FIメイングループ/ファセット選択

  • C10H1/00
  • 滴下式,重力式,非自動式の給水器をもつアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H3/00
  • ガス容器とは無関係の方法で自動的な給水調節装置をもつアチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H5/00
  • ガス容器による自動的な給水調節装置をもつアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H7/00
  • キップの原理による給水器をもつアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H9/00
  • ドベライナーの原理による固定炭化カルシウムかごをもつアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H11/00
  • 炭化カルシウムを水中に浸すことによるアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H13/00
  • 浸液および滴下装置を結合したアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H15/00
  • 炭化カルシウム供給器をもちガス圧により調節されるかまたは調節されない方式のアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H17/00
  • 高圧アセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H19/00
  • 他のアセチレンガス発生器 HB CC 4H100
  • C10H21/00
  • アセチレン発生器の細部;アセチレンの湿式製造法のための付属設備または湿式製造法の特徴 HB CC 4H100
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