| G03F1/00 | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿，例．マスク，フォトマスク又はレチクル；そのためのマスクブランク又はペリクル；特にそれに適合した容器；その準備［３，２０１２．０１］ |
| このメイングループでは，ファーストプレイス優先ルールが適用される，すなわち各階層レベルにおいて，相反する指示がない限り，最初の適切な箇所に分類する。［２０１２．０１］ |
この画面は、G03F1/00の説明文、注記/索引を表示しています。
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| このメイングループでは，ファーストプレイス優先ルールが適用される，すなわち各階層レベルにおいて，相反する指示がない限り，最初の適切な箇所に分類する。［２０１２．０１］ |