ |
2018年9月 |
| C07C309/12 |
・・・・・炭素骨格に結合しているエステル化された水酸基を含有するもの［５］ |
・・・・・炭素骨格に結合しているエステル化された水素基を含有するもの［５］ |
2015年4月 |
| C07C 1/36 |
・エステルの開裂によるもの（Ｃ０７Ｃ１／２１３，Ｃ０７Ｃ１／３０が優先）［３，５］ |
・エステルの開裂によるもの（１／２１３，１／３０が優先）［３，５］ |
2013年11月 |
| C07C 2/26 |
・・・・・水素化物または有機化合物を用いるもの（Ｃ０７Ｃ２／２０が優先）［３］ |
・・・・・水素化物または有機化合物を用いるもの（２／２０が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 5/22 |
・異性化によるもの（水素添加を同時に伴なうものＣ０７Ｃ５／１３） |
・異性化によるもの（水素添加を同時に伴なうもの５／１３） |
2013年11月 |
| C07C 5/54 |
・・Ｃ０７Ｃ５／４４～Ｃ０７Ｃ５／５０のグループの２以上に分類される少なくとも２つの化合物を含有する受容体を用いるもの［３］ |
・・５／４４～５／５０のグループの２以上に分類される少なくとも２つの化合物を含有する受容体を用いるもの［３］ |
2013年11月 |
| C07C 17/10 |
・・水素の（不飽和炭化水素へのハロゲンの付加と組み合わせたものＣ０７Ｃ１７／０６）［６］ |
・・水素の（不飽和炭化水素へのハロゲンの付加と組み合わせたもの１７／０６）［６］ |
2013年11月 |
| C07C 27/04 |
・酸素を含む化合物の還元によるもの（Ｃ０７Ｃ２９／１４が優先） |
・酸素を含む化合物の還元によるもの（２９／１４が優先） |
2013年11月 |
| C07C 29/09 |
・加水分解によるもの（有機酸エステルの加水分解Ｃ０７Ｃ２７／０２）［３］ |
・加水分解によるもの（有機酸エステルの加水分解２７／０２）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 29/128 |
・アルコール分解によるもの（有機酸エステルのアルコール分解Ｃ０７Ｃ２７／０２）［３］ |
・アルコール分解によるもの（有機酸エステルのアルコール分解２７／０２）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 29/44 |
・付加反応により炭素原子数が増加するもの，例．少なくとも１つの炭素―炭素二重結合または三重結合が関与する反応（Ｃ０７Ｃ２９／１６が優先）［３］ |
・付加反応により炭素原子数が増加するもの，例．少なくとも１つの炭素―炭素二重結合または三重結合が関与する反応（２９／１６が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 29/58 |
・ハロゲンの脱離によるもの，例．水素化分解，離脱によるもの（Ｃ０７Ｃ２９／１２４が優先）［３］ |
・ハロゲンの脱離によるもの，例．水素化分解，離脱によるもの（２９／１２４が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 29/60 |
・水酸基の脱離によるもの，例．脱水によるもの（Ｃ０７Ｃ２９／３４が優先）［３］ |
・水酸基の脱離によるもの，例．脱水によるもの（２９／３４が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 29/68 |
・金属アルコラートの製造（Ｃ０７Ｃ２９／４２，Ｃ０７Ｃ２９／５４が優先）［３］ |
・金属アルコラートの製造（２９／４２，２９／５４が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 37/50 |
・炭素原子数の減少する反応によるもの（Ｃ０７Ｃ３７／０１，Ｃ０７Ｃ３７／０８，Ｃ０７Ｃ３７／４８が優先）［３］ |
・炭素原子数の減少する反応によるもの（３７／０１，３７／０８，３７／４８が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 37/86 |
・・化学的変性をひきおこす処理によるもの（化学吸着Ｃ０７Ｃ３７／８２）［３］ |
・・化学的変性をひきおこす処理によるもの（化学吸着３７／８２）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 39/10 |
・・ポリヒドロキシベンゼン；それらのアルキル誘導体（Ｃ０７Ｃ３９／０８が優先） |
・・ポリヒドロキシベンゼン；それらのアルキル誘導体（３９／０８が優先） |
2013年11月 |
| C07C 41/44 |
・・・化学的変性をひきおこす処理によるもの（化学吸着によるものＣ０７Ｃ４１／３６）［３］ |
・・・化学的変性をひきおこす処理によるもの（化学吸着によるもの４１／３６）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 43/13 |
・・・・水酸基またはＯ―金属基を含有するもの（Ｃ０７Ｃ４３／１１が優先）［３］ |
・・・・水酸基またはＯ―金属基を含有するもの（４３／１１が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 45/56 |
・複素環式化合物からのもの（Ｃ０７Ｃ４５／５５が優先）［３］ |
・複素環式化合物からのもの（４５／５５が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 45/59 |
・・・５員環の（オゾナイドからのものＣ０７Ｃ４５／４０）［３］ |
・・・５員環の（オゾナイドからのもの４５／４０）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 49/76 |
・６員芳香環に結合しているケト基を含有するケトン（縮合環系の環部分を構成し，６員芳香環に結合しているケト基をもつ化合物Ｃ０７Ｃ４９／６５７～Ｃ０７Ｃ４９／７５７） |
・６員芳香環に結合しているケト基を含有するケトン（縮合環系の環部分を構成し，６員芳香環に結合しているケト基をもつ化合物４９／６５７～４９／７５７） |
2013年11月 |
| C07C 51/09 |
・カルボン酸エステルまたはラクトンから（カルボン酸エステルのけん化Ｃ０７Ｃ２７／０２） |
・カルボン酸エステルまたはラクトンから（カルボン酸エステルのけん化２７／０２） |
2013年11月 |
| C07C 51/16 |
・酸化によるもの（Ｃ０７Ｃ５１／１４５が優先）［３］ |
・酸化によるもの（５１／１４５が優先）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 51/487 |
・・化学的変化をひきおこす処理によるもの（化学吸着によるものＣ０７Ｃ５１／４７）［３］ |
・・化学的変化をひきおこす処理によるもの（化学吸着によるもの５１／４７）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 51/54 |
・カルボン酸無水物の製造（酸化によるものＣ０７Ｃ５１／１６） |
・カルボン酸無水物の製造（酸化によるもの５１／１６） |
2013年11月 |
| C07C 53/12 |
・無水酢酸（ケテンＣ０７Ｃ４９／９０） |
・無水酢酸（ケテン４９／９０） |
2013年11月 |
| C07C 67/333 |
・・異性化によるもの；炭素骨格の大きさを変化させることによるもの（カルボキシル基の導入または脱離によるものＣ０７Ｃ６７／３１３，Ｃ０７Ｃ６７／３２）［３］ |
・・異性化によるもの；炭素骨格の大きさを変化させることによるもの（カルボキシル基の導入または脱離によるもの６７／３１３，６７／３２）［３］ |
2013年11月 |
| C07C 67/36 |
・一酸化炭素またはホルメートとの反応によるもの（Ｃ０７Ｃ６７／０２，Ｃ０７Ｃ６７／０３，Ｃ０７Ｃ６７／１０が優先）［２］ |
・一酸化炭素またはホルメートとの反応によるもの（６７／０２，６７／０３，６７／１０が優先）［２］ |
2013年11月 |
| C07C 67/60 |
・・化学的変化をひきおこす処理によるもの（化学吸着Ｃ０７Ｃ６７／５６）［３］ |
・・化学的変化をひきおこす処理によるもの（化学吸着６７／５６）［３］ |
2013年11月 |
| C07C209/52 |
・・イミンまたはイミノ―エーテルの還元によるもの（Ｃ０７Ｃ２０９／２４優先）［５］ |
・・イミンまたはイミノ―エーテルの還元によるもの（２０９／２４優先）［５］ |
2013年11月 |
| C07C209/62 |
・炭素―窒素結合，硫黄―窒素結合またはリン―窒素結合の開裂によるもの，例．アミドの加水分解，アミンまたは４級アンモニウム化合物のＮ―脱アルキル化（Ｃ０７Ｃ２０９／２４優先）［５］ |
・炭素―窒素結合，硫黄―窒素結合またはリン―窒素結合の開裂によるもの，例．アミドの加水分解，アミンまたは４級アンモニウム化合物のＮ―脱アルキル化（２０９／２４優先）［５］ |
2013年11月 |
| C07C227/38 |
・分離；精製；安定化；添加剤の使用（光学異性体の分離Ｃ０７Ｃ２２７／３４）［５］ |
・分離；精製；安定化；添加剤の使用（光学異性体の分離２２７／３４）［５］ |
2013年11月 |
| C07C231/10 |
・Ｃ０７Ｃ２３１／０２～Ｃ０７Ｃ２３１／０８に含まれない化合物からの製造［５］ |
・２３１／０２から２３１／０８に含まれない化合物からの製造［５］ |
2013年11月 |
| C07C231/22 |
・分離；精製；安定化；添加剤の使用（光学異性体の分離Ｃ０７Ｃ２３１／２０）［５］ |
・分離；精製；安定化；添加剤の使用（光学異性体の分離２３１／２０）［５］ |
2013年11月 |
| C07C245/00 |
少なくとも１個の窒素―窒素多重結合をもつ窒素原子鎖を含有する化合物（アゾキシ化合物Ｃ０７Ｃ２９１／０８）［５］ |
少なくとも１個の窒素―窒素多重結合をもつ窒素原子鎖を含有する化合物（アゾキシ化合物２９１／０８）［５］ |
2013年11月 |
| C07C249/00 |
炭素骨格に二重結合で結合している窒素原子を含有する化合物の製造（ジアゾ化合物の製造Ｃ０７Ｃ２４５／１２）［５］ |
炭素骨格に二重結合で結合している窒素原子を含有する化合物の製造（ジアゾ化合物の製造２４５／１２）［５］ |
2013年11月 |
| C07C251/00 |
炭素骨格に二重結合で結合している窒素原子を含有する化合物（ジアゾ化合物Ｃ０７Ｃ２４５／１２）［５］ |
炭素骨格に二重結合で結合している窒素原子を含有する化合物（ジアゾ化合物２４５／１２）［５］ |
2013年11月 |
| C07C263/12 |
・カルボン酸の含窒素誘導体，例．ヒドロキサム酸，からのものまたはそれを経由するもの，ホフマン，クルチウスまたはロッセン型転位反応を含む（Ｃ０７Ｃ２０９／５６が優先）［５］ |
・カルボン酸の含窒素誘導体，例．ヒドロキサム酸，からのものまたはそれを経由するもの，ホフマン，クルチウスまたはロッセン型転位反応を含む，（２０９／５６が優先）［５］ |
2013年11月 |
| C07C281/00 |
その官能基の少なくとも１個の窒素原子がさらにニトロまたはニトロソ基の一部ではない窒素原子に結合しているグループＣ０７Ｃ２６９／００～Ｃ０７Ｃ２７９／００までに属する官能基を含有する炭酸誘導体［５］ |
その官能基の少なくとも１個の窒素原子がさらにニトロまたはニトロソ基の一部ではない窒素原子に結合しているグループ２６９／００から２７９／００までに属する官能基を含有する炭酸誘導体［５］ |
2013年11月 |
| C07C291/00 |
炭素と窒素を含有し，グループＣ０７Ｃ２０１／００～Ｃ０７Ｃ２８１／００に包含されない官能基をもつ化合物［５］ |
炭素と窒素を含有し，グループ２０１／００から２８１／００に包含されない官能基をもつ化合物［５］ |
2013年11月 |
| C07C337/00 |
その官能基の少なくとも１個の窒素原子がさらにニトロまたはニトロソ基の一部ではない他の窒素原子に結合しているグループＣ０７Ｃ３３３／００またはＣ０７Ｃ３３５／００に包含される官能基を含有するチオ炭酸誘導体［５］ |
その官能基の少なくとも１個の窒素原子がさらにニトロまたはニトロソ基の一部ではない他の窒素原子に結合しているグループ３３３／００または３３５／００に包含される官能基を含有するチオ炭酸誘導体［５］ |
2013年11月 |
| C07C381/00 |
炭素および硫黄を含有し，Ｃ０７Ｃ３０１／００～Ｃ０７Ｃ３３７／００のグループに包含されない官能基をもつ化合物［５］ |
炭素および硫黄を含有し，３０１／００から３３７／００のグループに包含されない官能基をもつ化合物［５］ |
2013年11月 |