FI(一覧表示)

C01B21/00	窒素；その化合物	HB	CC	4G043

C01B21/02	・窒素の製造（アンモニアの分解による　Ｃ０１Ｂ３／０４）	HB	CC	4G043

C01B21/02@A	窒素と水素との化合物からのもの〔水素混合ガスの製造→３／０４；廃ガス中の窒素酸化物のアンモニアによる還元によるもの→Ｂ０１Ｄ５３／３４，３６〕	HB	CC	4G043

C01B21/02@Z	その他のもの〔廃ガス中の窒素化合物からのもの→Ｂ０１Ｄ５３／３４，３６〕	HB	CC	4G043

C01B21/04	・窒素の精製または分離（液化によるものＦ２５Ｊ）	HB	CC	4G043

C01B21/04@B	吸着によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/04@D	・主に窒素と酸素とからなる混合物，例．空気，から酸素を吸着し除去するもの	HB	CC	4G043

C01B21/04@G	・主に窒素と酸素とからなる混合物，例．空気，から窒素を吸着し回収するもの	HB	CC	4G043

C01B21/04@K	・・窒素吸着剤	HB	CC	4G043

C01B21/04@M	拡散によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/04@N	・主に窒素と酸素とからなる混合物，例．空気，から酸素を拡散し除去するもの	HB	CC	4G043

C01B21/04@Q	磁気によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/04@R	不純物を反応させ除去するもの〔吸着→Ｂ～Ｋ〕	HB	CC	4G043

C01B21/04@S	・水素または炭素を含む物質と反応させるもの〔液相中→Ｗ〕	HB	CC	4G043

C01B21/04@T	・・水素と反応させるもの	HB	CC	4G043

C01B21/04@V	・金属と反応させるもの〔←メルト金属中〕	HB	CC	4G043

C01B21/04@W	・液相中で反応させるもの〔メルト金属中→Ｖ〕	HB	CC	4G043

C01B21/04@Z	その他のもの〔空気からの不活性ガスの製造方法→Ｂ０１Ｊ１９／１４，同製造装置→Ｂ０１Ｊ７／００〕	HB	CC	4G043

C01B21/06	・窒素と金属，けい素またはほう素とからなる二元化合物	HB	CC	4G043

C01B21/06@A	窒素と特定金属との二元化合物〔Ｂ，Ｄ，Ｆ，２１／０６４，２１／０６８，２１／０７２または２１／０７６にまたがる製造方法→Ｍ～Ｚ〕	HB	CC	4G043

C01B21/06@B	・窒素とアルカリ金属との二元化合物	HB	CC	4G043

C01B21/06@D	・窒素と鉄族との二元化合物	HB	CC	4G043

C01B21/06@F	・窒素とアクチニドとの二元化合物	HB	CC	4G043

C01B21/06@M	窒素と金属，けい素またはほう素とからなる二元化合物の一般的製造方法	HB	CC	4G043

C01B21/06@N	・金属，けい素またはほう素元素からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/06@R	・金属，けい素またはほう素と酸素との結合を含む化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/06@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/064	・・ほう素との化合物［３］	HB	CC	4G043

C01B21/064@B	製造	HB	CC	4G043

C01B21/064@D	・ほう素元素からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/064@G	・ほう素と酸素との結合を含む化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/064@H	・・反応系に含窒素有機化合物を添加するもの	HB	CC	4G043

C01B21/064@J	・ほう素の水素，ハロゲンもしくはアルキル化合物またはほう素と窒素との結合を含む化合物，例．ボラゾ－ル，ボラジン，からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/064@M	処理〔超高圧を用いる相転移→Ｂ０１Ｊ３／０６〕	HB	CC	4G043

C01B21/064@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/068	・・けい素との化合物［３］	HB	CC	4G043

C01B21/068@C	製造	HB	CC	4G043

C01B21/068@D	・けい素元素からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@E	・・反応系に金属成分を添加するもの〔運動状態で反応させるもの→Ｆ〕	HB	CC	4G043

C01B21/068@F	・・運動状態，例．移動状態，で反応させるもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@G	・けい素と酸素との結合を含む化合物からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@W	・・けい素と酸素との結合を含む化合物〔例．アルコキシド〕と炭素源物質とを混合し窒化するもの〔運動状態で反応させるもの→Ｋ〕	HB	CC	4G043

C01B21/068@H	・・・シリカ粉と炭素質粉とを混合し窒化するもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@J	・・・・反応系に金属成分を添加するもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@K	・・運動状態，例．移動状態，で反応させるもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@M	・けい素の水素，ハロゲンもしくはアルキル化合物または該化合物の窒化生成物，シリコンイミド，シリコンジイミドからのもの〔けい素元素を経るもの→Ｄ；けい素と酸素との結合を含む化合物を経るもの→Ｇ；ポリシラザンを経るもの→Ｑ〕	HB	CC	4G043

C01B21/068@N	・・電気もしくは波動エネルギ－の直接適用または粒子線放射を用いるもの〔膜状物の製造→Ｙ〕	HB	CC	4G043

C01B21/068@Y	・・膜状物の製造	HB	CC	4G043

C01B21/068@P	・・窒化生成物またはシリコンイミド，シリコンジイミドからのもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@Q	・ポリシラザンからのもの	HB	CC	4G043

C01B21/068@R	処理〔Ｐが優先〕	HB	CC	4G043

C01B21/068@S	・エツチング	HB	CC	4G043

C01B21/068@T	・精製；分離	HB	CC	4G043

C01B21/068@U	・添加剤による表面の改質	HB	CC	4G043

C01B21/068@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/072	・・アルミニウムとの化合物［３］	HB	CC	4G043

C01B21/072@A	製造	HB	CC	4G043

C01B21/072@B	・金属アルミニウムからのもの	HB	CC	4G043

C01B21/072@F	・・運動状態〔ガス状も含む〕で反応させるもの	HB	CC	4G043

C01B21/072@G	・アルミニウムと酸素との結合を含む化合物〔←アルコキシド〕，または反応時該化合物となるアルミニウム化合物，例．硝酸アルミニウム，からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/072@J	・・反応系に金属〔除，アルミニウム〕またはけい素成分を添加するもの	HB	CC	4G043

C01B21/072@M	・アルミニウムの水素，ハロゲンもしくはアルキル化合物または該化合物の窒化生成物からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/072@R	処理	HB	CC	4G043

C01B21/072@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/076	・・チタンまたはジルコニウムとの化合物［３］	HB	CC	4G043

C01B21/076@B	金属チタンまたは金属ジルコニウムからのもの	HB	CC	4G043

C01B21/076@G	チタンまたはジルコニウムと酸素の結合を含む化合物〔←アルコキシド〕からのもの	HB	CC	4G043

C01B21/076@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/08	・アジ化水素；アジド；ハロゲン化アジド	HB	CC	4G043

C01B21/082	・窒素と非金属とを含む化合物（Ｃ０１Ｂ２１／０６，Ｃ０１Ｂ２１／０８が優先）［３］	HB	CC	4G043

C01B21/082@C	１またはその以上のけい素原子を含むもの〔２１／０８３～０９６に優先する〕〔←無機シラザン，窒化けい素鉄〕	HB	CC	4G043

C01B21/082@D	・１またはそれ以上の酸素原子をさらに含むもの〔←酸窒化けい素〕	HB	CC	4G043

C01B21/082@E	・・１またはそれ以上のアルミニウム原子をさらに含むもの	HB	CC	4G043

C01B21/082@F	・・・けい素元素からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/082@G	・・・けい素と酸素との結合を含む化合物からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/082@J	・・・けい素と窒素との結合を含む化合物からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/082@K	１またはそれ以上の炭素原子を含むもの〔２１／０８３～０９６に優先する〕	HB	CC	4G043

C01B21/082@L	・１またはそれ以上のけい素原子をさらに含むもの	HB	CC	4G043

C01B21/082@Z	その他のもの〔酸窒化金属は金属に従い分類する〕	HB	CC	4G043

C01B21/083	・・１またはそれ以上のハロゲン原子を含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B21/084	・・・１またはそれ以上の酸素原子をさらに含むもの，例．ハロゲン化ニトロシル［３］	HB	CC	4G043

C01B21/086	・・１またはそれ以上のいおう原子を含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B21/087	・・１またはそれ以上の水素原子を含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B21/088	・・・１またはそれ以上のハロゲン原子をさらに含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B21/09	・・・・ハロゲノアミン，例．クロラミン［３］	HB	CC	4G043

C01B21/092	・・・１またはそれ以上の金属原子をさらに含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B21/093	・・・１またはそれ以上のいおう原子をさらに含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B21/093@A	窒素酸化物からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/093@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/094	・・・・酸基を含むニトロシル［３］	HB	CC	4G043

C01B21/096	・・・・アミド硫酸；その塩［３］	HB	CC	4G043

C01B21/096@A	窒素酸化物からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/096@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/097	・・りん原子を含むもの［３］	HB	CC	4G043

C01B21/098	・・・窒化二ハロゲン化りん；その重合体［３］	HB	CC	4G043

C01B21/098@M	窒化二ハロゲン化リンの重合体〔オリゴマ－→Ｚ〕	HB	CC	4G043

C01B21/098@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/12	・・カルバミン酸；その塩	HB	CC	4G043

C01B21/14	・・ヒドロキシルアミン；その塩	HB	CC	4G043

C01B21/14@B	窒素と酸素を含む無機化合物の接触的還元による製造	HB	CC	4G043

C01B21/14@E	窒素を含む有機化合物からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/14@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/16	・・ヒドラジン；その塩	HB	CC	4G043

C01B21/16@B	ヒドラジン・カルボニル化合物，例．ヒドラゾン〔ＲＲ′Ｃ＝ＮＮＨ↓２〕，イソヒドラゾンまたはアジン〔ＲＲ′Ｃ＝ＮＮ＝ＣＲＲ′〕，を経るもの	HB	CC	4G043

C01B21/16@G	電気または波動エネルギ－の直接適用または粒子線放射によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/16@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/20	・窒素酸化物；窒素のオキシ酸；その塩	HB	CC	4G043

C01B21/22	・・亜酸化窒素（Ｎ↓２Ｏ）	HB	CC	4G043

C01B21/24	・・酸化窒素（ＮＯ）	HB	CC	4G043

C01B21/24@A	他の窒素酸化物からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/24@E	窒素の酸素酸またはその塩からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/24@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/26	・・・アンモニアの接触的酸化による製造	HB	CC	4G043

C01B21/26@B	使用触媒を特徴とするもの	HB	CC	4G043

C01B21/26@E	・貴金属を含む触媒	HB	CC	4G043

C01B21/26@H	触媒の劣化または損失の防止；損失触媒の回収	HB	CC	4G043

C01B21/26@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/28	・・・・装置	HB	CC	4G043

C01B21/30	・・・窒素の酸化による製造	HB	CC	4G043

C01B21/32	・・・・装置	HB	CC	4G043

C01B21/34	・・三二酸化窒素（Ｎ↓２Ｏ↓３）	HB	CC	4G043

C01B21/36	・・二酸化窒素（ＮＯ↓２，Ｎ↓２Ｏ↓４）（Ｃ０１Ｂ２１／２６，Ｃ０１Ｂ２１／３０が優先）	HB	CC	4G043

C01B21/36@A	他の窒素酸化物からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/36@C	・酸素酸化によるもの〔オゾンも用いるもの→Ｅ；電気もしくは波動エネルギ－の直接適用または粒子線放射を用いるもの→Ｇ〕	HB	CC	4G043

C01B21/36@D	・・触媒を用いるもの	HB	CC	4G043

C01B21/36@E	・オゾン酸化によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/36@F	・ハロゲンまたはハロゲン化合物による酸化によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/36@G	・電気もしくは波動エネルギ－の直接適用または粒子線放射を用いるもの	HB	CC	4G043

C01B21/36@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/38	・・硝酸	HB	CC	4G043

C01B21/40	・・・窒素酸化物の吸収による製造	HB	CC	4G043

C01B21/40@B	吸収系にＨ↓２Ｏ，ＮＯｘ，ＨＮＯ↓３を除く物質を存在させるもの	HB	CC	4G043

C01B21/40@E	アンモニアの接触的酸化工程と結合するもの	HB	CC	4G043

C01B21/40@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/42	・・・硝酸塩からの製造	HB	CC	4G043

C01B21/44	・・・濃縮	HB	CC	4G043

C01B21/46	・・・精製；分離	HB	CC	4G043

C01B21/46@A	温度，圧力または濃度の調整；撹拌；蒸留；脱気によるもの〔Ｈ↓２Ｏ，ＮＯｘ，ＨＮＯ↓３または不活性ガス以外の物質の添加によるもの→Ｓ，Ｚ〕	HB	CC	4G043

C01B21/46@E	電解；透析；電気透析；逆浸透によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/46@S	液体抽出剤によるもの	HB	CC	4G043

C01B21/46@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

C01B21/48	・・硝酸塩の一般的製造方法（特に個々の硝酸塩は陽イオンにしたがいＣ０１Ｂ～Ｃ０１Ｇ中の該当するグループ参照）	HB	CC	4G043

C01B21/50	・・亜硝酸；その塩	HB	CC	4G043

C01B21/50@A	亜硝酸アンモニウム	HB	CC	4G043

C01B21/50@B	・窒素酸化物の吸収による製造	HB	CC	4G043

C01B21/50@E	アルカリ金属亜硝酸塩	HB	CC	4G043

C01B21/50@F	・窒素酸化物の吸収による製造	HB	CC	4G043

C01B21/50@J	マグネシウム，カルシウム，ストロンチウムまたはバリウムの亜硝酸塩	HB	CC	4G043

C01B21/50@K	・窒素酸化物の吸収による製造	HB	CC	4G043

C01B21/50@Z	その他のもの	HB	CC	4G043

このページは、メイングループC01B21/00内の「FI」を全て表示しています。	HB:ハンドブック
	CC:コンコーダンス